公开(公告)号：KR101849628B1

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：KR1020160114948

申请日：2016-09-07

申请人： 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 ,  롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 ,  롬 앤드 하아스 컴패니

发明人： 두에인알.로머 ,  매튜엠.욘키 ,  마이클케이.갤러거 ,  케빈와이.왕 ,  시앙치엔리우 ,  레이먼드제이.티보 ,  킴에스.호 ,  그레고리디.프로코포비츠 ,  코리오코너 ,  엘리쎄이라갓킨 ,  로버트케이.바

IPC分类号： C07C69/612 ,  C07C43/178 ,  C08G63/547 ,  C08G65/34 ,  C08J5/18

CPC分类号： C09D171/02 ,  B05D7/26 ,  B32B27/281 ,  B32B27/36 ,  B32B37/14 ,  B32B38/10 ,  C07C43/1788 ,  C07C69/618 ,  C07C69/734 ,  C07C233/22 ,  C07C2602/06 ,  C08F16/32 ,  C08F20/28 ,  C08F22/20 ,  C08F22/26 ,  C08F22/38 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/76 ,  C08J5/2256 ,  C09D4/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/24 ,  C09D135/00 ,  C09D135/02 ,  C09D165/00 ,  C08F283/00

摘要： 아릴사이클로부텐-함유다작용성단량체는아릴사이클로부텐계중합체코팅의제조에있어유용하다. 하나이상의아릴사이클로부텐-함유다작용성단량체및 하나이상의아릴사이클로부텐단량체를중합단위로포함하는하나이상의올리고머를포함하는조성물은감소된응력을갖는아릴사이클로부텐계중합체코팅을제공한다. 이러한조성물은전자장치의제조에서유용하다.

公开(公告)号：KR1020170108173A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：KR1020177026053

申请日：2014-04-11

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 타키자와히로오 ,  히라노슈지

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C08F20/28

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/32

摘要： 선폭 50nm 이하의미세한패턴형성에있어서, 감도, 해상력, LWR, 및패턴형상을손상시키지않고, 블롭결함을저감시키며, 특히아웃가스발생의억제가우수한패턴형성방법, 조성물키트, 그를이용한레지스트막, 전자디바이스의제조방법, 및전자디바이스를제공한다. (가) (A) 산의작용에의하여분해하여현상액에대한용해성이변화하는수지와, (C) 불소원자, 불소원자를갖는기, 규소원자를갖는기, 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기, 아랄킬기, 적어도하나의알킬기로치환된방향환기, 및적어도하나의사이클로알킬기로치환된방향환기로이루어지는군으로부터선택되는 1개이상의기를갖는수지를함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용하여기판상에막을형성하는공정, (나) 상기막 상에, 수지 (T)를함유하는톱코트조성물을이용하여톱코트층을형성하는공정, (다) 상기톱코트층을갖는상기막을활성광선또는방사선을이용하여노광하는공정, 및 (라) 상기노광후, 상기톱코트층을갖는상기막을현상하여패턴을형성하는공정을갖는패턴형성방법.

摘要翻译： 在精细图案形成为50nm或更小的线宽，灵敏度，分辨率，LWR，并且在不损害图案形状，sikimyeo减少团块的缺陷，特别是，以形成气体生成方法，组合物的试剂盒的一个良好的图案抑制，则使用相同的抗蚀剂膜， 一种制造电子装置的方法，以及一种电子装置。 （A）（A）的芳基，基，基，烷基，环烷基，具有含通过酸变化的动作在分解显影液中的树脂溶解性的硅原子，（C），氟原子，氟原子，芳烷基 kilgi，使用通风的方向，和光化射线的意义上或最后封闭的，其中含有由通风与对辐射敏感的树脂组合物取代的方向的该基团被至少一个烷基取代的具有从所述至少一个环烷基基团中选出的至少一种基团的树脂 在基板上形成的膜的形成通过使用含有在所述膜的树脂（T）的顶涂层组合物中，（C）的顶部涂层的步骤，（b）活化所述膜与所述顶涂层 （d）曝光后，使具有面涂层的膜显影以形成图案。

公开(公告)号：KR101766992B1

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：KR1020157026466

申请日：2012-10-25

申请人： 캐보트 코포레이션

发明人： 포밋세브,드미트리 ,  스텝,유진엔.

IPC分类号： G03G9/08 ,  G03G9/097

CPC分类号： G03G9/09716 ,  C08F20/14 ,  C08F20/24 ,  C08F20/28 ,  C08G77/38 ,  G03G9/08 ,  G03G9/09725

摘要： 금속-산화물복합입자가토너첨가제로서사용된다.

摘要翻译： 金属氧化物复合颗粒用作调色剂添加剂。

公开(公告)号：KR1020170067736A

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：KR1020177008403

申请日：2015-09-30

申请人： 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하

发明人： 클레마르치크,필립티.

