光応答性の分散剤を含有する分散剤含有炭素材料膜、該分散剤含有炭素材料膜を用いた炭素材料膜の製造方法
    3.
    发明专利
    光応答性の分散剤を含有する分散剤含有炭素材料膜、該分散剤含有炭素材料膜を用いた炭素材料膜の製造方法 有权
    分散剂包含含有用含有分散剂的碳材料膜的制造碳材料膜的光响应性分散剂的方法碳材料膜

    公开(公告)号:JPWO2015016156A1

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:JP2015529554

    申请日:2014-07-25

    摘要: 分散剤を全く含有しないか、含有してもその含有量が極めて少ないCNT等の炭素材料膜を容易に形成することのできる分散剤含有炭素材料膜、及び、該分散剤含有炭素材料膜を用いたパターン化炭素材料膜等の炭素材料膜の製造方法を提供することを課題とするものであり、その分散剤含有炭素材料膜は、光応答性を有し、下記一般式(I)で表されるスチルベン系又はアゾベンゼン系分散剤を含有することを特徴とする。【化1】[式中、R1〜R6は、それぞれ独立して水素又は炭素数1〜5の直鎖状若しくは炭素数3〜6の分岐状アルキル基である。Aは炭素原子又は窒素原子である。Xはアニオンである。nはnXが−2価となる数である。]【選択図】図1

    摘要翻译: 使用或不分散剂完全免费的,非常小的CNT等其内容被包含的碳材料膜碳材料膜含有分散剂的可容易地形成,而且,一个含有分散剂的碳材料膜 意图是一个目的是提供一种制造如已被图形化的碳材料层的碳材料膜的方法,含碳材料膜中的分散剂具有下述通式(I)的光敏表 其特征在于它包含一个或茋偶氮苯分散剂是。 ## STR1 ##其中,R1-R6各自独立地为氢或直链或具有1至5个碳原子的3至6个碳原子的支链烷基。 A是碳原子或氮原子。 X是阴离子。 n是一个数nx为-2价。 ] .The 1