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公开(公告)号:KR1020170055975A
公开(公告)日:2017-05-22
申请号:KR1020177007699
申请日:2015-08-18
申请人: 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
CPC分类号: C25D5/12 , B32B15/00 , B32B15/01 , B32B2311/12 , B32B2311/16 , B32B2457/00 , C22C13/00 , C23C18/16 , C23C28/021 , C23C28/023 , C23C30/00 , C23C30/005 , C25D3/12 , C25D3/30 , C25D3/38 , C25D5/50 , C25D5/505 , H01R13/02 , H01R13/03 , H01R13/04 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , Y10T428/12722 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291 , Y10T428/12931 , Y10T428/12944 , Y10T428/12993 , Y10T428/2495 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/264 , Y10T428/265 , Y10T428/273
摘要: 구리또는구리합금으로이루어지는기재표면에 Sn 계표면층이형성되어있고, Sn 계표면층과기재사이에, Sn 계표면층으로부터차례로 Cu-Sn 합금층/Ni 층또는 Ni 합금층이형성된주석도금구리합금단자재로서, Cu-Sn 합금층은, CuSn합금의 Cu 의일부가 Ni 로치환된금속간화합물합금만으로이루어지는층으로서, Cu-Sn 합금층의일부가 Sn 계표면층에노출되어복수의노출부를형성하고있고, Sn 계표면층의평균두께가 0.2 ㎛이상 0.6 ㎛이하이고, 표면적에대한 Cu-Sn 합금층의노출부의면적률이 1 % 이상 40 % 이하이며, Cu-Sn 합금층의각 노출부의원 상당직경의평균치가 0.1 ㎛이상 1.5 ㎛이하이고, 표면의돌출산부높이 Rpk 가 0.005 ㎛이상 0.03 ㎛이하이고, 동마찰계수가 0.3 이하인주석도금구리합금단자재.
摘要翻译: 形成由铜或铜合金构成的基材的表面上的Sn系表面层,所述Sn系表面层和基体材料,然后Cu-Sn合金层/ Ni层或Ni合金层之间是geumguri从Sn系表面层形成合金阶段材料锡 如,铜锡合金层,作为仅金属间化合物Ni合金环罗奇,所述的CuSn合金层的一部分露出到Sn系表面层构成的层的CuSn合金的Cu的一部分,并且形成多个曝光的 ,Sn系,并且表面层的平均厚度低于0.6㎛大于0.2㎛,和所述Cu-Sn合金层为1%或小于40%时,合金层的各暴露部分的Cu-Sn金属当量圆直径的比表面积的暴露部分的面积比 和小于0.1㎛1.5㎛,在表面高度且Rpk超过0.005㎛突起峰㎛大于0.03的平均值,并且动摩擦系数为0.3或更小锡geumguri原料合金的阶段。
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公开(公告)号:KR1020160134876A
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:KR1020167031984
申请日:2012-09-10
申请人: 제이엑스금속주식회사
CPC分类号: H01B1/02 , B32B15/01 , B32B15/018 , C22C5/06 , C22C5/08 , C22C5/10 , C22C9/00 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C13/00 , C22C13/02 , C22C19/03 , C22C19/07 , C22C22/00 , C22C27/06 , C22C38/00 , C23C18/1651 , C23C18/1692 , C25D3/12 , C25D3/20 , C25D3/30 , C25D3/38 , C25D3/46 , C25D3/50 , C25D3/567 , C25D3/62 , C25D3/64 , C25D5/10 , C25D5/12 , C25D5/505 , H01R13/03 , H05K1/117 , H05K1/118 , H05K3/244 , H05K2201/0341 , Y10T428/12681 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , Y10T428/12722
摘要: 저삽입발출성, 저위스커성및 고내구성을갖는전자부품용금속재료및 그제조방법을제공한다. 기재 (11) 와, 기재 (11) 의최표층을구성하고, Sn, In 또는이들합금으로형성된 A 층 (14) 과, 기재 (11) 와 A 층 (14) 사이에형성되어중층을구성하고, Ag, Au, Pt, Pd, Ru, Rh, Os, Ir 또는이들합금으로형성된 B 층 (13) 을구비하고, 최표층 (A 층) (14) 의두께가 0.002 ∼ 0.2 ㎛이고, 중층 (B 층) (13) 의두께가 0.001 ∼ 0.3 ㎛인 전자부품용금속재료 (10).
