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    Imaging energy filter for a charged particle and spectrometer with this
    2.
    发明专利
    Imaging energy filter for a charged particle and spectrometer with this 有权

    公开(公告)号：JP2013506238A

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：JP2012530203

    申请日：2010-08-31

    Applicant: フンネマン,ディートマル

    Inventor： フンネマン，ディートマル

    IPC: H01J37/05 ,  H01J37/252 ,  H01J37/29

    CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/252 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/0535 ,  H01J2237/24485

    Abstract: 本発明は、入射面と出射面とを有するトロイダルエネルギアナライザ、好ましくは半球アナライザを有する荷電粒子用結像エネルギフィルタに関する。 位置及び角度の解像度レベルがより高く、より大きい受光角で動作可能な結像エネルギフィルタ、又は結像エネルギフィルタを有する分光器を提供するために、本発明によれば、荷電粒子用のミラー素子が設けられ、前記出射面を経て前記トロイダルエネルギアナライザから出射する荷電粒子が前記ミラー素子によって前記トロイダルエネルギアナライザへと反射されることによって、前記荷電粒子が反対の進行方向に前記トロイダルエネルギアナライザを再度通過するように構成されることを特徴とする。
    【選択図】図４

    Wien e×b mass filter of aberration correction for removing neutral material from beam
    3.
    发明专利
    Wien e×b mass filter of aberration correction for removing neutral material from beam 有权
    WIEN E×B质量过滤器从光束中去除中性材料

    公开(公告)号：JP2012227141A

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：JP2012088772

    申请日：2012-04-09

    Applicant: Fei Co ,  エフ イー アイ カンパニFei Company

    Inventor： DAVID TUGGLE ,  N WILLIAM PARKER ,  MARK W UTLAUT

    IPC: H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/317

    CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/31749

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mass filter for focus ion beam device which selects a desired ion species from a plurality of ion sources with no color aberration.SOLUTION: Multiple ions 110 generated from an ion source 114 pass through an upper lens 106 to form a substantially parallel beam 310 which impinges on a mass filter 304. The mass filter 304 consists of an upper EXB filter 306U and a lower EXB filter 306L having central axes offset from each other, and the beam 310 is separated and deflected for each mass before exiting as a trajectory parallel with the optical axis 380. Color aberration generated from the upper EXB filter 306U is canceled by the lower EXB filter 306L. Thereafter, only the desired ions 332 are passed by a mass separation aperture 342, and focused on a substrate 112 by means of a lower lens 108.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于聚焦离子束装置的质量过滤器，其从不具有色差的多个离子源中选择期望的离子种类。 解决方案：从离子源114产生的多个离子110通过上部透镜106以形成撞击质量过滤器304的基本上平行的束310.质量过滤器304由上部EXB过滤器306U和较低的EXB 过滤器306L具有彼此偏离的中心轴，并且梁310在作为与光轴380平行的轨迹退出之前被分离和偏转。来自上部EXB滤波器306U的色差由下部EXB滤波器306L消除 。 此后，只有期望的离子332通过质量分离孔342通过，并通过下透镜108聚焦在基底112上。（C）2013，JPO和INPIT

    阻止電位型エネルギー分析器
    4.
    发明专利
    阻止電位型エネルギー分析器 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017126089A1

    公开(公告)日：2018-11-08

    申请号：JP2016051742

    申请日：2016-01-21

    Applicant: 公益財団法人高輝度光科学研究センター

    Inventor： 室 隆桂之 ,  松下 智裕

    IPC: H01J37/252 ,  G01T1/29 ,  G01T1/36 ,  H01J37/05

    CPC classification number: H01J49/488 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J49/022 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/24485

    Abstract: 前段グリッド電極(21)、基準グリッド電極(22)、及び後段グリッド電極(23)を順に並べて配置し、基準グリッド電極(22)と前段グリッド電極(21)との間に所定の大きさの電位差を与えて上りの電位勾配を形成するとともに、基準グリッド電極(22)と後段グリッド電極(23)との間に電位差を与えて下りの電位勾配を形成する阻止電位型エネルギー分析器において、基準グリッド電極(22)と前段グリッド電極(21)の間の距離よりも基準グリッド電極(22)と後段グリッド電極(23)の間の距離が短くなるようにグリッド電極を配置する。あるいは、基準グリッド電極(22)と前段グリッド電極(21)の間の電位差よりも基準グリッド電極(22)と後段グリッド電極(23)の間の電位差を大きくする。

