-
公开(公告)号:JP2017510316A
公开(公告)日:2017-04-13
申请号:JP2016547579
申请日:2015-01-22
CPC分类号: A61B18/042 , A61B2018/00744 , A61B2018/00863 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/20 , H05H2245/122
摘要: 本発明は人体にプラズマを適用するためのプラズマ生成装置に関し、装置は、ガスを含むタンク、タンクと流体接続するプラズマゾーン、及びプラズマゾーンでの放電によりプラズマを生成するための手段を含み、ガスは92%〜99.9%のアルゴン及び0.1%〜8%のクリプトンを含む、又はガスは95%〜99.5%のアルゴン及び0.5%〜5%の水素を含む、又はガスは92%〜99.5%のアルゴン及び0.5%〜8%の亜酸化窒素を含む。【選択図】図4
-
公开(公告)号:JP2017503595A
公开(公告)日:2017-02-02
申请号:JP2016547546
申请日:2015-01-22
CPC分类号: A61B18/042 , A61B2018/00744 , A61B2018/00863 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/20 , H05H2245/122
摘要: 本発明は人体にプラズマを印加するためのプラズマ生成装置に関し、装置は、気体を含む容器、容器と流体接続するプラズマゾーン、及びプラズマゾーンで放電によりプラズマを生成するための手段を含み、気体は92%〜99.5%のヘリウム、及び0.5%〜8%のアルゴンを含む、又は気体は95%〜99.5%のヘリウム及び1%〜20%のネオンを含む、又は気体は99.95%〜99.99%のヘリウム及び0.01%〜0.05%の酸素を含む。【選択図】図4
摘要翻译: 涉及本发明的用于施加等离子体对人体的等离子体生成装置,该装置包括含有气体,容器和流体地连接到所述等离子体区域中的容器的装置,以及用于在等离子体区域中通过放电产生等离子体,该气体 92%至99.5%的氦,和含有0.5%至8%的氩,或含气95%至99.5%的氦和氖的1%至20%,或气体99.95%99.99%的氦 和0.01%至0.05%的氧。 点域4
-
公开(公告)号:JP5999778B2
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:JP2013535388
申请日:2011-10-24
发明人: ノイゲバウアー,アレクサンダー , フィッシャー,クラウス , エンデルレ,マルクス デー.
CPC分类号: A61B18/08 , A61B18/042 , A61B5/4836 , A61M5/00 , H05H1/2406 , A61B18/1477 , A61B2018/00559 , A61B2018/00589 , A61B2018/0063 , A61B2018/00994 , A61B2018/1425 , A61B2018/147 , H05H2245/122
-
公开(公告)号:JP5316539B2
公开(公告)日:2013-10-16
申请号:JP2010523755
申请日:2009-08-04
IPC分类号: A61N1/00
CPC分类号: A61N1/44 , A61N1/40 , H01J37/04 , H01J37/32348 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2245/122
摘要: A DC power supply 1 is connected with the DC-type high voltage generator 2 that boosts the power supply. A negative output terminal 3 and a positive output terminal 6 of the generator 2 are respectively connected to a cathode electrode 5 and an anode electrode 7. A dielectric sheet 4 with appropriate relative permittivity and certain range of volume resistivity is closely attached on the cathode electrode surface opposed to the anode electrode. The cathode electrode 5 together with the dielectric sheet 4 constitutes a DC-type dielectric barrier electrode 9. The power supply 1 and the generator 2 are disposed on an upper surface of a belt-type attachment 15, and the discharge electrode 9 and the anode electrode 7 are disposed on the lower surface thereof. The electrodes 9 and 7 become opposed to each other upon wrapping the attachment 15 around the affected part of a subject.
-
公开(公告)号:JP2012503508A
公开(公告)日:2012-02-09
申请号:JP2011528227
申请日:2009-09-21
发明人: イスバリー,ゲオルク , シュテフェス,ベルント , シュトルツ,ヴィルヘルム , シュミット,ハンス・ウルリッヒ , ノゼンコ,テティアナ , ポンプル,ルネ , モルフィル,グレゴア , 鉄司 清水
CPC分类号: A61L2/14 , A61L2/0011 , A61M1/0084 , A61M1/0088 , A61M13/003 , A61M35/00 , A61M2205/05 , A61M2205/3344 , A61M2205/3368 , A61M2205/362 , A61N1/44 , A61N5/0621 , A61N5/0624 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2001/466 , H05H2240/20 , H05H2245/122
摘要: The invention relates to a plasma applicator (1) for applying a non-thermal plasma to a surface (2), particularly for the plasma treatment of living tissue and especially for the plasma treatment of wounds (2), comprising a sealing cover (4) for covering a portion of the surface thereby enclosing a cavity between the sealing cover (4) and the surface (2), wherein the non-thermal plasma is provided in the cavity so that the non-thermal plasma contacts the surface (2). Further, the invention relates to a corresponding method.