摘要翻译: 提供了具有低插入性/提取性,低晶须成形性和高耐久性的电子部件用金属材料以及金属材料的制造方法。 用于电子部件的金属材料10具有基材11,构成基材11的表层的A层14,其由Sn,In或其合金形成,B层13构成中间层, 材料11和A层14,由Ag,Au,Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir或其合金形成,其中表面层(A层)14的厚度为0.002〜0.2μm, 中间层(B层)13的厚度为0.001〜0.3μm。
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公开(公告)号:KR101639994B1
公开(公告)日:2016-07-15
申请号:KR1020157009263
申请日:2013-07-05
申请人: 제이엑스금속주식회사
CPC分类号: C25D3/18 , B32B15/01 , C09D4/00 , C22C5/06 , C22C9/00 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/06 , C22C13/00 , C22C13/02 , C22C19/03 , C23C10/28 , C23C28/021 , C25D3/30 , C25D3/32 , C25D3/46 , C25D5/12 , C25D5/48 , C25D5/505 , C25D7/00 , C25D9/06 , H01R12/716 , H01R13/03 , Y10T428/12493 , Y10T428/12722 , Y10T428/12896
摘要: 위스커의발생이억제되고, 고온환경하에노출되어도양호한납땜성및 저접촉저항을유지하며, 또한단자·커넥터의삽입력이낮은표면처리도금재를제공한다. 표면처리도금재는, 금속기재에, Ni 또는 Ni 합금도금으로구성된하층, 및 Sn 또는 Sn 합금도금으로구성된상층이순차형성된도금재로서, 상기상층표면에 P 및 N 이존재하고, 상기상층표면에부착되는 P 및 N 원소의양이각각 P : 1 × 10∼ 4 × 10㏖/㎠, N : 2 × 10∼ 8 × 10㏖/㎠이다.
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公开(公告)号:KR1020150063524A
公开(公告)日:2015-06-09
申请号:KR1020157011264
申请日:2012-10-31
申请人: 제이엑스금속주식회사
CPC分类号: H01R13/03 , B32B15/01 , C22C5/06 , C22C9/00 , C22C13/00 , C22C19/03 , C22C28/00 , C25D5/10 , C25D5/505 , Y10T428/12715 , Y10T428/12722
摘要: 저삽입발출성, 저위스커성및 고내구성을갖는전자부품용금속재료및 그제조방법을제공한다. 기재 (11) 와, 기재 (11) 의최표층을구성하고, Sn, In, 또는그들의합금으로형성된 A 층 (14) 과, 기재 (11) 와 A 층 (14) 사이에형성되어중층을구성하고, Ag, Au, Pt, Pd, Ru, Rh, Os, Ir, 또는그들의합금으로형성된 B 층 (13) 을구비하고, 최표층 (A 층) (14) 의두께가 0.2 ㎛보다두껍고, 중층 (B 층) (13) 의두께가 0.001 ㎛이상인전자부품용금속재료 (10).
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公开(公告)号:KR101318545B1
公开(公告)日:2013-10-16
申请号:KR1020107025049
申请日:2009-05-11
申请人: 제이에프이 스틸 가부시키가이샤
CPC分类号: C23C28/34 , C23C22/20 , C23C28/321 , C23C28/322 , C25D5/36 , C25D5/48 , C25D5/50 , C25D5/505 , C25D9/08 , C25D11/34 , C25D11/36 , Y10T428/12722
摘要: 화성 처리액은, 제 1 인산 알루미늄을 18 g/ℓ 초과 200 g/ℓ이하 함유하고, pH 가 1.5 ∼ 2.4 이다. 또, 주석 도금 강판의 제조 방법은, 강판의 적어도 편면에, Sn 의 부착량이 편면에, Sn 부착량이 편면당 0.05 ∼ 20 g/㎡ 가 되도록 Sn 을 함유하는 도금층을 형성한 후, 그 화성 처리액 중에서 침지 처리를 실시하거나, 혹은 그 화성 처리액 중에서 전류 밀도 10 A/d㎡ 이하로 음극 전해 처리를 실시하고, 이어서 건조를 실시하여 화성 처리 피막을 형성시킨다. 이 처리액을 사용한 상기의 제조 방법에 의해, 환경상의 문제가 되는 Cr 을 사용하지 않고도, 주석 도금 표면의 산화에서 기인하는 외관의 열화나 도료 밀착성의 저하를 억제할 수 있고, 추가로 저가로 화성 처리가 가능한 주석 도금 강판이 얻어진다.
