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公开(公告)号:KR1020160023758A
公开(公告)日:2016-03-03
申请号:KR1020160018267
申请日:2016-02-17
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0042 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0387 , G03F7/075 , G03F7/0757 , G03F7/168
Abstract: 본발명에는주쇄폴리머와표면에너지감소부위를포함하는제1 그라프트폴리머를포함하는코폴리머를포함하고, 여기에서제1 그라프트폴리머는주쇄폴리머상에그라프트되어있으며, 표면에너지감소부위는불소원자, 실리콘원자, 또는불소원자와실리콘원자의조합물을포함하는그라프트블럭코폴리머; 포토애시드발생제; 및가교결합제를포함하는조성물이개시된다.
Abstract translation: 公开了一种自组装结构,其制造方法和包含该组合结构的产品。 更具体地,公开了包含接枝嵌段共聚物,光致酸产生剂和交联剂的组合物。 接枝嵌段共聚物包括含有主链聚合物和具有表面能降低的部分的第一接枝聚合物的共聚物,其中第一接枝聚合物接枝在主链聚合物上,并且表面能降低的部分包括氟原子 硅氧烷原子,或氟原子和硅氧烷原子的混合物。
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公开(公告)号:KR101768053B1
公开(公告)日:2017-08-14
申请号:KR1020140119277
申请日:2014-09-05
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘. , 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , C08G61/08 , C08F293/00 , C09D165/00 , C08L65/00
CPC classification number: G03F7/039 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/1426 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/80 , C08G2261/90 , C08K5/17 , C08K5/20 , C08L65/00 , C09D165/00 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/322 , G03F7/325 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F2220/283 , C08L53/00
Abstract: 본원에그라프트블록코폴리머; 용매및 포토애시드발생제를포함하며, 여기서그라프트블록코폴리머는제1 블록폴리머및 제2 블록폴리머를포함하고; 상기제1 블록폴리머는백본폴리머및 제1 그라프트폴리머를포함하고, 여기서제1 그라프트폴리머는할로탄소부위또는실리콘함유부위를포함하는표면에너지감소부위를포함하고; 제2 블록폴리머는제1 블록에공유결합되어있으며, 여기서제2 블록은백본폴리머와제2 그라프트폴리머를포함하고, 제2 그라프트폴리머는탈보호가진행되어그라프트블록코폴리머의용해도를변경시키는작용기를포함하고, 그라프트블록코폴리머는병 브러쉬위상기하(topology)를가지는포토레지스트조성물이개시된다.
Abstract translation: 本文接枝嵌段共聚物; 一种溶剂和光酸产生剂,其中接枝嵌段共聚物包含第一嵌段聚合物和第二嵌段聚合物; 其中第一嵌段聚合物包含骨架聚合物和第一接枝聚合物,其中第一接枝聚合物包含含有卤代碳部分或硅部分的表面能减少部分; 第二嵌段聚合物共价键合至第一嵌段,其中第二嵌段包含主链聚合物和第二接枝聚合物,其中第二接枝聚合物经历脱保护以降低接枝嵌段共聚物 其中接枝嵌段共聚物具有瓶刷拓扑结构。
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公开(公告)号:KR1020150028753A
公开(公告)日:2015-03-16
申请号:KR1020140119277
申请日:2014-09-05
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘. , 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , C08G61/08 , C08F293/00 , C09D165/00 , C08L65/00
CPC classification number: G03F7/039 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/1426 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/80 , C08G2261/90 , C08K5/17 , C08K5/20 , C08L65/00 , C09D165/00 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/322 , G03F7/325 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F2220/283 , C08L53/00
Abstract: 본원에 그라프트 블록 코폴리머; 용매 및 포토애시드 발생제를 포함하며, 여기서 그라프트 블록 코폴리머는 제1 블록 폴리머 및 제2 블록 폴리머를 포함하고; 상기 제1 블록 폴리머는 백본 폴리머 및 제1 그라프트 폴리머를 포함하고, 여기서 제1 그라프트 폴리머는 할로탄소 부위 또는 실리콘 함유 부위를 포함하는 표면 에너지 감소 부위를 포함하고; 제2 블록 폴리머는 제1 블록에 공유결합되어 있으며, 여기서 제2 블록은 백본 폴리머와 제2 그라프트 폴리머를 포함하고, 제2 그라프트 폴리머는 탈보호가 진행되어 그라프트 블록 코폴리머의 용해도를 변경시키는 작용기를 포함하고, 그라프트 블록 코폴리머는 병 브러쉬 위상기하(topology)를 가지는 포토레지스트 조성물이 개시된다.
