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公开(公告)号：KR101682181B1
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020157013745
申请日：2013-09-23
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
Inventor： 왕톈밍
CPC classification number: G03F7/709 , F16F7/10 , F16F7/1005 , F16F15/002 , G03F7/70716 , G03F7/70766 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/70833
Abstract: 본발명은공작물테이블과마스크테이블이공용하는균형질량시스템에관한것으로서, 공작물테이블시스템을설치하기위한제1부분(11); 마스크테이블시스템을설치하기위한제2부분(20); 및제1부분(11)과제2부분(20)을연결하기위한제3부분(14)을포함하는균형질량체와드리프트방지및 보상장치(16)를포함하며, 균형질량체의제1부분(11)은노광기의베이스프레임(1)에부유되도록지지되고, 균형질량체의제3부분(14)은드리프트방지및 보상장치(16)를통해베이스프레임(1)과서로연결되며, 드리프트방지및 보상장치(16)는전체균형질량체의무게중심위치에가깝게설치된다. 균형질량시스템을이용하면마스크테이블시스템의외부홀더를절약할수 있고, 노광기의부피와무게를줄일수 있으며, 필요한균형질량의질량을절감할수 있어, 전체적인구조를더 치밀하게한다.
Abstract translation: 由工件台和掩模台共用的平衡质量系统包括平衡块和防漂移补偿装置（16）。 平衡块包括用于安装工件台系统的第一部分（11），用于在其上安装掩模台系统的第二部分（20）和用于将第一部分（11）和第二部分 第（20）部分。 平衡块的第一部分（11）浮动地支撑在平版印刷机的基架（1）上，平衡块的第三部分（14）通过防反射板与基架（1）连接， 漂移和补偿装置（16）。 防漂移补偿装置（16）整体上配置在平衡块的重心附近。 该平衡质量系统可以消除对掩模台系统使用额外的支撑的需要，并允许构造具有更高结构紧凑性，减小尺寸和重量的平版印刷机，并减少使用的平衡质量的总质量。
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公开(公告)号：KR1020160121575A
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：KR1020167025728
申请日：2015-02-12
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , G03F7/70716 , G03F9/7046
Abstract: 리소그래피스테이지를위한마이크로모션모듈은, 베이스(201); 마이크로모션보드(210); 상기베이스및 마이크로모션보드사이에고정되는복수개의수직모터(203); 일단이상기베이스상에고정되고, 타단이상기마이크로모션보드를지지하기위한복수개의중력보상기(202); 마이크로모션보드의절대위치를측정하고, 측정해낸 절대위치에근거하여상기복수개의중력보상기의압력을조절하여, 마이크로모션보드의절대위치를기설정된수직초기위치로조절하는복수개의절대위치센서(205, 211); 및베이스및 마이크로모션보드사이의상대위치를측정하기위한복수개의상대위치센서(204, 207)를포함하고, 상기복수개의수직모터는측정해낸 상대위치에근거하여마이크로모션보드를상대제로비트로이동하도록제어한다.
Abstract translation: 一种用于光刻工具的晶片台的精细运动模块包括：基座（201）; 微动板（210）; 多个垂直马达（203），固定在基座和微动板之间; 多个重力补偿器（202），每个重力补偿器的一端固定在基座上，另一端构造成支撑微动板; 多个绝对位置传感器（205,211），被配置为基于所获得的绝对位置测量值来测量所述精细运动板的绝对位置并且调整所述重力补偿器中的压力，使得所述精细运动板的绝对位置， 运动板被改变到预定的初始垂直位置; 以及多个相对位置传感器（204,207），其被配置为测量所述微动板与所述基座的相对位置，并且基于所获得的相对位置测量来控制所述微动板，由此移动所述精细运动板 - 运动板到相对零位置。
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公开(公告)号：KR1020160111467A
公开(公告)日：2016-09-26
申请号：KR1020167022637
申请日：2015-01-15
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
CPC classification number: G02B27/48 , G02B3/0068 , G02B3/0087 , G02B27/62 , G02B2003/0093
Abstract: 레이저빔의방출에사용되는레이저장치(100)를포함하는레이저어닐링장치에응용되는레이저어닐링도징장치(500)에있어서, 레이저어닐링도징장치는곡률반경이모두동일한복수개의원기둥렌즈(510)를포함하고, 곡률이위치하는평면에서의각 원기둥렌즈(510)의사이즈가동일하며, 또한빔의전파방향에서의각 원기둥렌즈(510)의길이가상이하고, 빔의전파방향에서의각 2개의원기둥렌즈(510)의길이차이가레이저장치의가간섭성길이보다길다. 선행기술에서투명유리판(11)과원기둥렌즈(21)의조합방식을길이가상이한큰 사이즈의원기둥렌즈(510)로대체사용하였고, 동일하게간섭제거및 빔에대한도징작용을실현하며, 동시에회절이초래하는도징효과가이상적이지못한문제도해소하였고, 또한광학시스템의가설난이도를감소시켰으며, 원가를절감시켰다.