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公开(公告)号:KR1020120028841A
公开(公告)日:2012-03-23
申请号:KR1020110092589
申请日:2011-09-14
申请人: 다이도 메탈 고교 가부시키가이샤
CPC分类号: C25D5/12 , B22F7/04 , B32B15/015 , C22C9/00 , C22C13/00 , C22C19/03 , C23C6/00 , C23C28/021 , C23C28/023 , C25D7/10 , F16C33/124 , F16C33/127 , F16C2360/22 , Y10T428/12722
摘要: PURPOSE: A slide member is provided to suppress the formation of Sn-Ni-Cu-based compound layer at the interference of a Sn-based overlay layer and a Ni-based intermediate layer by including copper at the sliding layer and the bottom layer of the Sn-based overlay layer. CONSTITUTION: A slide member(11) includes a bearing alloy layer(13), a Ni-based intermediate layer(14) arranged on the bearing alloy layer, and a Sn-based overlay layer(15) arranged on the Ni-based intermediate layer. The Sn-based overlay layer includes at least one layer. A Sn-based sliding layer(15a) forming the Sn-based overlay layer includes Sn and 3 mass% or more of Cu. A Sn-based bottom layer(15b) forming the Sn-based overlay layer includes Sn and 8mass% or less of Cu. The thickness of the Sn-based bottom layer is 0.5um or more.
摘要翻译: 目的:提供一种滑动构件,以通过在滑动层和底层上包含铜来抑制在Sn基覆盖层和Ni基中间层的干涉下形成Sn-Ni-Cu基化合物层 基于Sn的覆盖层。 构成:滑动构件(11)包括轴承合金层(13),设置在轴承合金层上的Ni基中间层(14)和布置在Ni基中间层上的Sn基覆盖层(15) 层。 基于Sn的覆盖层包括至少一个层。 形成Sn系覆盖层的Sn系滑动层(15a)包括Sn和3质量%以上的Cu。 形成Sn基覆盖层的Sn基底层(15b)包括Sn和8质量%以下的Cu。 Sn基底层的厚度为0.5um以上。
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公开(公告)号:KR101085290B1
公开(公告)日:2011-11-22
申请号:KR1020107024788
申请日:2006-07-05
申请人: 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤
CPC分类号: C23C2/08 , B32B15/013 , C22C13/00 , C22C38/08 , Y10T428/12722
摘要: 이 용융 Sn-Zn계 도금 강판은, 강판과, 상기 강판의 표면에 형성되고, 1 내지 8.8 질량%의 Zn과 잔량부가 Sn : 91.2 내지 99.0 질량% 및 불가피적 불순물로 이루어지는 용융 도금층을 갖고, 상기 용융 도금층의 Sn-Zn 공정의 융해열과 Sn 초정의 융해열의 각각의 흡열량비가 이하의 관계식을 충족시키고, (Sn 초정의 융해에 수반하는 흡열량)/{(Sn 초정의 융해에 수반하는 흡열량) + (Sn-Zn 공정의 융해에 수반하는 흡열량)} ≥ 0.3 Sn 초정의 융해에 수반하는 흡열 피크 온도가 200 ℃ 이상 230 ℃ 이하이며, Sn-Zn 공정의 융해에 수반하는 흡열 피크 온도가 198 ℃ 이상 200 ℃ 미만이다.
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公开(公告)号:KR100885648B1
公开(公告)日:2009-02-25
申请号:KR1020020026648
申请日:2002-05-15
发明人: 크로스비제프리엔.
IPC分类号: C25D3/32
CPC分类号: B32B15/01 , C22C13/00 , C25D3/32 , C25D3/60 , H01L2924/0002 , Y10S428/935 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , Y10T428/12722 , H01L2924/00
摘要: 기판상에 주석 및 주석-합금을 침착시키기 위한 전해질 조성물 및 이들 조성물을 사용하여 주석 및 주석-합금을 전기도금하는 방법이 개시된다. 이들 전해질 조성물은 고속 주석 도금에 유용하다.