Abstract translation: 在本发明中,公开了一种光致抗蚀剂组合物,其包含:接枝嵌段共聚物; 溶剂; 和光酸产生剂。 接枝嵌段共聚物包括第一嵌段聚合物和第二嵌段聚合物。 第一嵌段聚合物包括主链聚合物和第一接枝聚合物,其中第一接枝聚合物包括包含卤化碳单元或含硅单元的表面能减少单元。 第二嵌段聚合物与第一嵌段共价键合,第二嵌段包括主链聚合物和第二接枝聚合物。 第二接枝聚合物包括其中进行脱保护以使接枝嵌段共聚物的溶解度可以改变的官能团,并且接枝嵌段共聚物具有瓶刷结构。
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公开(公告)号:KR102019697B1
公开(公告)日:2019-09-09
申请号:KR1020160018267
申请日:2016-02-17
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
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公开(公告)号:KR101955945B1
公开(公告)日:2019-03-08
申请号:KR1020130140757
申请日:2013-11-19
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
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公开(公告)号:KR101554152B1
公开(公告)日:2015-09-18
申请号:KR1020130140695
申请日:2013-11-19
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
IPC: C08F285/00 , C08F299/00 , C08F232/00 , C08F232/08 , C08J5/00 , G03F7/004
CPC classification number: C08F283/14 , C08F2438/01 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/135 , C08G2261/136 , C08G2261/1426 , C08G2261/145 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/74 , C08G2261/76 , C08G2261/77
Abstract: 본발명에는주쇄폴리머와제1 그라프트폴리머를포함하고; 여기서제1 그라프트폴리머는표면에너지감소부위를포함하는것인, 제1 블럭폴리머; 및제1 블럭에공유결합되어있으며; 제2 블럭은주쇄폴리머와제2 그라프트폴리머를포함하고; 여기서제2 그라프트폴리머는그라프트블럭코폴리머를가교결합시키도록작용하는작용기를포함하는것인, 제2 블럭폴리머를포함하는그라프트블럭코폴리머가개시되어있다.
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公开(公告)号:KR1020150028752A
公开(公告)日:2015-03-16
申请号:KR1020140119059
申请日:2014-09-05
Applicant: 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템 , 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
Inventor: 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘. , 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터
IPC: C08G81/02 , C08F255/00 , C08F232/00 , C08F285/00
CPC classification number: G03F7/038 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/136 , C08G2261/1426 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/80 , C08G2261/90 , C08L51/003 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F2220/283 , C08G81/02 , C08F232/00 , C08F255/00 , C08F285/00 , C08F299/024
Abstract: 본원에 백본 폴리머 및 제1 그라프트 폴리머를 포함하며, 여기서 제1 그라프트 폴리머는 할로탄소 부위, 실리콘 함유 부위, 또는 할로탄소 부위와 실리콘 함유 부위의 조합을 포함하는 표면 에너지 감소 부위를 포함하는 제1 블록 폴리머; 및 제1 블록에 공유결합되어 있으며, 여기서 제2 블록은 백본 폴리머와 제2 그라프트 폴리머를 포함하고, 제2 그라프트 폴리머는 현상제 용매에서 그라프트 블록 코폴리머의 용해도를 변경시키기 위해 산 촉매화 탈보호가 진행되는 작용기를 포함하는 제2 블록 폴리머를 포함하는 그라프트 블록 코폴리머가 개시된다.
