公开(公告)号：KR1020160009509A

公开(公告)日：2016-01-26

申请号：KR1020150100158

申请日：2015-07-15

申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

发明人： 야마다타쿠 ,  츠루타카오루 ,  타네다야스유키 ,  오토시켄지

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F1/78 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J37/1472 ,  H01J37/045 ,  H01J37/141 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/1516 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31776

摘要： 전자빔묘화장치(100)는, 시료(216)가재치되는스테이지(105)와, 전자빔(200)을출사하는전자총(201), 전자빔의궤도를제어하는편향전극을구비한주편향기(208) 및부편향기(209)가배치된전자경통(102)과, 전자경통(102) 내에오존을도입하는오존발생기(161)를가진다. 주편향기(208)에는, 편향전압을인가시키는 DAC 앰프유닛(133)과, 음의직류전압을인가시키는 DF 전원유닛(134)이접속하고, 편향전압과음의직류전압이병합하여인가된다. 주편향기(208)는정전렌즈를겸하고, 또한음의직류전압의인가에따른, 오존으로부터의양이온의끌어당김효과를나타낸다.

摘要翻译： 电子束写入装置（100）包括：放置样品（216）的载物台（105） 电子枪管（102），其中发射电子束的电子枪（201）和包括控制电子束的轨道的偏转电极和副偏转器（209）的主偏转器（208） 布置; 和将臭氧引入到电子枪管（102）中的臭氧发生器（161）。 主偏流器（208）连接到施加偏转电压的DAC放大单元（133）和施加负直流电压的DF电源单元（134），并且偏转电压和负直流电压被合并和应用 到主导流板。 主偏转器（208）还用作静电透镜，并且具有根据直流电压的应用吸引来自臭氧的阳离子的效果。

公开(公告)号：KR1020140061480A

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：KR1020147008558

申请日：2006-11-28

申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 ,  어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드

发明人： 크니펠마이어라이너 ,  슈베르트슈테판

IPC分类号： H01J37/141

CPC分类号： H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/20 ,  H01J37/21 ,  H01J37/24 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/04922 ,  H01J2237/04926 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/1215 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/141 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/2817

摘要： 본 발명의 대물 렌즈 배열체는 사실상 회전 대칭인 제1, 제2 및 제3 극편을 포함한다. 제1, 제2 및 제3 극편은 대물면과 동일한 측에 배치된다. 제1 극편의 단부는 제1 갭을 형성하기 위해 제2 극편의 단부로부터 분리되고, 제3 극편의 단부는 제2 갭을 형성하도록 제2 극편의 단부로부터 분리된다. 제1 여기 코일은 제1 갭에서 포커싱 자기장을 생성하고, 제2 여기 코일은 제2 갭에서 상쇄 자기장을 생성한다. 제1 및 제2 전원은 각각 제1 및 제2 여기 코일에 전류를 공급한다. 제2 극편에 의해 생성된 자속은 제2 극편에서 생성된 자속과 동일한 방향으로 배향된다.

公开(公告)号：KR101589306B1

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：KR1020087015748

申请日：2006-11-28

申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 ,  어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드

发明人： 크니펠마이어라이너 ,  슈베르트슈테판

IPC分类号： H01J37/141 ,  H01J37/28 ,  H01J37/26

CPC分类号： H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/20 ,  H01J37/21 ,  H01J37/24 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/04922 ,  H01J2237/04926 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/1215 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/141 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/2817

摘要： 본발명의대물렌즈배열체는사실상회전대칭인제1, 제2 및제3 극편을포함한다. 제1, 제2 및제3 극편은대물면과동일한측에배치된다. 제1 극편의단부는제1 갭을형성하기위해제2 극편의단부로부터분리되고, 제3 극편의단부는제2 갭을형성하도록제2 극편의단부로부터분리된다. 제1 여기코일은제1 갭에서포커싱자기장을생성하고, 제2 여기코일은제2 갭에서상쇄자기장을생성한다. 제1 및제2 전원은각각제1 및제2 여기코일에전류를공급한다. 제2 극편에의해생성된자속은제2 극편에서생성된자속과동일한방향으로배향된다.

