公开(公告)号：KR101761736B1

公开(公告)日：2017-07-26

申请号：KR1020160024271

申请日：2016-02-29

Applicant: 주식회사 성진케미칼

Inventor： 정동주 ,  정성구

IPC: C23F1/16 ,  C23F11/00 ,  C23F4/00 ,  C09K13/02

Abstract: 본발명은저농도(0.2~3w/v%)의금속킬레이트제를사용하여 1~5분이내의단시간에금속의산화막을제거할수 있음은물론이고각종유해가스를발생시키지않고환경오염물질을최소(종전의 1/10 수준으로) 배출할수 있으며도정이나도금라인의자동화된공정에적용할수 있게되어도장및 도금의품질을획기적으로향상시킬수 있게하며, 또산화막제거제지속사용에의해중화되어갈 즈음에보급제를추가함으로써산화막제거성능을지속적으로유지할수 있어장기간사용(연속작업에도 1개월이상) 및그에따른작업효율을높인다.

Abstract translation: 本发明通过使用低浓度（0.2至3w / v％）的金属螯合剂在1至5分钟内在短时间内除去金属的氧化物膜，并且能够以最小的 1/10级），适用于电镀和电镀线的自动化工艺，可大幅度提高涂装和电镀的质量，并通过连续使用氧化膜去除剂进行中和处理， ，可以连续地保持氧化膜去除性能，从而改善长期使用（连续运行超过一个月），从而提高工作效率。

公开(公告)号：KR1020170065253A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：KR1020150171458

申请日：2015-12-03

Applicant: 동우 화인켐 주식회사

Inventor： 김동기 ,  권오병 ,  김진성

IPC: G02F1/1368 ,  C23F1/16 ,  C23F1/30

Abstract: 본발명은액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는과산화수소, 불소화합물, 5-메틸-1H-테트라졸, 한분자내에질소원자와카르복실기를갖는수용성화합물, 삼인산나트륨, 다가알코올형계면활성제및 물을일정함량포함하는구리계금속막용식각액조성물및 상기식각액조성물을이용한액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다.

Abstract translation: 更具体地说，本发明涉及一种用于制造使用液晶显示装置的液晶显示装置的方法，并且更具体地涉及一种用于制造液晶显示装置的方法， 醇类表面活性剂和一定量的水以及用于产生术语“使用上述蚀刻组合物的液晶显示装置基板”的方法。

公开(公告)号：KR1020170052276A

公开(公告)日：2017-05-12

申请号：KR1020150154531

申请日：2015-11-04

Applicant: 한국에너지기술연구원

Inventor： 이영수 ,  김동립 ,  이관수 ,  장한민 ,  전재현 ,  이길봉

IPC: F28F13/18 ,  C23F1/10 ,  C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  C23F1/32 ,  C23C16/44

Abstract: 본발명에따른초발수성열교환기는, 기제작된금속소재의열교환기의표면에나노구조체를형성한후, 서리부착력이낮은초발수성물질을증착시키기때문에, 저온환경에서서리착상을효과적으로지연하고제상효율도향상시킬수 있다. 또한, 기제작된금속소재의열교환기를이용할수 있기때문에, 적용이보다용이한이점이있다. 또한, 제조공정이쉽고간단하기때문에대면적화및 제품양산성을모두만족시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020170011828A

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：KR1020150105157

申请日：2015-07-24

Applicant: 동우 화인켐 주식회사

Inventor： 국인설 ,  유인호 ,  최한영

IPC: C23F1/16 ,  C23F1/18 ,  C23F1/44 ,  G02F1/1368 ,  C07F1/08

Abstract: 본발명은식각액조성물및 액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다. 본발명의식각액조성물로구리계금속막을식각할시, 식각프로파일이 우수하고처리매수가높은것이특징이다.

