公开(公告)号：KR101557124B1

公开(公告)日：2015-10-02

申请号：KR1020140017022

申请日：2014-02-14

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재 ,  심연근

IPC分类号： B03C3/41 ,  B03C3/38

摘要： 개시된내용은플라즈마와이어및 이를이용한집진기에관한것이다. 본발명의플라즈마와이어는, 본체, 그리고본체표면을기설정온도에서산화시켜형성한유전체막으로구성되며, 유전체막표면에세라믹을소성하여형성한세라믹코팅층을더 포함할수 있다. 그리고본 발명의플라즈마와이어를이용한집진기는, 케이스와, 전원을공급하는전원부와, 전원부로부터공급되는전원을토대로좌측또는우측에일정간격을두고배치된금속판과의전위차에의해플라즈마방전을일으키는플라즈마와이어와, 케이스내부에복수개가간격을두고배치되어있으며, 외부에서유입되는공기속에포함된먼지, 연기를포함한입자가플라즈마와이어와의전위차에의해발생된플라즈마방전에의해극성을갖도록하는금속판, 그리고금속판사이에각각배치되며, 플라즈마와이어및 금속판사이에발생하는플라즈마방전에의해극성을가진외부에서유입되는공기속에포함된먼지, 연기를포함한입자를전원부로부터공급되는전원을토대로집진시키는집진판으로구성된다. 따라서, 본발명의플라즈마와이어는플라즈마방전을손쉽게일으켜이온발생량이우수하며, 이를집진기에사용하면플라즈마와이어를통과하는대부분의먼지, 연기등이플라즈마방전에의해극성을갖게되어집진판에달라붙기때문에기존의집진기와비교할때 집진효율이증대된다.

公开(公告)号：KR1020140145468A

公开(公告)日：2014-12-23

申请号：KR1020130067947

申请日：2013-06-13

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재 ,  심연근

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/67069 ,  H01J37/32669

摘要： 개시된 내용은 자성체를 이용한 플라즈마 식각장치에 관한 것으로서, 공정 챔버와, 공정 챔버 내측 상부에 설치되는 제 1 전극과, 제 1 전극의 하부에 위치하는 식각 대상물과, 반도체 제조시 사용되는 소정의 패턴이 형성되어 있으며, 식각 대상물의 상부에 위치하는 마스크와, 식각 대상물 하부에 위치하며, 마스크가 식각 대상물 표면에 밀착되도록 하는 자성체, 그리고 공정 챔버 하부의 제 1 전극과 대향하는 위치에 설치되며, 제 1 전극과의 방전영역에 플라즈마가 형성되도록 하는 제 2 전극으로 구성된다.
따라서, 본 발명은 식각 대상물과 마스크의 밀착도 저하로 인해 발생할 수 있는 식각 확산으로 인한 품질 저하를 방지할 수 있으며, 식각 대상물의 원하는 부분만을 식각할 수 있어 식각 효율 및 품질을 크게 향상시킬 수 있다.

摘要翻译： 公开了一种使用磁性材料的等离子体蚀刻装置，其包括：处理室; 设置在处理室的内部上部的第一电极; 设置在第一电极下方的蚀刻对象; 形成有用于制造半导体并且设置在蚀刻靶上的预定图案的掩模; 设置在所述蚀刻对象下方的磁铁，使所述掩模与所述蚀刻对象的表面粘合; 以及第二电极，设置在所述处理室的下方，与所述第一电极相对，以在所述第一和第二电极之间的放电区域之间形成等离子体。 因此，根据本发明，可以防止由于蚀刻对象和掩模之间的附着力的劣化而导致的蚀刻扩散引起的质量劣化。 由于仅蚀刻靶的期望部分可以被蚀刻，因此可以显着提高蚀刻效率和质量。

公开(公告)号：KR101282867B1

公开(公告)日：2013-07-05

申请号：KR1020120031577

申请日：2012-03-28

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재 ,  봉윤근 ,  심연근

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01J37/32091 ,  H01L21/3065

摘要： PURPOSE: A hybrid radical plasma graphene etching device is provided to uniformly discharge plasma by arranging a plurality of slits on a conductive stage at the same tilt angles. CONSTITUTION: An atmospheric pressure plasma electrode (110) generates neutral radical plasma. An etching unit (130) is located on the lower side of the atmospheric pressure plasma electrode. A polymer substrate (120) coated with graphene is mounted on the etching unit. The etching unit etches the graphene of the polymer substrate with a mask pattern. A driving unit transfers the etching unit with a stage transfer method.

