公开(公告)号：KR20180069113A

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR20187016721

申请日：2012-01-26

申请人： JSR CORP

发明人： SAKAKIBARA HIROKAZU ,  MIYATA HIROMU ,  FURUKAWA TAIICHI ,  ITO KOJI

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： 본발명은유기용매를현상액에이용하는패턴형성법에있어서, 현상후의미싱콘택트홀 및노광부표면의조도의발생을억제할수 있음과동시에, 해상도, 원형성등의리소그래피특성이우수한포토레지스트조성물을제공하는것을과제로한다. 상기과제를해결하기위해서이루어진발명은, 유기용매현상용포토레지스트조성물로서, [A] 산해리성기를갖는구조단위 (a1)을포함하는베이스중합체, [B] 산해리성기를갖는구조단위 (b1)을포함하고, 불소원자함유율이 [A] 중합체보다높은중합체, 및 [C] 산발생체를함유하고, 또한상기구조단위 (b1)이하기화학식 (1) 또는화학식 (2)로표시되는것인포토레지스트조성물이다.