公开(公告)号：KR101920165B1

公开(公告)日：2018-11-19

申请号：KR1020170119730

申请日：2017-09-18

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 하타케야마준 ,  오하시마사키

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C69/753 ,  C07C69/76 ,  C07C69/78 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C08F212/02 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F228/02 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

摘要： 본발명은, 증감효과가높고, 산확산을억제하는효과도가지며, 해상성, LWR, CDU가양호한레지스트재료및 이것을이용하는패턴형성방법을제공하는것을목적으로한다. 상기과제는, 베이스폴리머와, 요오드화방향족기를갖는카르복실산의, 2,5,8,9-테트라아자-1-포스파비시클로[3.3.3]운데칸염, 비구아니드염 또는포스파젠염을포함하는레지스트재료에의해해결된다.

公开(公告)号：KR101845121B1

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：KR1020137025472

申请日：2012-03-07

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 히라노도모유키 ,  다카키다이치 ,  시오노다이주 ,  곤노겐리 ,  다카기이사무

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  G03F7/038 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/325 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F226/02 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： 산의작용에의해유기용제에대한용해성이감소하는기재성분 (A) 를함유하는레지스트조성물을이용하여지지체상에레지스트막을형성하는공정, 그레지스트막을노광하는공정, 및그 레지스트막을, 상기유기용제를함유하는현상액을이용한네거티브형현상에의해패터닝하여레지스트패턴을형성하는공정을포함하는레지스트패턴형성방법으로서, 상기기재성분 (A) 로서, 노광에의해산을발생하는구성단위 (a0) 과α 위치의탄소원자에결합된수소원자가치환기로치환되어있어도되는아크릴산에스테르로부터유도되는구성단위로서산의작용에의해극성이증대되는산 분해성기를포함하는구성단위 (a1) 을갖는수지성분을이용하고, 상기현상액으로서니트릴계용제를함유하는현상액을사용한다.

公开(公告)号：KR101819061B1

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：KR1020137011373

申请日：2011-12-02

申请人： 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤

发明人： 사하데다니엘안토니오

IPC分类号： C07D307/58 ,  C07D407/12 ,  C08F224/00 ,  G02F1/1335

CPC分类号： C07D307/58 ,  C08F224/00

摘要： 하기식[1] 또는식[2]으로표시되는중합성화합물, 그것을함유하는중합성액정조성물, 그로부터얻어지는중합체, 피막및 배향필름및 당해배향필름을구비하는광학부재를제공한다. (식중, n1 및 n2는각각독립적으로 3~10의정수를나타내고, m은 3~10의정수를나타낸다.)

摘要翻译： 提供由下式[1]或式[2]表示的可聚合化合物，含有其的缩合液晶组合物，由其得到的聚合物，涂膜和取向膜，以及包含该取向膜的光学部件。 （式中，n1和n2分别独立地表示3〜10的数，m表示3〜10的数。）

公开(公告)号：KR101821620B1

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：KR1020167019792

申请日：2015-01-13

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 요코카와나츠미 ,  야마구치슈헤이 ,  타카하시코우타로우

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F1/22 ,  G03F7/32 ,  C08F12/14 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C07C39/04

CPC分类号： G03F7/038 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  C08F12/18 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F112/14 ,  C08F116/10 ,  C08F214/186 ,  C08F216/10 ,  C08F220/16 ,  C08F220/20 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F224/00 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/2065 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F212/34

摘要： 감활성광선성또는감방사선성수지조성물은, 일반식 (4)로나타나는반복단위를포함하는수지 (A), 및극성기를포함하는가교제 (C)를함유하고, 상기가교제 (C)가, 일반식 (1)로나타나는화합물, 또는 2~5개의일반식 (1)로나타나는구조가, 일반식 (3) 중의 L에의하여나타나는연결기또는단결합을통하여연결된화합물이다.(일반식 (1)~(4)에있어서의각 부호의정의는, 특허청구범위에기재된바와같다.) [화학식 1]

摘要翻译： 使用光化射线或含有式（4）重复树脂（A），和不包括极性基团缔合（C），包括由表示的单元，和交联剂（C），一般最后辐射敏感性树脂组合物的感 由式（1）化合物所表示的结构，或两个至五个通式（1）由通式（3）表示是通过由用L在（通式（1）表示的连接基团或单键连接的化合物 - （4）如权利要求中所定义。）[式1]