公开(公告)号：KR1020150122581A

公开(公告)日：2015-11-02

申请号：KR1020150042191

申请日：2015-03-26

申请人： 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤

发明人： 가바사와미츠아키 ,  이시카와마사키 ,  우에노유스케

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/147 ,  H01J37/141 ,  H01J37/244

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/141 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/244 ,  H01J37/3045 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/31701

摘要： 피처리물로의주입각도오차를저감한다. 이온주입장치(100)의빔라인부는, 스티어링전자석(30)과, 빔주사기(34)와, 빔평행화기(36)를구비한다. 빔라인부는이온빔의기준궤도를포함하고, z방향은기준궤도를따르는방향을나타내며, x방향은 z방향에직교하는일방향을나타낸다. 스티어링전자석(30)은이온빔을 x방향으로편향한다. 빔주사기(34)는이온빔을 x방향으로왕복적으로편향함으로써이온빔을주사한다. 빔평행화기(36)는, 주사된이온빔을 z방향으로평행화하도록구성되어있는평행화렌즈를구비하고, 평행화렌즈는빔주사기(34)의주사원점에초점을가진다. 제어부(104)는, 편향된이온빔의실궤도가 xz면에있어서주사원점에서기준궤도와교차하도록, 스티어링전자석(30)에있어서의 x방향의편향각도를보정한다.

摘要翻译： 根据本发明，减少了对待处理物体的注射角度的误差。 离子注入装置（100）的射束单元包括转向电磁体（30），射束注入器（34）和束平行化器（36）。 束线单元包括离子束的参考轨道。 z方向表示跟随轨迹的方向。 x方向表示与z方向垂直的一个方向。 转向电磁铁（30）使离子束沿x方向偏转。 光束注入器（34）使离子束在x方向上往复地偏转以注入离子束。 光束并行化器（36）包括形成为在z方向上平行注入的离子束的平行化透镜。 该平行化透镜的焦点在于注射器（34）的注入点。 控制单元（104）在x方向上校正转向电磁体（30）的偏转角度，以使得偏转的离子束的实际轨道在xz平面上的注入点处与参考轨迹交叉。

公开(公告)号：KR1020060093324A

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：KR1020067004511

申请日：2004-09-07

申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 ,  어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드

发明人： 크니펠마이어라이너 ,  키엔즐레올리버 ,  케멘토마스 ,  뮐러하이코 ,  율레만스테판 ,  하이더막시밀리안 ,  카사레스안토니오 ,  로저스스티븐

IPC分类号： H01J1/00 ,  H01J37/26 ,  H01L21/66

CPC分类号： H01J37/04 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/09 ,  H01J37/10 ,  H01J37/14 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/04735 ,  H01J2237/04756 ,  H01J2237/06 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/2817 ,  H01J2237/31774

摘要： A particle-optical arrangement comprises a charged-particle source for generating a beam of charged particles; a multi-aperture plate arranged in a beam path of the beam of charged particles, wherein the multi-aperture plate has a plurality of apertures formed therein in a predetermined first array pattern, wherein a plurality of charged-particle beamlets is formed from the beam of charged particles downstream of the multi-aperture plate, and wherein a plurality of beam spots is formed in an image plane of the apparatus by the plurality of beamlets, the plurality of beam spots being arranged in a second array pattern; and a particle-optical element for manipulating the beam of charged particles and/or the plurality of beamlets; wherein the first array pattern has a first pattern regularity in a first direction, and the second array pattern has a second pattern regularity in a second direction electron-optically corresponding to the first direction, and wherein the second regularity is higher than the first regularity.

摘要翻译： 粒子光学装置包括用于产生带电粒子束的带电粒子源; 布置在带电粒子束的光束路径中的多孔板，其中多孔板具有以预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中多个带电粒子子束由束形成 在多孔板下游的带电粒子，并且其中通过所述多个子束在所述装置的图像平面中形成多个束斑，所述多个束斑以第二阵列图案布置; 以及用于操纵带电粒子束和/或多个子束的粒子光学元件; 其中所述第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则性，并且所述第二阵列图案在与所述第一方向对应的电子 - 光学上的第二方向上具有第二图案规则性，并且其中所述第二规则性高于所述第一规则性。