IPC分类号： C08K5/16 ,  C08F220/28 ,  C07C211/48 ,  C07C229/18 ,  C07C255/25 ,  C07D215/06 ,  C09D4/00

CPC分类号： C07D215/06 ,  C07C211/48 ,  C07C227/26 ,  C07C229/18 ,  C07C253/30 ,  C07C255/25 ,  C07D209/08 ,  C08F20/28 ,  C08F220/28 ,  C08K5/16 ,  C08K5/18 ,  C08K5/315 ,  C08K5/3417 ,  C08K5/3437 ,  C09J4/00 ,  C09D4/00

摘要： 혐기경화성조성물, 예컨대접착제및 실란트를위한경화촉진제가제공되며, 이것은하기구조식 I로표현되는화합물을참조로하여정의된다. 상기식에서, A는 CH또는벤질이고, R은 C알킬이고, R'는 H 또는 C알킬이거나, R과 R'는함께벤젠고리에융합된 4원내지 7원고리를형성할수 있고, R"는임의적이지만, R"가존재하는경우, R"는할로겐, 알킬, 알케닐, 시클로알킬, 히드록시알킬, 히드록시알케닐, 알콕시, 아미노, 알킬렌-에테르또는알케닐렌-에테르, 알킬렌 (메트)아크릴레이트, 카르보닐, 카르복실, 니트로소, 술포네이트, 히드록실또는할로알킬이고, 도시된 EWG는전자끄는기, 예컨대니트로, 니트릴, 카르복실레이트또는트리할로알킬이다.

摘要翻译： 提供厌氧固化组合物，例如用于粘合剂和密封剂的固化促进剂，其参照由下面结构式I表示的化合物进行限定。 <结构I>，并且其中，A为CH，或苄基，R是“为H或C烷基，R和R”可以在稠合于与苯环的4至7元环可形成C 1-4烷基，R ，R如果为“是任意的，但是，R”目前，R“是卤素，烷基，烯基，环烷基，羟烷基，羟基链烯基，烷氧基，氨基，亚烷基醚或亚烯基醚， 亚烷基（甲基）丙烯酸酯，羰基，羧基，亚硝基，磺酸基，羟基，被羟基，或到，示出的是EWG的吸E组，例如，硝基，腈，羧酸酯，或烷基，三卤代烷基 。

公开(公告)号：KR1020170063981A

公开(公告)日：2017-06-08

申请号：KR1020177014505

申请日：2009-12-11

申请人： 루사이트 인터내셔널 유케이 리미티드

发明人： 존슨데이비드윌리엄 ,  모리스트레버휴

IPC分类号： C07C67/60 ,  C07C67/31 ,  C08F20/28

CPC分类号： C07C67/60 ,  C07C67/31 ,  C08F20/28 ,  C07C69/54

摘要： 메틸메타크릴레이트(MMA)를정제하는방법이기술된다. 상기방법은불순물을가진액체 MMA를포름알데하이드또는하기정의된바와같은화학식 I을갖는적합한메틸렌또는에틸렌공급원의존재하에서설폰산수지와접촉시키는단계를포함한다:여기서 R및 R는 C-C탄화수소또는 H에서독립적으로선택되고; X는 O 또는 S이고; n은 1 내지 100의정수이고; 및 m은 1 또는 2이다. 화학식 I의화합물은적합한포름알데하이드공급원일수 있다.

摘要翻译： 描述了一种纯化甲基丙烯酸甲酯（MMA）的方法。 该方法包括在具有式（I）作为甲醛或限定合适的亚甲基或亚乙基源的存在下，磺酸树脂和液体MMA杂质接触的步骤：其中R和R是在CC烃或H 独立选择; X是O或S; n是从1到100的数字; 而m是1或2。 式I化合物可以是合适的甲醛源。

公开(公告)号：KR101737379B1

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：KR1020137025754

申请日：2012-03-16

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 야마구치슈헤이 ,  타카하시히데노리 ,  시라카와미치히로 ,  카타오카쇼헤이 ,  사이토쇼이치 ,  요시노후미히로

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/038 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  C08F220/28

CPC分类号： G03F7/0382 ,  C08F20/28 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/405 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/42 ,  C08F2220/1825

摘要： 본발명의패턴형성방법은 (i) (P) 하기일반식(I)으로나타내어지는산의작용에의해분해되어카르복실기를생성할수 있는반복단위(a1)를갖는수지, 및활성광선또는방사선의조사시에산을발생할수 있는화합물(B)을함유하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물로막을형성하는공정; (ii) 상기막을노광하는공정; 및 (iii) 유기용제를함유하는현상액을사용하여현상을행하여네거티브형패턴을형성하는공정을포함한다.

