트랜지스터 및 표시 장치
    4.
    发明授权
    트랜지스터 및 표시 장치 有权
    晶体管和显示器

    公开(公告)号:KR101823852B1

    公开(公告)日:2018-03-14

    申请号:KR1020127009412

    申请日:2010-08-26

    IPC分类号: H01L29/786 G02F1/1368

    摘要: 양호한전기특성및 높은신뢰성을갖는트랜지스터및 그트랜지스터를포함하는표시장치를제공한다. 트랜지스터는채널영역에대해산화물반도체를사용하여형성된보텀-게이트트랜지스터이다. 가열처리를통해탈수화또는탈수소화된산화물반도체층이활성층으로서사용된다. 활성층은미결정화된표층부의제 1 영역및 나머지부분의제 2 영역을포함한다. 이러한구조를갖는산화물반도체층을사용함으로써, 표층부에대한수분의혼입또는표층부로부터의산소의탈리로인한 n-형으로의변화및 기생채널의생성이억제될수 있다. 또한, 산화물반도체층과소스및 드레인전극들사이의접촉저항이감소될수 있다.

    摘要翻译: 提供具有良好电特性和高可靠性的晶体管以及包括该晶体管的显示装置。 晶体管是使用用于沟道区的氧化物半导体形成的底栅晶体管。 通过热处理脱水或脱氢的氧化物半导体层被用作有源层。 有源层包括微晶化表面层部分的第一区域和剩余部分的第二区域。 通过使用具有这样的结构,在n-型和产生的寄生信道的变化的氧化物半导体层,由于在表面层robuteoui氧的水的表面层部分的引入或消除可被抑制。 此外,可以减小氧化物半导体层与源电极和漏电极之间的接触电阻。

    표시 장치 및 그 제작 방법
    7.
    发明授权
    표시 장치 및 그 제작 방법 有权
    显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR101710345B1

    公开(公告)日:2017-02-27

    申请号:KR1020100082294

    申请日:2010-08-25

    IPC分类号: G02F1/136 H01L29/786

    摘要: 본발명은, 동일기판위의화소회로및 구동회로를상기회로의특성에각각맞춘구조가상이한트랜지스터로형성하고, 표시특성이우수한표시장치를제공한다. 동일기판위에화소부와구동회로부를갖고, 상기구동회로부는게이트전극층, 소스전극층및 드레인전극층이금속막으로구성되고, 또채널층이산화물반도체로구성된구동회로용트랜지스터를갖는다. 또한, 상기화소부는게이트전극층, 소스전극층및 드레인전극층이산화물도전체로구성되고, 또반도체층이산화물반도체로구성된화소용트랜지스터를갖는다. 상기화소용트랜지스터는투광성을갖는재료로형성되고, 고개구율의표시장치를제작할수 있다.

    摘要翻译: 本发明的目的是提供具有优异显示特性的显示装置,其中使用具有对应于各个电路的特性的不同结构的晶体管形成设置在一个基板上的像素电路和驱动电路。 驱动器电路部分包括驱动电路晶体管,其中使用金属膜形成栅电极层,源电极层和漏电极层,并且使用氧化物半导体形成沟道层。 像素部分包括其中使用氧化物导体形成栅电极层,源电极层和漏电极层的像素晶体管,并且使用氧化物半导体形成半导体层。 像素晶体管使用透光材料形成,因此可以制造具有较高开口率的显示装置。

    촬상 장치
    9.
    发明公开
    촬상 장치 审中-实审
    成像装置

    公开(公告)号:KR1020160133512A

    公开(公告)日:2016-11-22

    申请号:KR1020167028315

    申请日:2015-03-06

    摘要: 고품질의화상을촬영할수 있고저비용으로제작할수 있는촬상장치를제공한다. 제 1 회로는제 1 트랜지스터및 제 2 트랜지스터를포함하고, 제 2 회로는제 3 트랜지스터및 포토다이오드를포함한다. 제 1 트랜지스터및 제 3 트랜지스터각각은활성층으로서산화물반도체층을포함하는 n채널트랜지스터이고, 제 2 트랜지스터는실리콘기판에활성영역을포함하는 p채널트랜지스터이다. 포토다이오드는실리콘기판에제공된다. 제 1 트랜지스터와제 2 트랜지스터가절연층을개재하여서로중첩되는영역이제공된다. 제 3 트랜지스터와포토다이오드가상기절연층을개재하여서로중첩되는영역이제공된다.

    摘要翻译: 提供能够以高质量拍摄图像并且可以以低成本制造的成像装置。 第一电路包括第一晶体管和第二晶体管,第二电路包括第三晶体管和光电二极管。 第一晶体管和第三晶体管分别是包括作为有源层的氧化物半导体层的n沟道晶体管,并且第二晶体管是包括硅衬底中的有源区的p沟道晶体管。 光电二极管设置在硅衬底中。 提供了其中第一晶体管和第二晶体管彼此重叠的区域,其间设置有绝缘层。 提供了其中第三晶体管和光电二极管彼此重叠的区域,绝缘层位于其间。