公开(公告)号：KR1020170140390A

公开(公告)日：2017-12-20

申请号：KR1020177034427

申请日：2016-04-28

申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션

发明人： 지앙신롱

IPC分类号： H01J37/05

CPC分类号： H01J37/05 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/14

摘要： 제한된에너지확산을갖는전자빔을샘플로지향시키기위한선택적으로구성가능한시스템은, 하나이상의에너지를포함하는에너지확산을갖는전자빔을생성하기위한전자소스, 축상개구및 축외개구를구비하는어퍼쳐, 소스로부터빔을수집하도록그리고그 빔을어퍼쳐로지향시키도록배치되는선택적으로구성가능한집광력을갖는하나이상의전자렌즈의제1 어셈블리, 빔을수집하도록배치되는하나이상의선택적으로구성가능한전자렌즈의제2 어셈블리, 샘플스테이지, 및빔을하나이상의샘플상으로지향시키도록배치되는전자광학장치를포함하는전자검사서브시스템을포함한다. 제1 어셈블리는, 축외위치에서빔과상호작용하기위한그리고넌제로의집광력을가지고구성되는경우빔에공간적분산을도입하여에너지확산을필터링하기위한축외전자렌즈를포함한다.

摘要翻译： 选择性地配置系统中，作为用于引导从源具有有限能量传播作为样品的电子束具有电子源，一个轴向孔和轴外开口，用于产生具有能量扩散，其包括至少一个能量的电子束孔 收集光束和光束布置为收集所述第一组件，具有一选择性地配置jipgwangryeok作为设置以引导到所述孔的所述至少一个电子透镜的光束两个组件可配置电子透镜中的至少一个选择剂 ，样品台和包括电光装置的电子检测子系统，所述电光装置被布置为将光束引导到一个或多个样品上。 第一组件，用于与离轴位置的光束和轴外的非相互作用包括用于过滤由在光束的空间分布，如果构成具有零jipgwangryeok传播能量的电子透镜。

公开(公告)号：KR101794286B1

公开(公告)日：2017-11-06

申请号：KR1020150100158

申请日：2015-07-15

申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

发明人： 야마다타쿠 ,  츠루타카오루 ,  타네다야스유키 ,  오토시켄지

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F1/78 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J37/1472 ,  H01J37/045 ,  H01J37/141 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/1516 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31776

摘要： 전자빔묘화장치(100)는, 시료(216)가재치되는스테이지(105)와, 전자빔(200)을출사하는전자총(201), 전자빔의궤도를제어하는편향전극을구비한주편향기(208) 및부편향기(209)가배치된전자경통(102)과, 전자경통(102) 내에오존을도입하는오존발생기(161)를가진다. 주편향기(208)에는, 편향전압을인가시키는 DAC 앰프유닛(133)과, 음의직류전압을인가시키는 DF 전원유닛(134)이접속하고, 편향전압과음의직류전압이병합하여인가된다. 주편향기(208)는정전렌즈를겸하고, 또한음의직류전압의인가에따른, 오존으로부터의양이온의끌어당김효과를나타낸다.

公开(公告)号：KR1020090029209A

公开(公告)日：2009-03-20

申请号：KR1020087030410

申请日：2007-06-13

申请人： 세미이큅, 인코포레이티드

发明人： 글래비쉬,힐튼,에프. ,  제이콥슨,데일,콘래드 ,  호르스키,토마스,엔. ,  하토,사미,케이.

IPC分类号： H01L21/265 ,  H01J33/02

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31703 ,  H01L21/26513

摘要： A multipurpose ion implanter beam line configuration constructed for enabling implantation of common monatomic dopant ion species and cluster ions, the beam line configuration having a mass analyzer magnet defining a pole gap of substantial width between ferromagnetic poles of the magnet and a mass selection aperture, the analyzer magnet sized to accept an ion beam from a slot-form ion source extraction aperture of at least about 80 mm height and at least about 7 mm width, and to produce dispersion at the mass selection aperture in a plane corresponding to the width of the beam, the mass selection aperture capable of being set to a mass-selection width sized to select a beam of the cluster ions of the same dopant species but incrementally differing molecular weights, the mass selection aperture also capable of being set to a substantially narrower mass-selection width and the analyzer magnet having a resolution at the mass selection aperture sufficient to enable selection of a beam of monatomic dopant ions of substantially a single atomic or molecular weight.