摘要翻译： 目的：提供一种混合自由基等离子体石墨烯蚀刻装置，通过在导电平台上以相同的倾斜角布置多个狭缝来均匀地排放等离子体。 构成：大气压等离子体电极（110）产生中性自由基等离子体。 蚀刻单元（130）位于大气压等离子体电极的下侧。 涂覆有石墨烯的聚合物基板（120）安装在蚀刻单元上。 蚀刻单元用掩模图案蚀刻聚合物基板的石墨烯。 驱动单元以阶段转移方法传送蚀刻单元。

公开(公告)号：KR1020130031138A

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：KR1020110094887

申请日：2011-09-20

申请人： (주)지니아텍

发明人： 심연근 ,  김덕재

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/67028

摘要： PURPOSE: A plasma cleaning apparatus is provided to uniformly clean the surface of a cleaning object by using a long through hole. CONSTITUTION: A first electrode(10) and a second electrode(20) is arranged in a housing(30) to generate plasma. A through hole(21) is formed in the second electrode. The through hole includes perforation holes(211) and slit holes(212). A cleaning object(40) is positioned in the lower part of the second electrode.

摘要翻译： 目的：提供等离子体清洁装置，通过使用长通孔来均匀地清洁清洁对象的表面。 构成：第一电极（10）和第二电极（20）布置在壳体（30）中以产生等离子体。 在第二电极中形成通孔（21）。 通孔包括穿孔（211）和狭缝孔（212）。 清洁对象（40）位于第二电极的下部。

公开(公告)号：KR1020170079026A

公开(公告)日：2017-07-10

申请号：KR1020150189133

申请日：2015-12-30

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재 ,  심연근

IPC分类号： G01N21/73 ,  G01N21/25 ,  H05H1/26

摘要： 개시된내용은플라즈마를이용한표면성분분석장치및 그방법에관한것으로서, 플라즈마제트에서제어모듈의제어를토대로측정대상물의표면에플라즈마를직접조사하여표면에존재하는원소와반응시키고, 플라즈마제트에내장된광 측정모듈은플라즈마제트에의해조사되는플라즈마에의해반응하여측정대상물에서방출되는광 특성을측정하여제어모듈로출력하며, 제어모듈은광 측정모듈에서측정한광 특성정보를기저장되어있는에너지준위에따른원소특성및 상태에대한테이블데이터와비교하여측정대상물의표면성분을분석하고분석결과를화면상에표시한다. 따라서, 본발명은기존의고가의진공장비를이용하여분석하던것을간단하게대기중에서분석할수 있으며, 이에따라분석시간의단축및 비용절감을이룰수 있다.

摘要翻译： 所公开的信息，则涉及一个表面组分分析装置和方法，使用等离子体，反应和存在于表面上通过等离子体射流要测量的控制模块元件的控制的基础上，并且在等离子流直接合并照射等离子体至物体的表面 光测量模块是，根据能级是用于测量汉王属性信息的测量模块中的储存器中的控制模块银矿输出到控制模块通过测量由对象发射的光学特性，以通过等离子体的方法从反应被测量以由等离子体射流照射 将测量对象的表面成分与元素特征和状态的表格数据进行比较，并将分析结果显示在屏幕上。 因此，使用现有的昂贵的真空设备可以容易地在空气中分析本发明，由此缩短分析时间并降低成本。

