금속박
    4.
    发明公开
    금속박 审中-实审
    金属箔

    公开(公告)号:KR1020160137678A

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:KR1020167032633

    申请日:2013-02-28

    IPC分类号: C25D7/06 H05K1/09

    摘要: 접착제와의밀착성이우수한금속박을제공한다. 적어도일방의면에있어서, 10 점평균조도 Rz 가 2.0 ㎛이상 6.0 ㎛이하이고, 또한이것과국부산정의평균간격 S 의비 (Rz/S) 가 2.0 이상 6.0 이하인금속박.

    摘要翻译: 提供了对粘合剂具有优异粘附性的金属箔。 金属箔的至少一个表面具有2.0-6.0μm的十点平均粗糙度(Rz),并且其粗糙度(Rz)与局部峰之间的平均间隔(S)的比率Rz / S 2.0〜6.0。

    전자 부품용 금속 재료
    9.
    发明公开
    전자 부품용 금속 재료 有权
    电子元件用金属材料

    公开(公告)号:KR1020150002803A

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:KR1020147031715

    申请日:2013-01-23

    摘要: 고내미세 슬라이딩 마모성, 고내삽발성, 저위스커성 및 저삽입력성을 갖는 전자 부품용 금속 재료를 제공한다. 기재 상에 Sn, In, 또는 그들의 합금으로 이루어지는 A 층이 형성되고, 상기 기재와 상기 A 층 사이에 Ag, Au, Pt, Pd, Ru, Rh, Os, Ir, 또는 그들의 합금으로 이루어지는 B 층이 형성되고, 상기 기재와 상기 B 층 사이에, Ni, Cr, Mn, Fe, Co, Cu 로 이루어지는 군에서 선택된 1 종, 혹은 2 종 이상으로 이루어지는 C 층이 형성되고, 상기 A 층의 두께가 0.01 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 상기 B 층의 두께가 0.05 ∼ 0.5 ㎛ 이고, 상기 C 층의 두께가 0.05 ㎛ 이상이고, 상기 A 층의 두께/상기 B 층의 두께의 비가 0.02 ∼ 4.00 인 전자 부품용 금속 재료.

    摘要翻译: 本发明提供一种电子部件用金属材料,耐磨性高,耐插拔性高,胡须低,插入力低的特性。 一种用于电子部件的金属材料,其中在基底上形成包含Sn,In或其合金的A层,包含Ag,Au,Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir的B层或 在基板和A层之间形成合金,在基板和B层之间形成包含选自Ni,Cr,Mn,Fe,Co和Cu中的一种或多种的C层,厚度 的A层的厚度为0.01-0.3μm,B层的厚度为0.05〜0.5μm,C层的厚度为0.05μm以上,A层的厚度与B的厚度的比例 层为0.02-4.00。