-
公开(公告)号:JP2011501861A
公开(公告)日:2011-01-13
申请号:JP2010529386
申请日:2008-10-16
发明人: カスフ アーメッド , ロベール エリック , カションサンユ クリストフ , プヴェスル ジャン−ミシェル , ドジアス セバスチアン , ヴィラドロサ レイモン
CPC分类号: H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2245/122
摘要: 【課題】本発明は、非常に短いパルス状の放電で非常に長い(数メートルまでの)距離に亘ってプラズマボール及びプルームを生成する新しい装置に関する。
【解決手段】これらのプラズマボールは、誘電体ガイド内を伝わり、誘電体ガイドの端部には、はっきりとしたプラズマプルーム状ゾーン(その形状及び輝度は、放電繰り返し率に依存している)が生成され、二次混合プラズマは、主要ガス流に他のガス流束を加えることにより任意の表面の付近に生成され得る。 プラズマボールは、単発から数キロヘルツの範囲内の繰り返し率でガス中に生成され得る。
【選択図】図1-
公开(公告)号:JP2008539007A
公开(公告)日:2008-11-13
申请号:JP2008508976
申请日:2006-04-25
申请人: ドレクセル ユニバーシティ
发明人: ガトソル、アレキサンダー , バラスブラマニアン、マンジュラ , フリッドマン、アレキサンダー , フリッドマン、グレゴリー , フリッドマン、ゲイリー
CPC分类号: A61B18/042 , A61N1/40 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/20 , H05H2245/122
摘要: Method for the non-thermal treatment of human or animal tissue with high-voltage electrical discharge plasma is disclosed. The disclosed method employs current through plasma and through tissue not for the purpose of heating the tissue, but instead to maintain the plasma proximate to the tissue being treated. Also disclosed is a method of limiting the current through plasma and through tissue to minimize tissue heating by placement of an insulator or semiconductor between an electrode and tissue resulting in generation of a high-voltage discharge similar to a dielectric barrier discharge. The disclosed non-thermal plasma treatment can be employed to promote coagulation of blood, sterilization, disinfection, re-connection of tissue, and treatment of tissue disorders without causing significant thermal tissue damage.
-
公开(公告)号:JP6359965B2
公开(公告)日:2018-07-18
申请号:JP2014260295
申请日:2014-12-24
发明人: ジェイムズ イー. トンプソン , ダニエル エー. フリードリヒ
IPC分类号: A61B18/04
CPC分类号: H05H1/46 , A61B18/042 , A61B18/1206 , A61B2018/00732 , A61B2018/00863 , H05H2001/466 , H05H2245/122 , H05H2277/10
-
公开(公告)号:JPWO2016163007A1
公开(公告)日:2018-03-08
申请号:JP2017511422
申请日:2015-04-09
申请人: 株式会社オーラル28
CPC分类号: H05H1/42 , A61C5/77 , B01J19/08 , C01B33/12 , H05H1/2406 , H05H2001/2456 , H05H2245/122 , H05H2245/125 , H05H2277/10
摘要: シリカ前駆体を、被処理体に熱影響を与えず、短時間で、且つ高品質なシリカ膜に転化可能なプラズマ照射装置及びプラズマ照射方法を提供する。本発明のプラズマ照射装置1は、プラズマ発生部12と、前記プラズマ発生部12により発生されたプラズマを、被処理体に照射する照射部80と、を備え、前記照射部80は、前記被処理体に液体を塗布可能な塗布部85を有すること、を特徴とする。
-
公开(公告)号:JP2018504202A
公开(公告)日:2018-02-15
申请号:JP2017536892
申请日:2015-01-12
申请人: 王守国 , WANG, Shouguo
发明人: 王守国
CPC分类号: H05H1/46 , A61N1/44 , H05H1/26 , H05H2001/466 , H05H2240/10 , H05H2240/20 , H05H2245/122 , H05H2245/1225
摘要: 挿入・引出可能なプラズマ放電管装置であって、該装置は、手持ち可能なケース(100)に挿入・引出可能に接続されるプラズマ放電管を含み、該プラズマ放電管内に単一電極(101)が設けられ、その外周に他の電極が設けられず、該単一電極(101)がプラズマ電源(107)の1つの出力端に接続され、該プラズマ電源(107)のもう1つの出力端がそれ自体の回路のアース線に接続され、該プラズマ電源(107)の入力端は、12V以下の直流電源又は電池に接続され、該プラズマの発生方式は、接触式の管外誘導放電方式、又はガス供給源付きの管内自続放電方式であり、該プラズマ放電管は、準グローの常圧低温プラズマを発生することができる挿入・引出可能なプラズマ放電管装置。発生するプラズマは、敏感表面に対する消毒、滅菌、皮膚組織感染の治療、及び癌細胞の殺滅に適用される。【選択図】図1
-
-
-
-
-
-
-
-
-