公开(公告)号：KR101306082B1

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：KR1020100052567

申请日：2010-06-03

申请人： (주)지니아텍

发明人： 심연근 ,  김덕재

IPC分类号： B08B5/00 ,  B08B7/00 ,  H01J9/38

摘要： 본 발명은 lcd등에 사용되는 광학필름표면의 유기 및 무기물 세정장치에 관한 것으로, 구체적으로는 하나의 세정장치에 플라즈마 발생기능과 가스의 고속공급기능이 동시에 구비되도록 하여, 플라즈마발생장치를 통해 발생된 플라즈마가 고속으로 배출되는 가스와 혼합된 상태로 필름표면에 접촉됨에 따라,
플라즈마에 의한 유기물세정과 고속공기에 의한 무기물세정이 동시에 이루어져전체 세정시간을 단축할 수 있음은 물론, 유기물 세정기능과 무기물세정기능이 하나의 장치에 구비되므로 세정장치의 설치공간을 줄일 수 있는 기술에 관한 것이다.
이를 위한 본 발명은,
내부에 설치공간 및 가스 이동로가 형성되고 일측에는 공기공급구가 형성되며 타측에는 가스배출구가 형성된 공급본체,
상기 설치공간에 설치되는 플라즈마 발생부,
상기 공급본체에 연결되어 상기 가스이동로로 가스를 공급하는 가스공급부,
상기 공급본체 측부에 설치되고 내부에 제1흡입공간이 형성되며 양측에 제1가스흡입구 및 제1가스배기구가 형성된 제1배기본체,
를 포함할 수 있다.

公开(公告)号：KR101239710B1

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：KR1020100076440

申请日：2010-08-09

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재

IPC分类号： H01L51/56

摘要： 개시된 내용은 능동형 유기 발광다이오드의 글라스 세정장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 유기물이 증착된 글라스, 그리고 세척 대상의 글라스가 수납되는 공정 챔버를 포함하며, 세척을 위해 수납되는 글라스의 중앙부에 증착된 유기물과 마주보는 위치인 공정 챔버의 하부에 세척 공정시 글라스의 중앙부에 정상적으로 증착된 유기물에 플라즈마 방전이 일어나지 않도록 하는 블로킹 마스크가 판 형상으로 설치되고, 공정 챔버 내의 상부와 블로킹 마스크의 상면에 서로 평행하게 마주보도록 띠 형상으로 상부전극과 하부전극이 설치되며, 전원이 인가되면 공정 챔버에 주입된 반응가스를 매질로 상부전극과 하부전극 사이의 방전 영역에 위치한 글라스에 플라즈마 방전을 일으켜 글라스의 외측 패드부에 증착되어 있는 유기물을 선택적으로 세척한다.
따라서, 본 발명은 세척 대상물인 글라스의 패드부에 증착되어 있는 유기물에만 플라즈마 방전을 일으켜 유기물을 안정적으로 제거하기 때문에 유기물 제거를 위한 공정을 간소화할 수 있으며, 유기물 제거의 생산성을 높인다.

公开(公告)号：KR1020120014405A

公开(公告)日：2012-02-17

申请号：KR1020100076440

申请日：2010-08-09

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재

IPC分类号： H01L51/56

CPC分类号： H01L21/67028 ,  H01L51/5237 ,  H01L51/56

摘要： PURPOSE: A glass cleaning apparatus of an active type organic light emitting diode and a method thereof are provided to arrange a lower electrode and an upper electrode in parallel within a chamber, thereby washing a sheet of glass with large area in a short time. CONSTITUTION: A body stores a sheet of glass(200) which is to be washed. An inlet(111) for injecting a reaction gas is arranged on an outer wall of one side of the body for electric plasma discharge. A frame(120) is vertically installed on four edge parts of the lower surface of the body. A cover(130) covers and seals the opened upper part of the body. An upper electrode(140) and a lower electrode(170) are installed on the lower surface of the cover and the upper surface of a blocking mask(160) by facing each other.