公开(公告)号：KR1020170011783A

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：KR1020150105041

申请日：2015-07-24

Applicant: 동우 화인켐 주식회사

Inventor： 김보형 ,  이종문 ,  최한영

IPC: C23F1/16 ,  C23F1/18 ,  C23F1/44 ,  G02F1/1368 ,  C07F1/08

Abstract: 본발명은식각액조성물및 액정표시장치용어레이기판의제조방법에관한것이다. 본발명의식각액조성물로구리계금속막을식각할시, 식각프로파일이 우수하고처리매수가높은것이특징이다.

Abstract translation: 本发明涉及蚀刻剂组合物和制造液晶显示装置的基板的方法。 当用本发明的蚀刻剂组合物蚀刻铜基金属膜时，其具有优异的蚀刻轮廓和大量的处理。

公开(公告)号：KR101627181B1

公开(公告)日：2016-06-03

申请号：KR1020150078400

申请日：2015-06-03

Applicant: 솔브레인 주식회사

Inventor： 이진욱 ,  박재완 ,  임정훈

IPC: C09K13/04 ,  H01L21/306 ,  C23F1/16

Abstract: 본발명은식각용조성물및 이식각용조성물을이용한식각공정을포함하는반도체소자의제조방법에관한것으로서, 상기식각용조성물은제1 무기산, 제2 무기산과실란화합물을반응시켜제조된실란무기산염, 그리고용매를포함한다. 상기식각용조성물은산화막의식각율을최소화하면서질화막을선택적으로제거할수 있으며, 소자특성에악영향을미치는파티클발생등의문제점을갖지않는고선택비의식각용조성물이다.

公开(公告)号：KR101614879B1

公开(公告)日：2016-04-22

申请号：KR1020150113043

申请日：2015-08-11

Applicant: 한국항공대학교산학협력단

Inventor： 서종현

IPC: C23F1/10 ,  C23F1/16 ,  C23F1/18 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44

Abstract: 다중금속막을식각하기위하여사용되는식각액조성물로서, 상기다중금속막은 Cu 또는 Cu-합금의 1 이상의층, 및 Mo 또는 Mo-합금의 1 이상의층을포함하는것이고, 상기식각액조성물은그의총 중량에대하여인산약 35 중량% 내지약 70 중량%; 질산약 0.5 중량% 내지약 8 중량%; 초산약 4 중량% 내지약 30 중량%; 불소-함유화합물약 0.5 중량% 내지약 8 중량%; 및잔량의물을포함하는것인식각액조성물, 및이를이용하여다중금속막을식각하는방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及蚀刻剂组合物和蚀刻多层金属膜的方法。 蚀刻剂组合物用于蚀刻多层金属膜。 多层金属膜包括：一层或多层Cu或Cu合金; 和一层或多层Mo或Mo合金。 蚀刻剂组合物含有约35-70重量％的磷酸; 约0.5-8重量％的硝酸; 约4-30重量％的乙酸; 约0.5-8重量％的含氟组合物; 和剩余量的水。 蚀刻剂组合物和蚀刻多层金属膜的方法可以解决诸如Cu的过度蚀刻，快速倾斜角度以及用下部膜形成不同宽度的问题。

公开(公告)号：KR1020160043170A

公开(公告)日：2016-04-21

申请号：KR1020140136592

申请日：2014-10-10

Applicant: 삼영순화(주) ,  미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 ,  삼성디스플레이 주식회사

Inventor： 전중익 ,  인치성 ,  이미순 ,  신현억 ,  배준우

IPC: C23F1/16 ,  C23F1/20 ,  C23F1/30

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/30 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1259

Abstract: 본발명은 (A) 구리이온공급원; (B) 분자내에 1 이상의카르복시기를갖는유기산이온공급원; (C) 불소이온공급원; (D) 제 1 첨가제로서식각조절제, 표면산화력증가제, 또는이들의조합; 및 (E) 제 2 첨가제로서계면활성제를포함하는에칭액조성물및 이를이용하는다층막의에칭방법에관한것이다.