    Charged particle source with integrated electrostatic energy filter
    6.
    发明专利
    Charged particle source with integrated electrostatic energy filter 有权
    具有集成静电能量过滤器的充电颗粒源

    公开(公告)号：JP2012104483A

    公开(公告)日：2012-05-31

    申请号：JP2011244456

    申请日：2011-11-08

    Applicant: Fei Co ,  エフ イー アイ カンパニFei Company

    Inventor： ALEXANDER HENSTRA

    IPC: H01J37/05 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/153

    CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/31713

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle filter with an integrated energy filter.SOLUTION: Where most filters used have a highly curved optical axis and thus use parts with forms that are difficult to manufacture, a charged particle source according to the invention uses electrodes surrounding a straight optical axis. Surprisingly the inventor found that it is well possible to deflect a beam of charged particles 106a quite far from an optical axis 104 showing respectable energy dispersion at an energy selecting slit 108 without introducing coma or astigmatism that cannot be corrected, provided that some of the electrodes (114, 116, 120, 122) are formed as 120°/60°/120°/60°. Such electrodes can be attached to each other by gluing or brazing of ceramic. A series of highly concentric bores can be formed by e.g. spark erosion.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供具有集成能量过滤器的带电粒子滤波器。 使用的大多数过滤器具有高度曲线的光轴，因此使用具有难以制造的形式的部件，根据本发明的带电粒子源使用围绕直线光轴的电极。 令人惊奇的是，发明人发现很有可能使带电粒子束106a偏离远离光轴104的光束104，从而在能量选择狭缝108处表现出可观的能量分散，而不引入不能校正的昏迷或散光，只要一些电极 （114,116,120,122）形成为120°/ 60°/ 120°/ 60°。 这样的电极可以通过陶瓷的胶合或钎焊彼此附接。 一系列高度同心的孔可以通过例如， 火花侵蚀 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

    Device and method for forming electron beam dark field image
    7.
    发明专利
    Device and method for forming electron beam dark field image 有权
    用于形成电子束暗场图像的装置和方法

    公开(公告)号：JP2006080061A

    公开(公告)日：2006-03-23

    申请号：JP2005238374

    申请日：2005-08-19

    Applicant: Kla-Tencor Technologies Corp ,  ケイエルエイ−テンコー テクノロジーズ,コーポレイション

    Inventor： MASNAGHETTI DOUGLAS K ,  MUNRO ERIC ,  TOTH GABOR D ,  KEISTER JEFFREY

    IPC: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/244

    CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/2446 ,  H01J2237/24485

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dark field detection system of a scanning electron microscope (SEM) having a polar angle identification function of scattered electrons.
    SOLUTION: This is to disclose a position embodiment relating to an electron beam scanning device which includes an objective lens, a scanning deflector, an anti-scanning deflector, an energy-filter drift tube, and a detector split in region. For the objective lens, an immersion lens having a high abstraction field is used, and identification of azimuth of the electrons scattered on the surface of the sample is made possible. The anti-scanning deflector is used for correction of scanning of the incident electron beams. The energy-filter drift tube is constructed so as to match the scattered electrons according to the polar angle of the orbit from the surface of the sample.
    COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题：提供具有散射电子的极角识别功能的扫描电子显微镜（SEM）的暗场检测系统。 解决方案：这是为了公开一种涉及电子束扫描装置的位置实施例，其包括物镜，扫描偏转器，防扫描偏转器，能量滤波器漂移管和分割在区域中的检测器。 对于物镜，使用具有高抽象场的浸没透镜，并且可以识别散射在样品表面上的电子的方位角。 反扫描偏转器用于校正入射电子束的扫描。 能量滤波器漂移管被构造成根据与样品表面的轨道的极角相匹配的散射电子。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

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