摘要翻译： 目的：提供一种有源型有机发光二极管的玻璃清洁装置及其方法，以在室内平行布置下电极和上电极，从而在短时间内清洗大面积的玻璃板。 构成：身体存放待洗涤的玻璃板（200）。 用于喷射反应气体的入口（111）布置在用于等离子体放电的主体的一侧的外壁上。 框架（120）垂直地安装在主体的下表面的四个边缘部分上。 盖（130）覆盖并密封身体的敞开的上部。 通过彼此面对，在盖的下表面和阻挡掩模（160）的上表面上安装上电极（140）和下电极（170）。

公开(公告)号：KR1020110132946A

公开(公告)日：2011-12-09

申请号：KR1020100052567

申请日：2010-06-03

申请人： (주)지니아텍

发明人： 심연근 ,  김덕재

IPC分类号： B08B5/00 ,  B08B7/00 ,  H01J9/38

摘要： PURPOSE: The removal of the organic material by the plasma and the removal of the inorganic substance by the high gas are at the same time enforced. The whole cleaning time is reduced the under half. CONSTITUTION: A clean equipment for an organic and inorganic material comprises a supply body(110), a plasma generation part(120), a gas supply part(130), and a exhaust body. The supply body has a installation space(112), a gas passage(115), an air supply hole(113), and a gas exhaust hole(114). The plasma generation part is installed in the installation space. Supplies the gas passage the gas it is connected to the gas supply part is the supply body. The exhaust body is installed in the side part of the supply body. The exhaust body has a gas suction hole and a gas exhaust hole(214) upon inside upon a suction space.

摘要翻译： 目的：通过等离子体去除有机材料和通过高气体去除无机物质同时进行。 整个清洁时间减少了一半以下。 构成：用于有机和无机材料的清洁设备包括供应体（110），等离子体产生部分（120），气体供应部分（130）和排气体。 供气体具有安装空间（112），气体通道（115），供气孔（113）和排气孔（114）。 等离子体产生部件安装在安装空间中。 提供气体通道，其连接到气体供应部分的气体是供应体。 排气体安装在供给体的侧部。 排气体在吸入空间内部具有气体吸入孔和排气孔（214）。

公开(公告)号：KR101816780B1

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：KR1020160074708

申请日：2016-06-15

申请人： (주)지니아텍

发明人： 김덕재 ,  심연근

IPC分类号： H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  C23C14/04 ,  B08B7/02 ,  B08B7/00

摘要： 본발명에따른유기발광다이오드제조용마스크건습식하이브리드세정장치는내부에유기발광다이오드제조용마스크가수용되며내부에서발생된플라즈마를이용하여상기마스크에존재하는이물질을세정하는건식플라즈마세정부; 및상기건식플라즈마세정부에의하여세정된마스크를초음파및 유기용매를이용하여습식으로추가적으로세정하는습식초음파세정부;를포함하며, 이는마스크세정공정을매우단순화시킬수 있는장점이있으며, 맹독성으로인체및 환경에매우유해한물질인 NMP (N-Methyl-pyrrolidone) 및 KOH (Potassium hydroxide) 등을사용하지않아매우친환경적인장점을갖는다. 또한본 발명에따른세정장치를이용하여 OLED 제조용마스크를세정하는경운세정시간을매우단축할수 있고, 특히세정장치의크기가기존의습식세정장치에비하여현저하게줄어들게되어세정장치를설치하는공간의낭비를획기적으로줄일수 있는장점또한갖는다.

摘要翻译： 干法等离子体清洁部分的有机发光二极管用于按照本发明的有机发光，用于在其中产生掩模的发光二极管的制造混合掩模干湿式清洁设备，通过使用在所述清洁现有掩模上的外来物质所产生的等离子体; 另外，本发明的湿式超声波清洗装置的特征在于，使用超声波和有机溶剂对由干式等离子体清洗装置清洗后的掩模进行湿式清洗，具有能够大幅度简化掩模清洗处理的优点， 不使用对环境有害的N-甲基吡咯烷酮（NMP）和氢氧化钾（KOH）。 此外，还有可以有效地缩短所述耕耘清洗时间清洗OLED用于通过根据本发明使用的清洗装置使掩模，特别是清洁装置的尺寸显着降低相对于常规的湿法清洁装置的空间的浪费来安装清洗装置 可以大幅降低成本。