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公开(公告)号：KR1020100091121A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：KR1020100011441
申请日：2010-02-08
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
Inventor： 카메론제임스에프. , 성진욱 , 아마라존피. , 프로코포윅즈그레고리피. , 바레리데이빗에이.
IPC: C08F220/36 , G03F7/09 , G03F7/027 , C09D167/02 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/091 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/06 , B05D5/061 , B05D7/54 , C08F220/36 , C09D5/006 , C09D133/12 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/322 , C09D167/02 , G03F7/0045 , G03F7/027 , H01L21/0271
Abstract: PURPOSE: An anti-reflective composition, a coated substrate using thereof, and a formation method of a photoresist relief image are provided to reduce a reverse reflection of an exposure irradiated line from the substrate to a photoresist layer. CONSTITUTION: An anti-reflective composition for using with an over-coated photoresist contains a resin including a diels-alder reaction product, and a reaction product between diene and dienophile. A coated substrate includes a coating composition layer including the anti-reflective composition, and a photoresist layer. A resin inside the coating composition includes a reaction product of an imide-containing dienophile and a polycyclic aromatic group.
Abstract translation: 目的：提供抗反射组合物，其使用的涂布基材和光致抗蚀剂浮雕图像的形成方法，以减少从基板到光致抗蚀剂层的曝光照射线的反向反射。 构成：使用过涂层光致抗蚀剂的防反射组合物含有包含狄尔斯 - 阿尔德反应产物和二烯与亲双体之间的反应产物的树脂。 涂覆的基材包括包含抗反射组合物的涂料组合物层和光致抗蚀剂层。 涂料组合物内的树脂包括含酰亚胺的亲二烯体和多环芳基的反应产物。
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公开(公告)号：KR101739832B1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：KR1020100011441
申请日：2010-02-08
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
Inventor： 카메론제임스에프. , 성진욱 , 아마라존피. , 프로코포윅즈그레고리피. , 바레리데이빗에이.
IPC: C08F220/36 , G03F7/09 , G03F7/027 , C09D167/02 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/091 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/06 , B05D5/061 , B05D7/54 , C08F220/36 , C09D5/006 , C09D133/12 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/322
Abstract: 디엔(diene)/친디엔체(dienophile) 반응생성물을포함하는유기코팅조성물, 특히반사방지코팅조성물이제공된다. 본발명의바람직한코팅조성물은기판에서오버코팅된포토레지스트층으로노광조사선이역으로반사되는것을감소시키고/감소시키거나, 평탄화, 등각(conformal) 또는비아-충전(via-fill) 층으로서기능하는데에유용하다.
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公开(公告)号：KR101761199B1
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：KR1020100011439
申请日：2010-02-08
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
Inventor： 카메론제임스에프. , 성진욱 , 아마라존피. , 프로코포윅즈그레고리피. , 바레리데이빗에이. , 리보르비클릭키 , 황우송에스. , 리웬지에 , 바라나시푸쉬카라알. , 포포바이레네와이.
CPC classification number: G03F7/2008 , C08L25/18 , C08L29/02 , C08L33/06 , C08L33/24 , G03F7/091 , G03F7/11
Abstract: 오버코팅된포토레지스트층을현상하는동안단일단계에서의경우를포함하여수성알칼리현상제로현상될수 있는유기코팅조성물, 특히반사방지코팅조성물이제공된다. 바람직한코팅조성물은적어도 4개의상이한작용기를포함하는테트라폴리머를포함한다.
Abstract translation: 有机涂层组合物，是在含有所述水性碱性显影剂的显影剂时eseoui单一步骤中，提供了用于显影外涂敷的光刻胶层特别是抗反射涂料组合物。 优选的涂料组合物包含含有至少四个不同官能团的四元聚合物。
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公开(公告)号：KR1020100091120A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：KR1020100011439
申请日：2010-02-08
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
Inventor： 카메론제임스에프. , 성진욱 , 아마라존피. , 프로코포윅즈그레고리피. , 바레리데이빗에이. , 리보르비클릭키 , 황우송에스. , 리웬지에 , 바라나시푸쉬카라알. , 포포바이레네와이.
CPC classification number: G03F7/2008 , C08L25/18 , C08L29/02 , C08L33/06 , C08L33/24 , G03F7/091 , G03F7/11
Abstract: PURPOSE: An anti-reflective composition, a coated substrate using thereof, and a formation method of a photoresist relief image are provided to develop the compositing with an aqueous alkali developer. CONSTITUTION: A coated substrate using an anti-reflective composition comprises the following: a coating composition layer containing tetrapolymer with four different functional groups; and a photoresist layer located on the coating composition layer. An aqueous alkali developer for a photoresist also develops the coating composition layer. The substrate comprises the tetrapolymer containing polymerization units including maleimide, 9-anthracene-methylmethacrylate, 2-hydroxynaphthalene-methylmethacrylate, and t-butyl acrylate.
Abstract translation: 目的：提供一种抗反射组合物，其使用的涂布基材和光致抗蚀剂浮雕图像的形成方法以开发与碱性显影剂的水合物。 构成：使用抗反射组合物的涂布基材包括以下：含有四个不同官能团的四聚物的涂料组合物层; 以及位于涂料组合物层上的光致抗蚀剂层。 用于光致抗蚀剂的水性碱性显影剂还形成涂料组合物层。 底物包含含有马来酰亚胺，9-蒽甲基甲基丙烯酸酯，2-羟基萘甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸叔丁酯的聚合单元的四元共聚物。
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