전사 방법 및 열 나노임프린트 장치
    56.
    发明公开
    전사 방법 및 열 나노임프린트 장치 审中-实审
    转印方法和热纳米压印装置

    公开(公告)号:KR1020150041161A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:KR1020157007666

    申请日:2013-04-30

    IPC分类号: G03F7/00 B29C59/04 H01L21/027

    摘要: 한쪽의표면에나노스케일의요철구조(11)가형성된커버필름(10)과, 요철구조(11)의오목부내부에형성된제2 마스크층(12)과, 요철구조(11) 및제2 마스크층(12)을덮도록형성된제1 마스크층(13)을구비하는미세패턴형성용필름(II)을사용하여, 피처리체(20) 상에제1 마스크층(13) 및제2 마스크층(12)을전사부여한다. 여기서, 미세패턴형성용필름(II)을, 제1 마스크층(13)이형성된표면을피처리체(20)의표면을향하게하여압박하고, 제1 마스크층(13)에에너지선을조사하고, 계속해서, 커버필름(10)을, 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)으로부터분리한다. 여기서, 압박과에너지선조사는각각독립적으로행한다. 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)을이용하여피처리체를에칭한다.

    摘要翻译: 在其一个表面上形成纳米级凹凸结构11的覆盖膜10,在凹凸结构11的凹部内形成的第二掩模层12, 第一掩模层13和第二掩模层12使用具有形成为覆盖基板12的第一掩模层13的用于精细图案形成的膜II形成在待处理对象20上 它赋予转移。 在此,通过使第1掩模层(13)的表面朝向被检体(20)的表面,对第1掩模层(13)照射能量射线,从而对微细图案形成用膜(II) 随后,覆盖膜10与第二掩模层12和第一掩模层13分离。 这里,压榨和能量长丝纱线彼此独立制造。 使用第二掩模层12和第一掩模层13来蚀刻要处理的物体。