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公开(公告)号：KR1020160106103A
公开(公告)日：2016-09-09
申请号：KR1020167020803
申请日：2014-12-12
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: H02K41/02
CPC classification number: H02K41/02 , H02K2201/18
Abstract: 자석배열(100) 및자기부양평면모터가개시된다. 자석배열은: 선형할바흐자석배열(120, 130) 및 2차원할바흐자석배열(110)을포함한다. 선형할바흐자석배열및 2차원할바흐자석배열은정사각형자석배열을형성하도록조립되며, 2차원할바흐자석배열은정사각형자석배열의각 대각선코너에배열된다. 2차원할바흐자석배열및 선형자석배열로형성된자석배열은, 단순한선형할바흐자석배열로형성된동일크기의자석배열과비교할때, 자기부양평면모터의더 큰트러스트계수를갖는것을가능하게한다.
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公开(公告)号：KR1020160105472A
公开(公告)日：2016-09-06
申请号：KR1020167020789
申请日：2014-11-28
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , G03F1/70
CPC classification number: G03F7/70741 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/6838 , G03F7/20 , G03F1/70 , G03F7/70775
Abstract: 십자선형상보정장치(10)는흡착기들(100); 흡착기실장프레임(200); 및공압제어시스템을구비하고, 흡착기실장프레임(200)은십자선스테이지(700) 위에배치되고, 흡착기들(100)은서로이격되어있는식으로흡착기실장프레임(200)이하단에실장되며, 공압제어시스템은흡착기들(100)을제어해십자선(600)을흡착또는방출함으로써십자선을보유하도록구성된다. 흡착기들(100)은십자선상의사다리꼴노출시계(610)를차단하지않음으로써, 광빔이십자선상에완전히 (100%) 입사하게하도록배열된다. 장치(10)는이용되는포토리소그래피도구와별개로실장되어, 십자선(600) 상에무게하중을더 낮출수 있다. 추가로, 장치(10)는포토리소그래피도구에배치된임의의부품과접촉하지않으며도구에추가적인외부진동을도입하지않는다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160103125A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020167020886
申请日：2014-12-26
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: H01L21/68 , H01L27/146 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/681 , H01L21/6838 , H01L21/68764 , H01L21/68785 , H01L22/12 , H01L22/22 , H01L21/6835 , H01L27/14627 , H01L27/14683
Abstract: 실리콘웨이퍼(60)의회전과승강운동을발생시키는제1 장치(40), 실리콘웨이퍼의평행이동을발생시키는제2 장치(50) 및광원, 렌즈, 이미지센서(20)를포함하는위치탐지장치를포함하고, 광원으로부터발산되는광속은실리콘웨이퍼와렌즈를경과한후, 실리콘웨이퍼의위치정보를이미지센서로전송하고, 제1 장치와제2 장치는이미지센서가획득한위치정보에근거하여실리콘웨이퍼의위치를조절할수 있는실리콘웨이퍼프리얼라인장치를제공한다. 또한, TSV에대해프리얼라이닝하는방법을더 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020150014515A
公开(公告)日：2015-02-06
申请号：KR1020147036149
申请日：2013-07-19
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: H01S3/00 , H01L21/268
CPC classification number: H01L21/67115 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0622 , B23K26/0648 , B23K26/067 , B23K26/0853 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , H01L21/268 , H01L21/324 , H01S3/005 , H01S3/00 , H01S3/0007