公开(公告)号：KR101812371B1

公开(公告)日：2017-12-26

申请号：KR1020137028200

申请日：2012-03-30

申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니

发明人： 비쉬,크리스토퍼,존 ,  모르켄,피터,에이. ,  휠랜드,로버트,클레이톤

IPC分类号： C08L27/12 ,  C08L27/18 ,  C08K5/00 ,  C08K5/24 ,  C08K5/405

CPC分类号： C08F224/00 ,  C08F220/42 ,  C08G65/007 ,  C08L27/12 ,  C08L71/00

摘要： 니트릴-함유경화부위단량체의공중합된단위를갖는플루오로탄성중합체를포함하는플루오로탄성중합체조성물이소정하이드라지드경화제로경화된다. 하이드라지드는일반식 R(C(O))NHNHR(여기서, n은 1 또는 2이고; R은 NH, NHNH, NHR, NR, NHNHC(O)NH, NHNHC(O)NHNH, NHNHR, 또는 NHC(O)NHNH이고; R는 H, 알킬, 아릴, 헤테로사이클, COR, C(O)R, CHR, 또는 C(O)R이고; R은알킬, 아릴, 헤테로사이클, 또는 CHR이고; R는플루오로알킬기임)의것이다.

摘要翻译： 包含具有含腈固化部位单体的共聚单元的含氟弹性体的含氟弹性体组合物用固化酰肼固化剂固化。 海德大型起重通式R（C（O））NHNHR（式中，n是1或2; R是NH，NHNH，NHR，NR，NHNHC（O）NH，NHNHC（O）NHNH，NHNHR，或NHC（ O）NHNH，和; R为H，烷基，芳基，杂环基，COR，C（O）R，CHR，或C（O）R A; R是烷基，芳基，杂环，或一个CHR; R是氟 烷基）。

公开(公告)号：KR1020170101801A

公开(公告)日：2017-09-06

申请号：KR1020170024024

申请日：2017-02-23

申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨

发明人： 에마드,아큐드 ,  제임스더블유.새커리 ,  제임스에프.카메론

IPC分类号： C07C309/70 ,  C08F220/38 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/17 ,  C08F224/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/327 ,  C08F2220/1866 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/382

摘要： 모노머는하기구조를갖는다:상기식 중, R은중합성탄소-탄소이중결합또는탄소-탄소삼중결합을포함하는유기기이고; X 및 Y는독립적으로각 경우에수소또는비-수소치환체이고; EWG1 및 EWG2는독립적으로각 경우에전자끄는기이고; p는 0, 1, 2, 3, 또는 4이고; n은 1, 2, 3, 또는 4이고; 그리고 M는유기양이온이다. 모노머로부터제조된폴리머는포토레지스트조성물의구성요소로서유용하다.

摘要翻译： 单体具有如下结构：其中R是包含可聚合碳 - 碳双键或碳 - 碳三键的有机基团; X和Y在每次出现时独立地为氢或非氢取代基; EWG1和EWG2在每种情况下都是独立的吸电子基团; p是0,1,2,3或4; n是1,2,3或4; M是有机阳离子。 由单体制备的聚合物可用作光刻胶组合物的组分。

公开(公告)号：KR101603346B1

公开(公告)日：2016-03-14

申请号：KR1020100075698

申请日：2010-08-05

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 와타나베다케루 ,  니시츠네히로 ,  이이오마사시

IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/70466 ,  C08F220/60 ,  C08F224/00 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

摘要： (I) 산으로알칼리용해성이증가하는반복단위및 락톤구조함유반복단위를갖는고분자화합물을베이스수지로서포함하는포지티브형레지스트재료를기판상에도포하여제1 레지스트막을형성하며노광, 알칼리현상하여짧은변이 200 ㎚이상의포지티브패턴인대면적패턴을포함하는제1 레지스트패턴을형성하는공정, (Ⅱ) 제1 레지스트패턴상에공역산(pKa)이 4 이상의염기성함질소화합물을갖는레지스트변성용조성물을도포하고, 가열하여제1 레지스트패턴의변성처리를행하는공정, (Ⅲ) 그위에제2 포지티브형레지스트재료를도포하며노광, 알칼리현상하여제2 레지스트패턴을형성하는공정을 포함하는다중패턴형성방법이고, 제2 레지스트패턴형성후의제1 레지스트패턴중 대면적패턴잔막률이 50% 이상인패턴형성방법. 본발명의레지스트변성용조성물을이용한더블패터닝프로세스에서, 유효한얼라이먼트마크의형성이가능.