摘要翻译： 本发明的图案形成方法为（i）（P），以具有通式（I），重复单元（a1）是通过酸的作用，可以生成由式表示的羧基基团，并且使用光化射线或辐射照射的分解的树脂 （B），其能够在光照射时产生酸; （ii）暴露胶片; 并且（iii）使用含有有机溶剂的显影剂进行显影以形成负片图案。

公开(公告)号：KR101733251B1

公开(公告)日：2017-05-08

申请号：KR1020117005620

申请日：2009-09-10

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 에바타,다쿠마 ,  나카가와,히로키 ,  마츠다,야스히코 ,  가사하라,가즈키 ,  호시코,겐지 ,  나카시마,히로미츠 ,  이케다,노리히코 ,  사카이,가오리 ,  하라다,사키

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F20/10 ,  C08L33/04 ,  G03F7/027

CPC分类号： C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： 본발명은중합체 (A), 감방사선성산 발생제 (B), 산확산억제제 (C) 및용제 (D)를함유하고, 상기중합체 (A)가하기화학식 (a-1)로표시되는반복단위 (a-1)을가지는중합체이며, 상기산 확산억제제 (C)가하기화학식 (C-1)로표시되는염기 (C-1) 및광 분해성염기 (C-2) 중의 1종이상의염기를함유하는감방사선성수지조성물에관한것이다.[화학식 (a-1) 중에서 R은서로독립적으로수소원자등을나타내고, R은화학식 (a')으로표시되는 1가의기이고, R는탄소수 1 내지 5의쇄상탄화수소기등을나타내고, A는탄소수가 1 내지 30인 2가의쇄상탄화수소기등을나타내고, m 및 n은 0 내지 3의정수(단, m+n=1 내지 3)를나타내고, 화학식 (C-1) 중에서 R, R은서로독립적으로탄소수가 1 내지 20인 1가의쇄상탄화수소기등을나타내며, 2개의 R가결합하여환 구조를형성할수 있음]

公开(公告)号：KR101730488B1

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：KR1020157002243

申请日：2013-07-25

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 요코카와나츠미 ,  히라노슈지 ,  타키자와히로오 ,  니하시와타루

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F20/28

CPC分类号： G03F7/0388 ,  C08F12/24 ,  C08F20/28 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/26 ,  C08F2220/285 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/30 ,  H01L21/0274

摘要： 본발명은특정식으로나타내어지는반복단위(a)를갖는수지(P)를포함하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물; 감활성광선성또는감방사선성조성물을사용하여형성되는레지스트막; (i) 감활성광선성또는감방사선성수지조성물을사용하여막을형성하는공정, (ii) 상기막을노광하는공정, 및 (iii) 상기노광된막을현상액을사용하여현상해서패턴을형성하는공정을포함하는패턴형성방법; 패턴형성방법을포함하는전자디바이스의제조방법; 및전자디바이스의제조방법에의해제조되는전자디바이스를제공한다.

摘要翻译： 本发明涉及包含具有由特定式表示的重复单元（a）的树脂（P）的光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物; 使用光化辐射敏感或辐射敏感组合物形成的抗蚀剂膜; （I）检测使用光化射线或该树脂组合物的最后一个辐射敏感步骤和曝光过程中，（ii）所述膜使用形成膜，以及（iii）通过使用膜的露出显影溶液显影形成图案的工序 一种形成图案的方法，包括： 一种制造包括图案形成方法的电子装置的方法; 以及通过制造电子设备的方法制造的电子设备。

公开(公告)号：KR1020160130198A

公开(公告)日：2016-11-10

申请号：KR1020160143560

申请日：2016-10-31

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 히라노이사오 ,  츠치야준이치

IPC分类号： C08F20/28 ,  C08L63/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F20/28 ,  C08L63/00 ,  G03F7/11

摘要： 지지체와레지스트막사이에형성되는표면개질층을형성하기위한, 질량평균분자량이 1000 ∼ 50000 인에폭시수지를함유하는표면개질재료 ; 지지체상에, 당해표면개질재료를사용하여표면개질층을형성하는공정과, 상기표면개질층이형성된상기지지체상에, 레지스트조성물을사용하여레지스트막을형성하는공정과, 상기레지스트막을노광하는공정과, 상기레지스트막을알칼리현상하여레지스트패턴을형성하는공정을포함하는레지스트패턴형성방법 ; 및상기레지스트패턴형성방법에의해레지스트패턴이형성된지지체에대하여에칭처리를실시하는공정을포함하는패턴형성방법.

摘要翻译： 一种用于形成表面改性层的表面改性材料，其设置在基材和抗蚀剂膜之间，所述表面改性材料包括重均分子量为1,000至50,000的环氧树脂; 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用表面改性材料在基板上形成表面改性层，在其上形成表面改性层的基板上形成抗蚀剂膜，使用抗蚀剂组合物，进行曝光 抗蚀剂膜和碱显影抗蚀剂膜以形成抗蚀剂图案; 以及形成图案的方法，包括：通过形成抗蚀剂图案的方法蚀刻已经形成抗蚀剂图案的基板。

公开(公告)号：KR1020160121594A

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：KR1020167027749

申请日：2012-10-25

申请人： 캐보트 코포레이션

发明人： 포밋세브,드미트리 ,  스텝,유진엔.

IPC分类号： G03G9/08 ,  G03G9/097

CPC分类号： G03G9/09716 ,  C08F20/14 ,  C08F20/24 ,  C08F20/28 ,  C08G77/38 ,  G03G9/08 ,  G03G9/09725 ,  G03G9/097

摘要： 금속-산화물복합입자가토너첨가제로서사용된다.