Abstract: 본 발명은 균일한 싱글 펄스레이저를 제공하는데 사용되는 레이저빔 발생모듈; 싱글 펄스 레이저를 복수개의 서브 펄스 레이저로 분해하는데 사용되는 순환 지연 장치(300); 서브 펄스 레이저를 기판(204)에 집중시키는데 사용되는 광학 모듈; 기판(204)에 적어도 하나의 자유도 변위를 제공하는데 사용되는 운동 스테이지(500)을 포함하는 레이저 어닐링 장치와, 균일한 싱글 펄스 레이저를 제공하는 단계; 싱글 펄스 레이저를 지연 수요 및 에너지 비율에 따라 복수개의 펄스 레이저로 분해하는 단계; 서브 펄스 레이저를 이용하여 기판(204)에 연속적으로 조사하여, 기판(204)의 표면 온도를 소정 범위 내에서 안정적으로 유지시키는 단계를 포함하는 레이저 어닐링 방법에 관한 것이다. 이는 싱글 펄스 레이저를 지연 수요 및 에너지 비율에 따라 복수개의 레이저 펄스로 분해시킬 수 있으며, 이러한 레이저 펄스를 연속적으로 조사할 때 어닐링기간에서의 실리콘 웨이퍼의 표면온도를 용융점 근처 또는 어닐링에 필요한 온도 근처에서 더욱 오래 유지될 수 있도록 함으로써 레이저의 에너지 이용율을 높이고, 어닐링 효과를 개선할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130141643A
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：KR1020137018676
申请日：2011-12-07
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: G02B9/34 , G02B13/24 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7015 , G02B13/14 , G03F7/70241 , G02B13/24 , H01L21/0274
Abstract: 십자선으로부터 광축을 따라, 웨이퍼에 십자선 패턴으로 초점을 맞추고 이미지화하기 위한 리소그래피 투사 대물렌즈(30)는 양의 굴절력을 갖는 제 1 렌즈그룹(G31); 양의 굴절력을 갖는 제 2 렌즈그룹(G32); 양의 굴절력을 갖는 제 3 렌즈그룹(G33); 및 양의 굴절력을 갖는 제 4 렌즈그룹(G34)을 포함한다. 이들 4개의 렌즈그룹들은 100mm보다 작지 않은 부분 시야각을 갖는 2X 배율 설계를 형성한다; I-라인±5㎚의 파장 대역은 충분한 노출 광강도를 보장할 수 있다. 더욱이, 본 발명은 상대적으로 간단한 구조로 대형 필드에서 요구되는 밀리미터 수준의 해상도뿐만 아니라 왜곡보정, 필드곡률, 비점수차 및 색수차를 또한 달성할 수 있다.
Abstract translation: 一种用于将掩模版图案聚焦并成像到晶片上的光刻投影物镜（30），包括从光掩模和沿着光轴：具有正折射光焦度的第一透镜组G31; 具有正折射光焦度的第二透镜组G32; 具有正折射光焦度的第三透镜组G33; 以及具有正折光力的第四透镜组G34。 这四个透镜组形成2X放大设计，其部分视场不小于100mm; I线±5nm的波长带可以确保足够的曝光光强度。 此外，本发明还通过相对简单的结构实现了所需的毫米级分辨率以及在大场中校正失真，场曲率，像散和色差。
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公开(公告)号：KR102246340B1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：KR1020197016827
申请日：2017-11-24
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: G03F7/20
Abstract: 광원의노광량을제어하는시스템및 방법이개시된다. 이시스템은 LED 광원및 에너지검출유닛모두에결합된 LED 광원(1), 광호모지나이저 (2), 에너지검출유닛 (31,32) 및노광량제어유닛 (4)을포함한다. 에너지검출유닛은 LED 광원또는광 호모지나이저에대응하는에너지검출기 (31) 및웨이퍼에대응하는에너지스폿센서 (32)를포함한다. 기존의수은램프대신자외선을생성할수 있는 LED 광원을사용하면수은램프가파손되었을때 위험한수은증기가환경으로방출되는위험을없앰으로써시스템의위험성이낮고안전하다. 또한, LED 광원의노광조도를조정할수 있고, 가변감쇠기또는노광셔터를사용하지않고도높은도즈제어정밀도로웨이퍼를노광할 수있도록, 노광량제어기의제어하에서 LED 광원을온/오프할 수있다. 이는시스템의복잡성과비용을줄이고신뢰성을높인다.
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公开(公告)号：KR102212629B1
公开(公告)日：2021-02-04
申请号：KR1020197009167
申请日：2017-08-29
Applicant: 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
Abstract: 렌즈를위한방염장치가개시되고, 상기장치는제 1 장치(300) 및상기제 1 장치(300)에연결된제 2 장치(400)를구비하며, 상기제 1 장치(300)는상기제 2 장치(400)에상대적으로렌즈(100)에더 근접하되, 상기제 1 장치(300)는보호층가스를출력하는데이용되고, 오염된렌즈(100)를세척하고렌즈의재오염을방지하는보호층이형성되도록상기보호층가스는노즐(330)을통해상기렌즈(100)의하면에밀착하여균일하게흐르게되며, 상기제 2 장치(400)는오염원에근접한가스를제거하는데이용되고, 상기오염가스는소형홀들(410)을통해환상형공동(420)으로들어가서배기로(200)의흡입력과배출력을통해멀리떨어진환경으로배출된다. 또한렌즈방염방법이개시된다. 노광전에제 1 장치(300)를켜고이후제 2 장치(400)를켠다. 노광후 12시간지나서, 제 2 장치(400)를끌 수있다. 이러한장치및 방법은, 포토레지스터의유기물이휘발하여렌즈를오염하는문제를더 잘해결할수 있고, 실장하기간편하며, 서비스수명이길고, 비용이낮으며, 신뢰성이높고, 오염원이대물렌즈로들어가지않고완전히제거되도록한다.
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