公开(公告)号：KR1020000076802A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：KR1020000011798

申请日：2000-03-09

Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨

Inventor： 잼피니안토니 ,  수쳉-바이 ,  샌드포드해롤드에프.

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C08G8/12 ,  C08G8/04 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236

Abstract: 본발명은신규수지및 광활성성분과본 발명의수지하나이상을포함하는포토레지스트조성물을제공한다. 일예에서, 본발명의수지는메틸올페놀화합물의반응생성물인프레폴리머시약의이용을특징으로할 수있다. 메틸올페놀화합물을상온이상에서및/또는산 존재하에적절히반응시킨다.

公开(公告)号：KR1019990044959A

公开(公告)日：1999-06-25

申请号：KR1019980046902

申请日：1998-11-03

Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨

Inventor： 잼피니안토니 ,  샌드포드해롤드에프

IPC: C07C305/18 ,  C07C245/04

Abstract: 본 발명은 화학식 1의 비대칭성 광활성 화합물에 관한 것이다. 본 발명의 화합물은 저장 안정성 감광성 내식막 조성물의 제조에 적합하다.
화학식 1

상기식에서,
Z는 수소, 탄소수 1 내지 8의 탄화수소, 또는 할로겐이며;
D는 수소 또는 디아조-옥소-나프탈렌-설포닐이며;
n은 1 내지 4이며;
R
1 , R
5 및 R
6 은 독립적으로 탄화수소 또는 할로겐이며;
R
2 는 R
1 과 동일하거나 수소이며;
R
3 은 각각 R
2 와 동일하거나, 하이드록실 또는 -OD이며;
R
4 는 R
2 와 동일하거나 기타의 치환체이며;
단, R
2 하나 이상, 또는 R
4 하나 또는 둘 모두가 수소이외의 것인 경우, 두 개 이상의 D는 디아조-옥소-설포닐 그룹이며, 50몰 퍼센트 이상의 혼합물은 n이 1인 화합물이다.