超純水製造装置及び超純水製造方法

    公开(公告)号:JP2021126644A

    公开(公告)日:2021-09-02

    申请号:JP2020205121

    申请日:2020-12-10

    Abstract: 【課題】要求水質を充分に満足した高純度の超純水を、水量や水質の変動にかかわらず、装置設置面積を抑えた上で安価に、安定かつ確実に製造する。 【解決手段】原水を処理する前処理システムと、該前処理システムの処理水を処理する一次純水システムと、該一次純水システムの処理水を処理するサブシステムとを備え、該一次純水システムが、構成装置として少なくとも逆浸透膜分離装置、脱気装置、紫外線酸化装置、及びイオン交換装置をこの順で備える超純水製造装置であって、該一次純水システムにおける水量及び/又は水質を監視するモニターと、該モニターで検出した値に応じて1以上の前記構成装置の運転条件を制御する制御手段とを有する超純水製造装置。 【選択図】図1

    水処理装置
    5.
    发明专利
    水処理装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2019166471A

    公开(公告)日:2019-10-03

    申请号:JP2018056365

    申请日:2018-03-23

    Abstract: 【課題】水処理の不調を解消するための交換部品の入手が容易である水処理装置を提供する。 【解決手段】淡水タンク1内の淡水の一部は、低圧ボイラ又は中圧ボイラの給水として用いられる。淡水タンク1内の淡水は、主系列10を構成する配管2、バルブ3、給水ポンプ4及びMF膜装置5を介してRO装置6へ供給される。RO装置6の透過水は、電気脱イオン装置11に供給される。予備系列20は、淡水タンク1からの淡水を配管21、バルブ22及び給水ポンプ24によってMF膜装置25に通水し、MF濾過水をイオン交換樹脂装置26に通水して脱イオン処理して純水を製造するよう構成されている。装置に不調が生じたときには、不調原因となる部品データを管理部門に送信する。 【選択図】図1

    水処理システム及びその運転方法並びに保護装置

    公开(公告)号:JP2018122274A

    公开(公告)日:2018-08-09

    申请号:JP2017018319

    申请日:2017-02-03

    Inventor: 佐々木 慶介

    Abstract: 【課題】電気式脱イオン水製造装置(EDI装置)内のイオン交換膜やイオン交換体を劣化させる恐れのある塩素などの酸化剤に対し、EDI装置を確実に保護する。 【解決手段】被処理水中の酸化剤を除去する充填材に対して被処理水を通水し、充填材を通過したのちの被処理水をEDI装置に供給する。充填材としては例えば弱塩基性アニオン交換樹脂を含むものを使用し、充填材における被処理水の空間速度を例えば500h -1 以上とする。 【選択図】図1

    超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法

    公开(公告)号:JP2018094531A

    公开(公告)日:2018-06-21

    申请号:JP2016244472

    申请日:2016-12-16

    Abstract: 【課題】 サブシステムに紫外線酸化装置と白金族金属触媒樹脂塔とを有し、過酸化水素除去能力の低下を抑制した超純水製造装置を提供する。 【解決手段】 一次純水製造装置3は、タンク5と紫外線酸化装置6と再生型イオン交換装置7と膜式脱気装置8とを有する。サブシステム4は、サブタンク11とこのサブタンク11から送給される一次純水を処理する紫外線酸化装置12と水素ガス供給手段13と白金族金属触媒樹脂塔14と膜式脱気装置15と非再生型混床式イオン交換装置16と限外濾過(UF)膜17とで構成されている。白金族金属触媒樹脂塔14における白金族金属触媒樹脂は、担体樹脂に白金族金属を担持させたものであり、 特に担体樹脂に白金族の金属のナノオーダーの粒径の粒子を担持させたものが好ましい。 【選択図】 図1

    超純水製造装置および超純水製造装置の運転方法

    公开(公告)号:JP6119886B1

    公开(公告)日:2017-04-26

    申请号:JP2016014922

    申请日:2016-01-28

    Abstract: 【課題】ホウ素を効率的に除去して、そのリークを迅速に予防可能な超純水製造装置を提供する。【解決手段】超純水製造装置1は、一次純水システム2とサブシステム3とを備える。一次純水システム2は、逆浸透膜(RO)装置4及び再生型混床式イオン交換装置5を有し、この再生型混床式イオン交換装置5の後段には、ホウ素濃度測定手段としてのホウ素モニタ6と電気脱イオン装置7とを備える。サブシステム3は、UV酸化装置9と非再生型混床式イオン交換装置10と限外ろ過膜11とを有する。そして、ホウ素モニタ6により一次純水W1のホウ素濃度を連続監視し、一次純水W1のホウ素濃度〔B〕と、電気脱イオン装置7のホウ素除去率の積を処理水W2のホウ素濃度〔B1〕と擬制して、サブシステム3への供給水のホウ素濃度を連続的に監視する。【選択図】図1

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