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公开(公告)号:KR102001720B1
公开(公告)日:2019-07-18
申请号:KR1020167003760
申请日:2014-09-24
Applicant: 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘.
IPC: C08F220/14 , C08F220/40 , C08F212/08 , C08F220/18 , H01L21/02 , H01L21/027
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公开(公告)号:KR1020160061971A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:KR1020167003760
申请日:2014-09-24
Applicant: 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘.
IPC: C08F220/14 , C08F220/40 , C08F212/08 , C08F220/18 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02118 , C08F220/14 , C08F220/40 , G03F7/00 , H01L21/02282 , C08F212/08 , C08F220/18 , H01L21/0274
Abstract: 자기조립구조의형성을촉진하기위한경화된하지층의침착용제제가본 명세서에개시된다. 상기하지층은: (a) 하기구조 (I)을갖는 1 이상의현수비닐에테르단량체반복단위를포함하는중합체:(식중, R은 H, C-C알킬또는할로겐에서선택되고, W는 C-C알킬렌, C-C아릴렌, 벤질렌또는 C-C알킬렌옥시알킬렌에서선택되는 2가기임); (b) 임의의열산발생제; 및 (c) 용매를포함한다. 본발명은또한상기하지층을이용하는패턴의형성방법에관한것이다.
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