Abstract translation: 本发明公开了一种包含第一嵌段聚合物的接枝共聚物; 所述第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物; 其中第一接枝聚合物包含表面能减少部分,其包含卤代烃部分,含硅部分或卤代烃部分和含硅部分的组合; 第二嵌段聚合物; 第二嵌段聚合物共价键合到第一嵌段; 其中所述第二嵌段包含主链聚合物和第二接枝聚合物; 其中第二接枝聚合物包含官能团,其可操作以进行酸催化脱保护,导致接枝嵌段共聚物在显影剂溶剂中的溶解度变化。
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公开(公告)号:KR1020140064676A
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:KR1020130140757
申请日:2013-11-19
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
CPC classification number: G03F7/2004 , C08F2438/03 , C08G2261/126 , C08G2261/136 , C08G2261/146 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/40
Abstract: The present invention relates to a composition including a graft block copolymer comprising a first block polymer comprising a main chain polymer and a first graft polymer, wherein the first graft polymer comprises a surface energy reduction site, and a second graft polymer covalent bonded with the first block, wherein a second block comprises a main chain polymer and a second graft polymer which comprises a functional group acting on crosslinking the graft block copolymer; a photo acid generator; and a crosslinking agent.
Abstract translation: 本发明涉及包含接枝嵌段共聚物的组合物,该接枝嵌段共聚物包括含有主链聚合物和第一接枝聚合物的第一嵌段聚合物,其中第一接枝聚合物包含表面能还原位点,和第二接枝聚合物与第一接枝聚合物共价键合 嵌段,其中第二嵌段包含主链聚合物和第二接枝聚合物,其包含作用于交联接枝嵌段共聚物的官能团; 光酸产生器; 和交联剂。
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公开(公告)号:KR1020140064675A
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:KR1020130140725
申请日:2013-11-19
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템
Inventor: 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터 , 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘.
IPC: G03F7/004 , G03F7/26 , C08L51/06 , C08F277/00 , C08L65/00
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0042 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/038 , G03F7/0387 , G03F7/075 , G03F7/0757 , G03F7/168 , G03F7/004
Abstract: The present invention relates to a composition which includes: a graft block copolymer which includes a copolymer including a first graft polymer containing a main chain polymer and a surface energy reducing part, wherein the first graft polymer is grafted on the main chain polymer, and the surface energy reducing part includes a fluorine atom, a silicon atom, or a combination of the fluorine atom and the silicon atom; a photoacid generator; and a cross-linking agent.
Abstract translation: 本发明涉及一种组合物,其包括:接枝嵌段共聚物,其包含共聚物,其包含含有主链聚合物的第一接枝聚合物和表面能减少部分,其中所述第一接枝聚合物接枝在所述主链聚合物上, 表面能减少部分包括氟原子,硅原子或氟原子和硅原子的组合; 光致酸发生器; 和交联剂。
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公开(公告)号:KR101723886B1
公开(公告)日:2017-04-06
申请号:KR1020140119059
申请日:2014-09-05
Applicant: 더 텍사스 에이 앤드 엠 유니버시티 시스템 , 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
Inventor: 조상호 , 썬궈룽 , 울리카렌엘. , 태커리제임스더블유. , 트레포나스3세피터
IPC: C08G81/02 , C08F255/00 , C08F232/00 , C08F285/00
CPC classification number: G03F7/038 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/136 , C08G2261/1426 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/80 , C08G2261/90 , C08L51/003 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F2220/283
Abstract: 본원에백본폴리머및 제1 그라프트폴리머를포함하며, 여기서제1 그라프트폴리머는할로탄소부위, 실리콘함유부위, 또는할로탄소부위와실리콘함유부위의조합을포함하는표면에너지감소부위를포함하는제1 블록폴리머; 및제1 블록에공유결합되어있으며, 여기서제2 블록은백본폴리머와제2 그라프트폴리머를포함하고, 제2 그라프트폴리머는현상제용매에서그라프트블록코폴리머의용해도를변경시키기위해산 촉매화탈보호가진행되는작용기를포함하는제2 블록폴리머를포함하는그라프트블록코폴리머가개시된다.
Abstract translation: 它包括一个主链聚合物和在本申请中,其中,所述第一接枝聚合物是包括碳部分,所述含硅区域,或表面能降低,其包含碳区域和所述含硅区域到区域的组合的第一接枝聚合物 第一嵌段聚合物; Mitje其共价连接到第一块,其中所述第二块包含主链聚合物和第二接枝聚合物,所述第二接枝聚合物具有酸改变在显影剂溶剂催化剂hwatal接枝嵌段共聚物中的溶解度 公开了包含含有被保护的官能团的第二嵌段聚合物的接枝嵌段共聚物。
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