公开(公告)号：KR1020160024810A

公开(公告)日：2016-03-07

申请号：KR1020150119450

申请日：2015-08-25

申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

发明人： 마스야마다츠로 ,  야마모토사토시 ,  이치카와고지

IPC分类号： C07C69/76 ,  C07C13/32 ,  C07C13/615 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08L101/00

CPC分类号： C07C69/753 ,  C07C69/74 ,  C07C69/75 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C08F14/18 ,  C08F214/182 ,  C08F222/10 ,  C08F224/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： 식 ( i a)로나타내어지는기를갖는화합물: 식중, r1은 c1 내지 c8의불소화알킬기를나타내고, r2는치환기를갖고있어도되는 c5 내지 c18의지환식탄화수소기를가지는기를나타내고, *은결합손을나타낸다.

摘要翻译： 化合物具有由式（Ia）表示的基团。 在式中，R 1是C 1〜C 8的氟化烷基; R 2是具有可具有取代基的C 5〜C 18取代烃基的基团; 和*是一个绑定站点。 抗蚀剂组合物包含：具有酸不稳定基团的树脂; 和酸发生剂。 本发明的化合物可用作抗蚀剂组合物的树脂。

公开(公告)号：KR1020150128584A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：KR1020150063256

申请日：2015-05-06

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 사게하시마사요시 ,  후지와라다카유키 ,  하세가와고지 ,  다니구치료스케

IPC分类号： C08F234/02 ,  C08F234/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D307/83 ,  C07D307/935 ,  C07D491/048 ,  C07D493/04 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D493/22 ,  C07D495/04 ,  C07D495/14 ,  C07D495/18 ,  C07D495/22 ,  C07D519/00 ,  C08F2/44 ,  C08F24/00 ,  C08F28/06 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F220/36 ,  C08F224/00 ,  C08F228/02 ,  C08F228/06 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/365 ,  C08L33/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

摘要： [해결수단] 일반식(1)으로나타내어지는단량체.(R은 H, CH또는 CF, R, R은수소원자또는 1가의탄화수소기를나타내고, R와 R은상호결합하여이들이결합하는탄소원자와함께지환기를형성하여도좋다. X은 2가의탄화수소기를나타내고, 2가의탄화수소기를구성하는 -CH-가 -O- 또는 -C(=O)-로치환되어있어도좋다. k은 0 또는 1을나타낸다. Z는이것이결합하는 2개의탄소원자와함께형성되는, 헤테로원자를포함하고있어도좋은 5 또는 6원환의지환기를나타낸다) [효과] 본발명에따른포토레지스트재료는, 보존안정성이우수하고, 또한종래의알칼리현상에의한포지티브형의패턴형성뿐만아니라, 유기용제현상에서의포지티브네거티브반전의화상형성에있어서, 높은용해콘트라스트, 산확산제어, 낮은러프니스등의제반특성이우수하다.

摘要翻译： 本发明涉及由化学式（1）表示的单体，其中R 1表示H，CH 3或CF 3; R 2和R 3代表氢基或一价烃基并且可以彼此结合形成具有与其结合的碳原子的取代基; X 1表示二价烃基，构成烃基的-CH 2 - 可以被-O-或-C（= O） - 取代; k表示0或1; Z表示与两个结合的碳原子形成的五环或六环取代基，可以包括杂原子。 根据本发明的光致抗蚀剂材料具有优异的储存稳定性，并且当不仅通过现有的碱显影形成正型图案，而且形成图像时，具有优异的一般性能，例如高溶解度对比度，高酸扩散控制和低粗糙度 形成为利用有机溶剂将正像转印成负像。

公开(公告)号：KR101566094B1

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：KR1020137018010

申请日：2012-01-10

申请人： 미쯔비시 케미컬 주식회사

发明人： 니시이,히로유끼 ,  가사이,도시히로

IPC分类号： C08F220/10 ,  C08L33/06 ,  C08L63/00 ,  H01L23/29

CPC分类号： H01L23/10 ,  C08F2/20 ,  C08F220/10 ,  C08F220/18 ,  C08F222/1006 ,  C08F224/00 ,  C08L63/00 ,  C08L2312/00 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00 ,  C08L33/06 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2220/325 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/14

摘要： 본발명은 (메트)아크릴산에스테르단량체단위및 가교성단량체단위를포함하고, 부피평균일차입경이 0.5 ㎛내지 10 ㎛이며, 가교성단량체를제외한단량체성분의 FOX식으로구해지는유리전이온도가 30℃이상이고, 23℃에서의굴절률이 1.490 내지 1.510인에폭시수지용가교중합체입자; 이가교중합체입자와에폭시수지와경화제를포함하는에폭시수지조성물및 이수지조성물을경화하여얻어지는무색투명성과균열내성을갖는에폭시경화물이개시된다.