레지스트 하층막 형성조성물용 첨가제 및 이를 포함하는 레지스트 하층막 형성조성물
    5.
    发明授权
    레지스트 하층막 형성조성물용 첨가제 및 이를 포함하는 레지스트 하층막 형성조성물 有权
    用于形成抗蚀剂下层膜的组合物用添加剂和用于形成包含该组合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物

    公开(公告)号:KR101779884B1

    公开(公告)日:2017-09-19

    申请号:KR1020147013445

    申请日:2012-10-12

    IPC分类号: G03F7/11 C08F20/36 C08F220/36

    摘要: [과제] 레지스트하층막상에형성되는레지스트패턴의해당레지스트하층막과의밀착성을증대시키고, 나아가서는해당레지스트패턴의언더컷형상을억제한다. [해결수단] 하기식 (1)로표시되는단위구조를가지는중합체로이루어지는레지스트하층막형성조성물용첨가제, 및, 수지바인더, 유기용제및 상기레지스트하층막형성조성물용첨가제를포함하는리소그래피용레지스트하층막형성조성물. (식중, R은수소원자또는메틸기를나타내고, L은 2가의연결기를나타내고, X는 tert-부톡시카르보닐기로보호된아미노기또는 tert-부톡시카르보닐기로보호된함질소복소환을가지는아실옥시기를나타낸다.)

    摘要翻译: [问题]增加形成在抗蚀剂下层膜和,抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜之间的粘附力进一步抑制抗蚀剂图案的底切形状。 [解决问题的手段]下述式(1),包括具有由下式表示的单元结构的聚合物,和树脂粘合剂,一种光刻用抗蚀剂下层,其包括有机溶剂和添加剂,用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物中的添加剂 成膜组合物。 (式中,R表示隐士愿望椅子或甲基,L代表二价连接,X表示具有与叔丁氧羰基保护被保护的氨基或叔丁氧羰基的含氮杂环酰氧基 )。