기판 세정 방법 및 기판 세정 장치
    2.
    发明授权
    기판 세정 방법 및 기판 세정 장치 有权
    基板清洗方法和基板清洗装置

    公开(公告)号:KR101612633B1

    公开(公告)日:2016-04-14

    申请号:KR1020140174808

    申请日:2014-12-08

    IPC分类号: H01L21/302

    摘要: [과제] 택트타임및 러닝코스트를증대시키는일 없이, 기판의한쪽주면에형성된패턴이데미지를받는것을억제하면서기판의다른쪽주면을양호하게세정한다. [해결수단] 기판의한쪽주면에제1 액체를공급하여제1 액막을형성하는액막형성공정과, 제1 액막이한쪽주면에형성된상태로제2 액체에초음파를인가한초음파인가액을기판의다른쪽주면에공급하여다른쪽주면을세정하는세정공정을구비하고, 제1 액체는, 기판의주면상에존재하는액체에초음파가전달될때에상기액체중에서발생하는캐비테이션에의해기판에작용하는단위면적당응력인캐비테이션강도가제2 액체보다낮다.

    초음파 세정 장치 및 초음파 세정 방법
    3.
    发明公开
    초음파 세정 장치 및 초음파 세정 방법 有权
    超声波清洗装置和超声波清洗方法

    公开(公告)号:KR1020150070101A

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:KR1020157006415

    申请日:2014-10-15

    IPC分类号: B08B3/12

    摘要: [과제] 피세정물을세정할때에사용하는세정액의양을줄이는것을과제로한다. [해결수단] 초음파진동자(11)와, 상기초음파진동자와접촉해서설치된저액부(12)와, 상기저액부내로세정액(13)을유입시키는유입구(12a)와, 상기저액부밖으로상기세정액을유출시키는유출구(12b)를구비하고, 상기초음파진동자가상기세정액과접촉하는접촉면(11a)은상기유입구및 상기유출구각각보다낮게배치되어있는초음파세정장치이다.

    摘要翻译: 为了减少清洗被清洗物体所使用的清洗液的量。 一种超声波清洗装置,包括:超声波振子11; 设置成与超声波振子接触的液体存储部12; 使清洗液13流入液体储存部的流入口12a; 以及使清洗液体流出液体储存部的流出口12b,其中超声波振动器与清洗液接触的接触面11a配置成比流入口和流出口的每一个低。

    화학적기계적연마장치, 그의 패드 컨디셔너의 세정 장치 및세정 방법
    6.
    发明公开
    화학적기계적연마장치, 그의 패드 컨디셔너의 세정 장치 및세정 방법 无效
    化学机械抛光装置,用于其的垫片调节器的清洁装置及其清洁方法

    公开(公告)号:KR1020100077955A

    公开(公告)日:2010-07-08

    申请号:KR1020080136050

    申请日:2008-12-29

    发明人: 박찬호

    摘要: PURPOSE: A chemical mechanical polishing device which can prevent scratches on a wafer is provided to increase a pad conditioning effect in a short time and to increase the cleaning effect of the pad conditioner. CONSTITUTION: A chemical mechanical polishing device comprises a cleaning plate(161), a megasonic supply unit(171), a nitrogen supply unit(172), and a pure water supply unit(173). A plurality of holes(165) of the washing plate is correspondently formed to a cleaning surface of the diamond disk. The megasonic supply unit supplies megasonic in the washing plate. The nitrogen supply unit supplies nitrogen gas in the washing plate. The pure water supply part supplies the pure water in the washing plate.

    摘要翻译: 目的:提供能够防止在晶片上划伤的化学机械抛光装置,以在短时间内增加垫调节效果,并增加垫调节剂的清洁效果。 构成:化学机械抛光装置包括清洁板(161),兆声波供应单元(171),氮气供应单元(172)和纯水供应单元(173)。 清洗板的多个孔(165)相应地形成在金刚石圆盘的清洁表面上。 兆声波供应单元在洗衣板中提供兆声波。 氮气供应单元在洗涤板中供应氮气。 纯水供应部件在洗涤板中供应纯水。

    강판의 세정 방법 및 강판의 연속 세정 장치
    7.
    发明公开
    강판의 세정 방법 및 강판의 연속 세정 장치 有权
    钢板冲压加工方法及钢板连续冲压设备

    公开(公告)号:KR1020090129499A

    公开(公告)日:2009-12-16

    申请号:KR1020097022787

    申请日:2008-04-30

    IPC分类号: C23G1/08 C23G3/02

    摘要: Provided are a steel sheet rinsing method for rinsing a running steel sheet, and a steel sheet continuous rinsing apparatus. A rinsing liquid, to which ultrasonic waves of a frequency of 0.8 MHz to 3 MHz are applied, is fed at such an angle to the steel sheet surface by a shower method or a curtain flow method as is inclined oppositely of the running direction by 1 to 80 degrees with respect to the line normal to the steel sheet surface. As a result, mega-sonic ultrasonic waves can be applied to the rising operation of the running steel sheet, thereby to improve the rinsing effect and the rinsing rate.

