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公开(公告)号:KR101311616B1
公开(公告)日:2013-09-26
申请号:KR1020120086830
申请日:2012-08-08
Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
Abstract: 본 발명은 반송부에서의 대기 시간의 발생을 억제할 수 있는 처리 시스템 및 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태에 따른 처리 시스템은, 피처리물을 수납하는 수납부와, 상기 피처리물에 처리를 실시하는 처리부와, 상기 피처리물을 배치하는 유지부를 적층 방향으로 제1 간격을 두고 복수개 갖는 배치부와, 상기 수납부와 상기 배치부의 사이에서 상기 피처리물을 반송하며, 상기 적층 방향에 있어서의 제1 위치에서 상기 배치부에 침입하는 제1 반송부와, 상기 처리부와 상기 배치부의 사이에서 상기 피처리물을 반송하며, 상기 적층 방향에 있어서 상기 제1 위치와는 상이한 제2 위치에서 상기 배치부에 침입하는 제2 반송부를 구비한다. 그리고, 상기 제1 위치는 상기 제2 위치를 사이에 두고 상기 적층 방향으로 2개소 설정되고, 상기 제1 반송부와 상기 제2 반송부가 상기 배치부에 동시기에 침입하는 것이 가능하게 된다.-
公开(公告)号:KR1020150037543A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:KR1020140124774
申请日:2014-09-19
Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: B08B3/10 , H01L21/67028
Abstract: 기판표면의세정액을휘발성용매로확실하게치환하여기판건조시의패턴도괴를유효하게방지한다. 기판처리장치(100)에있어서, 세정액을저농도의휘발성용매로치환하고, 그후에또한, 고농도의휘발성용매로치환하는용매치환수단[유기용매공급부(15) 및용매공급부(34)]을포함한다.
Abstract translation: 当通过挥发性溶剂肯定地取代基材表面上的洗涤水来干燥基材时,有效地防止了图案破坏。 基板处理装置(100)包括用溶剂取代装置用低浓度挥发性溶剂代替洗涤水,然后用高浓度挥发性溶剂代替; 和溶剂供给部(34)。
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公开(公告)号:KR1020130018149A
公开(公告)日:2013-02-20
申请号:KR1020120086830
申请日:2012-08-08
Applicant: 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/67754 , H01L21/68707 , Y10S414/137
Abstract: PURPOSE: A processing system and a processing method are provided to easily transfer a wafer to arbitrary positions of an arranging unit and a receiving unit by moving a maintaining unit on the upper side of a moving unit by a lifting driver. CONSTITUTION: A receiving unit(2) receives an object(W). A processing unit(6) variously processes the object. An arranging unit(4) includes a maintaining unit to arrange the object. A first transfer unit(3) transfers the object between the receiving unit and the arranging unit. A second transfer unit(5) transfers the object between the processing unit and the arranging unit. A case(7) receives the first transfer unit, the arranging unit, the second transfer unit, and the processing unit.
Abstract translation: 目的:提供一种处理系统和处理方法,以便通过提升驱动器移动移动单元的上侧的保持单元来容易地将晶片传送到布置单元和接收单元的任意位置。 构成:接收单元(2)接收对象(W)。 处理单元(6)对物体进行各种处理。 布置单元(4)包括用于布置物体的保持单元。 第一传送单元(3)在接收单元和排列单元之间传送对象。 第二传送单元(5)在处理单元和布置单元之间传送对象。 情况(7)接收第一传送单元,排列单元,第二传送单元和处理单元。
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