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    Enantioselective synthesis
    2.
    发明专利
    Enantioselective synthesis 有权
    选择性合成

    公开(公告)号：JP2005206610A

    公开(公告)日：2005-08-04

    申请号：JP2005112900

    申请日：2005-04-08

    申请人： Schering Plough Corp ,  シェーリング コーポレイションSchering Corporation

    发明人： DRAPER RICHARD W ,  IYER RADHA V ,  LU YUELIE ,  VATER EUGENE J

    IPC分类号： C07D311/04 ,  A61K31/352 ,  A61P5/32 ,  C07B57/00 ,  C07B61/00 ,  C07D311/26 ,  C07D311/60

    CPC分类号： C07D311/26 ,  C07D311/60

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method suitable for a practically commercial scale process, including no expensive step, as a method for synthesizing (S)-7-hydroxy-3-(4'-hydroxyphenyl)-4-methyl-2-ä4"-[2'''-(1-piperidino)-ethoxy]phenyl}-2H-benzopyrane 4',7-bistrimethyl acetate. SOLUTION: A short practical commercial process for the efficient enantioselective synthesis of the non-steroidal antiestrogen of formula (I) or (XIV) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided. The process comprises a step of reacting a compound of formula (IV) with a compound represented by formula (VII). COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

    摘要翻译： 要解决的问题：作为合成（S）-7-羟基-3-（4'-羟基苯基）-4-甲基的方法，提供适用于几乎商业规模的方法（包括不昂贵的步骤）的方法 -2-ä4“ - [2” - （1-哌啶子基） - 乙氧基]苯基} -2H-苯并吡喃4'，7-双三乙基乙酸酯。解决方案：用于有效对映选择性合成 提供式（I）或（XIV）的非甾体抗雌激素或其药学上可接受的盐，该方法包括使式（Ⅳ）化合物与式（Ⅶ）表示的化合物反应的步骤。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

    Naphthoquinonediazide compound, and positive photoresist composition containing same
    6.
    发明专利
    Naphthoquinonediazide compound, and positive photoresist composition containing same 失效
    萘醌化合物和含有其的阳性光电组合物

    公开(公告)号：JPS6197278A

    公开(公告)日：1986-05-15

    申请号：JP21698584

    申请日：1984-10-16

    申请人： Mitsubishi Chem Ind Ltd

    发明人： MIURA KONOE ,  OZAWA TETSUO ,  MITSUHASHI KAZUO

    IPC分类号： G03C1/72 ,  C07D311/26 ,  G03F7/022

    CPC分类号： G03F7/022

    摘要： NEW MATERIAL:A compound shown by the formula I [R -R are H, OH, or -OQ (Q is group shown by the formula II, or formula III); with the proviso that at least two of R -R are -OQ]. EXAMPLE:3,5,7,3,',4'-Pentahydroxyflavone-tris(1,2-naphthoqui-no-ne-2-d iazido-5-sul fonate). USE:The compound responds to radiation, is blended with an alkali-soluble resin such as novolak resin or vinyphenolic resin, etc., and useful as a positive photoresist composition. It has improved sensitivity, short exposure time, and is not only useful for VLSI but also useful for producing common IC, for producing masks, and for offset printing. PREPARATION:A flavone or isoflavone compound shown by the formula IV (R '-R ' are H, or OH; number of OH is 2-7) is reacted with a quinonediazide sulfonyl chloride shown by the formula Q-Cl in a solvent such as dioxane, etc., in the presence of triethylamine, to give a compound shown by the formula I.

    摘要翻译： 新材料：由式I [R 1 -R 9]表示的化合物是H，OH或-OQ（Q是式II或式III所示的基团）; 条件是R 1 -R 9中的至少两个为-OQ]。 实施例：3,5,7,3'，4'-五羟基黄酮 - 三（1,2-萘-1-基-2-二叠氮基-5-磺酸酯）。 用途：化合物响应辐射，与碱溶性树脂如酚醛清漆树脂或酚醛树脂等共混，可用作正性光致抗蚀剂组合物。 它具有灵敏度提高，曝光时间短，不仅可用于VLSI，还可用于生产通用IC，生产掩模和胶版印刷。 制备：式IV所示的黄酮或异黄酮化合物（R 1'-R 9）是H或OH; OH的数目为2-7）与式Q所示的醌二叠氮磺酰氯反应 -Cl在溶剂如二恶烷等中，在三乙胺存在下反应，得到式I所示的化合物。