公开(公告)号：KR1020060086865A

公开(公告)日：2006-08-01

申请号：KR1020060007615

申请日：2006-01-25

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 첸,시아오이 ,  그림버젠,마이클 ,  찬드라추드,마드하비 ,  트란,제프리엑스. ,  쿠마,아자이 ,  탐,시몬 ,  크리쉬나머씨,라메쉬

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23F4/00 ,  G03F1/30 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80 ,  C03C17/36

Abstract: 크롬을 에칭하는 방법이 제공된다. 일 실시예에서, 크롬을 에칭하는 방법은 에칭 챔버에 패터닝된층을 통해 부분적으로 노출된 크롬층을 갖는 막스택을 제공하는 단계, 프로세스 챔버에 적어도 하나의 할로겐 함유 프로세스 가스를 제공하는 단계, 600Watt 미만의 다수의 전력 펄스로 프로세싱 챔버의 기판 지지체 상에 배치된 층을 바이어싱하는 단계, 및 패터닝된 마스크를 통해 크롬층을 에칭하는 단계를 포함한다. 본 명세서에 개시된 크롬층을 플라즈마 에칭하는 방법은 포토마스크를 제조하는데 특히 적합하다.

公开(公告)号：KR101196617B1

公开(公告)日：2012-11-05

申请号：KR1020060007615

申请日：2006-01-25

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 첸,시아오이 ,  그림버젠,마이클 ,  찬드라추드,마드하비 ,  트란,제프리엑스. ,  쿠마,아자이 ,  탐,시몬 ,  크리쉬나머씨,라메쉬

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23F4/00 ,  G03F1/30 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80

Abstract: 크롬을 에칭하는 방법이 제공된다. 일 실시예에서, 크롬을 에칭하는 방법은 에칭 챔버에 패터닝된층을 통해 부분적으로 노출된 크롬층을 갖는 막스택을 제공하는 단계, 프로세스 챔버에 적어도 하나의 할로겐 함유 프로세스 가스를 제공하는 단계, 600Watt 미만의 다수의 전력 펄스로 프로세싱 챔버의 기판 지지체 상에 배치된 층을 바이어싱하는 단계, 및 패터닝된 마스크를 통해 크롬층을 에칭하는 단계를 포함한다. 본 명세서에 개시된 크롬층을 플라즈마 에칭하는 방법은 포토마스크를 제조하는데 특히 적합하다.