キノン及びこれを得る方法
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021514355A

    公开(公告)日:2021-06-10

    申请号:JP2020543211

    申请日:2019-02-12

    Abstract: 少なくとも1種のクロマン(C1)を、銅触媒の存在下で、酸素を含む、酸素から本質的になる、又は酸素からなるガス状化合物によって、少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物中、又はCを有する溶媒中で酸化する方法であって、前記銅触媒が、酸化状態(+1)又は(+2)を呈する、方法を開示する。本開示の更なる部分は、少なくとも1種のクロマン(C1)及び/又は少なくとも1種のキノン(C30)、少なくとも2種の溶媒を含む溶媒混合物、又はCを有する溶媒、酸化状態(+1)又は(+2)を呈する銅触媒、並びに酸素を含む、酸素から本質的になる、又は酸素からなるガス状化合物を含む組成物である。キノン調製物、及びこれを作製する方法も、本発明の一部分である。 【選択図】なし

    トリアルコキシシランの選択的合成方法

    公开(公告)号:JP2018538363A

    公开(公告)日:2018-12-27

    申请号:JP2018541586

    申请日:2016-10-18

    Abstract: 本発明は、式SiH(OR) 3 を有するトリアルコキシシランの選択的合成のための直接的無溶媒方法であって、該方法が、金属ケイ素と銅系触媒との混合物を充填層反応器内に供給することを含み、金属ケイ素及びケイ素−触媒混合物がいずれも如何なる洗浄工程にも付されない、方法を提供する。添付の請求項1は、式SiH(OR) 3 (式中、各RはC 1 〜C 4 アルキルである)を有するトリアルコキシシランの選択的合成のための直接的無溶媒方法であって、該方法が、金属ケイ素と銅系触媒との混合物を充填層反応器内に供給する工程と、混合物を約180℃〜約250℃の活性化温度で加熱する工程と、約180℃〜約250℃未満の反応温度でC 1 〜C 4 アルコールを反応器に投入する工程と、熱交換器において反応生成物を凝縮する工程と、該凝縮した反応生成物を回収する工程とを含み、金属ケイ素及びケイ素−触媒混合物がいずれも、フッ化水素酸(HF)洗浄工程を含む如何なる洗浄工程にも付されない、方法に関する。 【選択図】図1

    1,2−ジクロロエタン製造用触媒システム及び1,2−ジクロロエタンの製造方法

    公开(公告)号:JP2018075504A

    公开(公告)日:2018-05-17

    申请号:JP2016217023

    申请日:2016-11-07

    Abstract: 【課題】 1,2−ジクロロエタン製造時の圧力損失を低く維持し、良好な除熱効果、高い耐久性を有し、長期間安定に1,2−ジクロロエタンを製造することを可能とする1,2−ジクロロエタン製造用触媒システムおよびそれを用いた1,2−ジクロロエタンの製造方法を提供する。 【解決手段】 オキシ塩素化触媒及び希釈剤を含む1,2−ジクロロエタン製造用触媒システムであって、オキシ塩素化触媒が中空円筒形状担体担持オキシ塩素化触媒であり、希釈剤が該希釈剤同士の付着率が5%未満、比表面積が0.01〜10m 2 /g、外径(Ded)が4〜8mm、内径(Did)が1.5〜3.5mm、長さ(Ld)が3〜7mmの中空円筒形状グラファイト希釈剤である、ことを特徴とする1,2−ジクロロエタン製造用触媒システム。 【選択図】 なし

    エチレンのオキシ塩素化による1,2−ジクロロエタンの合成に用いる触媒

    公开(公告)号:JP2017154051A

    公开(公告)日:2017-09-07

    申请号:JP2016037671

    申请日:2016-02-29

    Abstract: 【課題】特定の形状を有し、高い純度の1,2−ジクロロエタンを合成できる触媒の提供。 【解決手段】アルミナ担体1と、アルミナ担体1に担持された触媒全体質量に対し1〜12質量%の銅化合物及び0.2〜5質量%のアルカリ金属化合物を含み、アルミナ担体1は、3つの円柱形の中空内孔2と、周縁部に3つの略半円柱形の溝3とを有する円筒形状で、円筒形状は、外径D1が3.5〜6.0mmで、高さHが外径D1の0.5〜1.5倍で、アルミナ担体1の底面と平行な断面で、3つの中空内孔2の中心は断面の中心を中心とする同心円上で正三角形の頂点を構成し、各々の中空内孔2は二つの溝3の間に位置して配置され、溝3の二つの端点間の直線距離Dgは中空内孔の直径Dhと同じ大きさで、断面の周縁部から中空内孔端部までの最短距離W1は0.5〜1.2mmで、中空内孔端部間の最短距離W2は0mm
    【選択図】図1

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