Abstract translation: 根据本发明，公开了一种蚀刻溶液组合物，其包含（A）铜离子供给源，（B）分子中具有一个以上羧基的有机酸离子的供给源，（C）氟离子 供应源，（D）蚀刻控制器，表面氧化功率增强剂或其组合作为第一添加剂，和（E）作为第二添加剂的表面活性剂; 以及使用该多层膜蚀刻多层膜的方法。

公开(公告)号：KR1020160025081A

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：KR1020140111020

申请日：2014-08-25

Applicant: 엘지디스플레이 주식회사 ,  주식회사 이엔에프테크놀로지

Inventor： 정강래 ,  신효섭

IPC: C23F1/16 ,  C09K13/04

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/02 ,  C23F1/26 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/7869

Abstract: 본발명은식각액조성물을개시한다. 개시된본 발명의식각액조성물은, 과산화수소, 식각억제제, 킬레이트제, 식각첨가제, 산화물반도체보호제 pH 조절제및 물을포함한다. 이와같이, 본발명에따른식각액조성물은불소계화합물을포함하지않고 pH가높게형성됨으로써, 구리와몰리브덴합금식각공정중 산화물반도체가식각되지않는것이특징이다. 이를통해, 본발명에따른식각액조성물은식각공정에서발생할수 있는불량을최소할수 있는효과가있다.

Abstract translation: 公开了一种蚀刻溶液复合材料。 所公开的蚀刻溶液复合物包括：过氧化氢，蚀刻抑制剂，螯合物，蚀刻添加剂，氧化物半导体保护剂，pH调节剂和水。 据此，根据本发明的蚀刻液复合体的特征在于，在通过在没有氟化物化合物的情况下通过具有高pH值的蚀刻铜钼合金的过程中，不蚀刻氧化物半导体。 因此，根据本发明的蚀刻液复合体获得使蚀刻过程中可能发生的故障最小化的效果。

公开(公告)号：KR1020160010257A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：KR1020140147481

申请日：2014-10-28

Applicant: 가부시키가이샤 히라마 리카 켄큐쇼

Inventor： 나카가와토시모또 ,  시라이히로유키

IPC: C23F1/00 ,  C23F1/16

CPC classification number: Y02P10/234 ,  C23F1/08 ,  C23F1/16 ,  G01N27/06 ,  G01N29/02

Abstract: 에칭액의성분농도와함께용해금속농도를감시하고, 성분농도가일정하게되도록자동적으로보충액을보급하는동시에, 용해금속을분리회수하는에칭액관리장치, 용해금속농도측정장치및 용해금속농도측정방법을제공한다. 에칭액중의산의농도에상관하는제1물성값을측정하는제1물성값측정수단과, 용해한금속의농도에상관하는제2물성값을측정하는제2물성값측정수단과, 산의농도와제1물성값의상관관계및 제1물성값의측정결과에근거하여보급되는보충액의송액(送液)을제어하는보충액송액제어수단과, 용해한금속의농도와제2물성값의상관관계및 제2물성값의측정결과에근거하여용해한금속을회수제거하는용해금속회수제거수단을구비한다.

Abstract translation: 提供一种溶解金属浓度测量装置和溶解金属浓度测量方法，以及蚀刻溶液管理装置，其监测溶解金属浓度与蚀刻溶液的成分浓度，自动提供补充溶液以恒定地保持组分浓度，以及分离和回收 溶解金属。 本发明包括： 测量与蚀刻溶液的酸浓度相关的第一物理性质值的第一物理属性值测量; 第二物理属性值测量装置，用于测量与溶解的金属浓度相关的第二物理特性值; 所述补充液控制单元的转移液基于所述酸浓度与所述第一物理特性值的相关性和所述第一物理特性值的测定结果，对所供给的补液的转移液进行控制; 以及溶解金属回收除去装置，根据溶解金属浓度与第二物理特性值与第二物理特性值的测定值之间的相关关系来回收和除去溶解的金属。