    摘要翻译: 本发明提供一种冲洗运行钢板的钢板冲洗方法和钢板连续冲洗装置。 以0.8MHz〜3MHz的频率施加超声波的冲洗液通过与行驶方向相反倾斜1°的淋浴法或帘式流动法向钢板表面供给 相对于钢板表面法线的80度。 结果,超音波超声波可以应用于运行钢板的上升操作,从而提高冲洗效果和漂洗速率。

    초음파 세정장치
    8.
    发明授权
    초음파 세정장치 失效
    超声波清洗装置

    公开(公告)号:KR100925121B1

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:KR1020077008511

    申请日:2005-10-06

    摘要: 피세정물의 표면에 부착한 더러움을 초음파를 부여한 세정액으로 초음파세정하는 초음파 세정장치에 있어서, 상기 세정액을 저장하는 세정조와, 상기 세정액 중에 상기 피세정물을 지지하는 지지대와, 주파수 1 ~ 10 MHz 의 제 1의 초음파와, 그 제 1의 초음파의 2분의 1 이하의 주파수인 제 2의 초음파를 상기 피세정물로 향하여 교대로 집속시키는 초음파 발생수단과, 상기 집속시키는 집속위치에서 상기 피세정물의 표면까지의 거리를 조정하는 집속위치 조정수단과, 상기 초음파 발생수단에 의한 초음파의 효력이 상기 피세정물의 표면 구석구석까지 골고루 미치도록 상기 초음파 발생수단 및 상기 지지대의 적어도 한쪽을 이동시키는 이동수단을 구비한 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치이다.
    초음파 세정장치, 세정액, 반도체 기판, 포토마스크용.

    摘要翻译: 在用于超声清洁粘附到对象的污垢超声波清洗装置将被清洁的水的表面与设置有超声波清洗槽的清洗溶液和用于存储清洗液体,具有用于支撑所述物体中的清洗液来进行清洗,在频率1〜10MHz的一个支撑 第一超声和,在超声波产生的目标物体的清洁的聚焦位置是指用于聚焦超声波第一频率的第二半的超声波比依次朝向所述对象的第一更少待清洁,以及聚焦 聚焦位置调整装置,用于调节到表面的距离的装置,以及超声波是有效的由超声波发生装置的超声波装置,以对象物均匀地清洁米奇到水的表面的每一个角落和一个移动装置,用于移动所述支撑件的至少一个 超声波清洗装置是超声波清洗装置。

    기판 양면 처리장치
    9.
    发明授权
    기판 양면 처리장치 有权
    双面基板加工设备

    公开(公告)号:KR100852952B1

    公开(公告)日:2008-08-19

    申请号:KR1020020022155

    申请日:2002-04-23

    IPC分类号: H01L21/304

    摘要: 본 발명은, 피처리기판의 표리면을 적절히 처리하는 처리부와, 상기 피처리기판을 반송하는 기판반송기구와, 상기 기판반송수단과의 사이에서 피처리기판의 인수인계와 동시에 수취한 상기 피처리기판을 반전하는 반전부를 구비하는 기판 양면 처리장치에 관한 것이다.
    상기 반전부는 상기 기판반송수단과의 사이에서 인수인계시에 상기 피처리기판을 보지하는 보지수단과, 이 보지수단으로 보지되는 피처리기판을 반전가능하도록 회전하는 회전수단을 구비한다. 상기 반전부는 상기 피처리기판의 표리면을 보지하는 한 조의 보지수단과, 양 보지수단을 상대적으로 접리이동시키는 접리이동수단과, 양 보지수단으로 보지되는 피처리기판을 반전가능하게 회전시키는 회전수단을 구비해도 좋다.

    초음파 세정장치
    10.
    发明公开
    초음파 세정장치 失效
    超声波清洗机

    公开(公告)号:KR1020070083678A

    公开(公告)日:2007-08-24

    申请号:KR1020077008511

    申请日:2005-10-06

    摘要: There is provided an ultrasonic cleaner for ultrasonic-cleaning stains attached to a surface of an object to be cleaned by using a cleaning liquid to which ultrasonic wave is applied. The ultrasonic cleaner includes: a cleaning tab for containing the cleaning liquid; a support table for supporting the object to be cleaned in the cleaning liquid; ultrasonic wave generation means for alternately converging a first ultrasonic wave having frequency of 1 to 10 MHz and a second ultrasonic wave having frequency of 1/2 of the first ultrasonic wave or below toward the object to be cleaned; converging position adjustment means for adjusting the distance from the converging position of the conversion to the surface of the object to be cleaned; and moving means for moving at least one of the ultrasonic wave generation means and the support table so that the effect of the ultrasonic wave obtained by the ultrasonic wave generation means is applied to the entire surface of the object to be cleaned.

    摘要翻译: 提供了一种用于通过使用施加超声波的清洗液附着到待清洁物体的表面上的超声波清洗污渍的超声波清洗器。 所述超声波清洗器包括:用于容纳所述清洁液体的清洁接头; 支撑台,用于支撑待清洗物体在清洗液中; 超声波产生装置,用于将具有1至10MHz的频率的第一超声波和第一超声波的频率为1/2的第二超声波交替地收敛于待清洁的物体; 会聚位置调整装置,用于调节从转换到待清洁物体表面的会聚位置的距离; 以及用于移动超声波产生装置和支撑台中的至少一个的移动装置,使得通过超声波产生装置获得的超声波的效果被施加到待清洁物体的整个表面。