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公开(公告)号:KR1020090006084A
公开(公告)日:2009-01-14
申请号:KR1020087024683
申请日:2007-04-26
申请人: 제이엑스금속주식회사
发明人: 하타노다카아키
CPC分类号: C25D5/12 , C22C9/04 , C25D5/34 , C25D5/50 , C25D7/0614 , Y10T428/12458 , Y10T428/12715 , Y10T428/12722 , Y10T428/1291
摘要: An Sn-plated strip which is composed of a basis material consisting of a copper alloy containing Zn in an average concentration of 15 to 40% by mass and a plated coating constituted of an Sn phase layer, an Sn-Cu alloy phase layer and an Ni phase layer present in this order from the surface to the basis material, wherein the Zn concentration of the surface of the Sn phase layer is adjusted to 0.1 to 5.0% by mass. The basis material can contain one or more arbitrary components selected from among Sn, Ag, Pb, Fe, Ni, Mn, Si, Al and Ti in a total amount of 0.005 to 3.0% by mass, while the basis material may be a copper-base alloy which consists of 15-40% by mass Zn, 8 to 20% by mass Ni, 0 to 0.5% by mass Mn, and the balance Cu with unavoidable impurities and which may further contain one or more of the above arbitrary components in a total amount of 0.005 to 10% by mass. Thus, the invention provides a reflow Sn-plated Cu-Zn alloy strip which has a Cu/Ni double undercoat and is suppressed in whiskering.
摘要翻译: 一种Sn镀带,由含有平均浓度为15〜40质量%的Zn的铜合金构成的基材和由Sn相层,Sn-Cu合金相层和 Ni相层从表面依次存在于基材中,其中,将Sn相层的表面的Zn浓度调整为0.1〜5.0质量%。 基材可以含有选自Sn,Ag,Pb,Fe,Ni,Mn,Si,Al和Ti中的一种以上的任意成分,总量为0.005〜3.0质量%,而基材可以是铜 基质合金,其由15〜40质量%的Zn,8〜20质量%的Ni,0〜0.5质量%的Mn组成,余量Cu为不可避免的杂质,并且还可以含有一种或多种上述任意成分 总量为0.005〜10质量%。 因此,本发明提供了一种具有Cu / Ni双层底涂层并且被抑制在晶须中的回流镀Sn的Cu-Zn合金带。
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公开(公告)号:KR1020080046742A
公开(公告)日:2008-05-27
申请号:KR1020087009178
申请日:2006-10-20
申请人: 제이에프이 스틸 가부시키가이샤
CPC分类号: C23C22/08 , C23C22/74 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/345 , C25D3/30 , C25D5/10 , C25D5/48 , C25D9/08 , Y10T428/12618 , Y10T428/12722 , Y10T428/12972 , Y10T428/12979 , Y10T428/27
摘要: A tin plated steel sheet comprising a steel sheet, a tin-containing plating layer superimposed on at least one major surface of the steel sheet and a chemical treatment film containing P and tin superimposed on the plating layer, wherein the chemical treatment film adheres in an amount of 1.0 to 50 mg/m^2 or more in terms of P per surface, and wherein as determined from the P2p peak and Sn3d peak intensities of the chemical treatment film measured from the surface according to X-ray photoelectron spectroscopy, the atomic ratio of Sn to P, Sn/P, is in the range of 1.0 to 1.5, while as determined from the P2p peak and O1s peak intensities, the atomic ratio of O to P, O/P, is in the range of 4.0 to 9.0. Phosphate chemical treatment film provided on the tin plated steel sheet, as a replacement of conventional chromate film, is capable of inhibiting performance deterioration attributed to growth of tin oxide film at its surface layer.
摘要翻译: 一种镀锡钢板,包括钢板,叠加在钢板的至少一个主表面上的含锡镀层和包含叠加在镀层上的P和锡的化学处理膜,其中化学处理膜附着在 根据表面的P表示的量为1.0〜50mg / m 2以上,其中,根据由X射线光电子能谱测定的表面的化学处理膜的P2p峰值和Sn3d峰值强度, Sn与P,Sn / P的比例在1.0〜1.5的范围内,从P2p峰和O1s峰强度求出,O与P,O / P的原子比在4.0〜 9.0。 提供在镀锡钢板上的磷酸盐化学处理膜作为常规铬酸盐膜的替代物,能够抑制由于其表面层上的氧化锡膜的生长引起的性能劣化。
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