摘要翻译： 多用途离子植入物束线配置被构造用于使得能够注入常见的单原子掺杂剂离子种类和簇离子，束线配置具有质量分析器磁体，该质量分析器磁体在磁体的铁磁极和质量选择孔之间限定相当宽度的极间距， 分析器磁体的尺寸设计成接受来自至少约80mm高度和至少约7mm宽度的槽形离子源提取孔的离子束，并且在与质量选择孔的宽度相对应的平面中产生分散体 质量选择孔能够被设置为质量选择宽度，其大小用于选择相同掺杂物种类的簇离子的束，但递增不同的分子量，质量选择孔也能够被设定为基本上更窄的质量 选择宽度和质量选择孔径处的分辨率足以能够选择光束的分析器磁体 单原子或分子量的单原子掺杂离子。

公开(公告)号：KR1020140145975A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：KR1020140051474

申请日：2014-04-29

申请人： 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤

发明人： 가바사와미츠아키 ,  니시하라다츠오 ,  와타나베가즈히로 ,  다카하시유우지 ,  야마다다츠야

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/04

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/053 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/14

摘要： 고에너지 이온주입장치에 있어서의 고효율 빔수송 기술을 제공한다.
고에너지 이온주입장치는, 이온원과 질량분석장치를 가지는 빔생성유닛과, 이온빔을 가속하여 고에너지 이온빔을 생성하는 고에너지 다단직선가속유닛과, 고에너지 이온빔을 웨이퍼를 향하게 하여 방향 전환하는 고에너지빔의 편향유닛과, 편향된 고에너지 이온빔을 웨이퍼까지 수송하는 빔수송라인유닛을 구비한다. 편향유닛은, 복수의 편향전자석으로 구성되고, 복수의 편향전자석의 사이에 적어도 1개의 가로수렴요소가 삽입되어 있다.

摘要翻译： 在高能量离子注入装置中提供了高效率的束传输技术。 高能离子注入装置包括具有离子源和质量分析器的束生成单元，通过加速离子束产生高能量离子束的高能量多级线性加速单元，改变方向的高能量偏转单元 朝向晶片的高能离子束，以及将偏转的高能离子束传输到晶片的光束传输线单元。 偏转单元由多个偏转电磁体构成。 在偏转电磁体之间插入至少一个水平聚焦元件。

公开(公告)号：KR1020140018392A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：KR1020137034073

申请日：2007-06-13

申请人： 세미이큅, 인코포레이티드

发明人： 글래비쉬,힐튼,에프. ,  제이콥슨,데일,콘래드 ,  호르스키,토마스,엔. ,  하흐토,새미,케이. ,  하마모토,나리아키 ,  나이토,마사오 ,  나가이,노부오

IPC分类号： G21K5/10

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31703 ,  H01L21/26513

摘要： 빔 경로에 굴곡을 도입하는 자기 스캐너와 자기 시준기 조합체에 의해 후속되는 질량 분석기 자석을 포함하는 다목적 이온 주입기 빔 라인 구성체로서,
상기 빔 라인은 공통 단원자 도펀트 이온 종(species) 클러스터 이온의 주입을 가능케 하기 위해 구성되고, 상기 빔 라인 구성체는 질량 선택 애퍼처와, 상기 자석의 강자성 자극 간의 실질적인 폭의 자극 간격을 한정하는 질량 분석기 자석을 구비하며, 상기 분석기는 적어도 약 80 mm 높이와 적어도 약 7 mm 폭의 슬롯형 이온 소스 추출 애퍼처로부터 이온 빔을 수용하고, 상기 빔의 폭에 대응하는 평면 내의 상기 질량 선택 애퍼처에서 분광을 생성하기 위해 크기가 정해지고, 상기 질량 선택 애퍼처는 상기 동일한 도펀트 종의 클러스터 이온의 빔을 선택하기 위해 크기가 정해진 질량-선택 폭이지만 증가적으로 다른 분자 무게로 설정될 수 있으며, 상기 질량 선택 애퍼처는 또한 실질적으로 더 좁은 질량-선택 폭으로 설정될 수 있으며, 상기 분석기 자석은 실 질적으로 단일 원자 또는 분자 폭의 단원자 도펀트 이온의 빔을 선택할 수 있기에 충분한 질량 선택 애퍼처에서 분해능(resolution)을 가지며, 상기 자기 스캐너 및 자기 시준기는 동일한 의미에서 이온 빔을 연속적으로 구부리기 위해 구성되는데, 이는 상기 빔 라인의 분석기 자석에 의해 도입된 굴곡의 것과는 반대 의미인, 다목적 이온 주입기 빔 라인 구성체가 개시된다.