公开(公告)号：KR101764640B1

公开(公告)日：2017-08-07

申请号：KR1020150186425

申请日：2015-12-24

Applicant: 한국철도기술연구원

Inventor： 윤혁진 ,  조현우

IPC: G01B11/14 ,  G01B3/00 ,  G01B11/255 ,  G01N21/88 ,  G06T7/00

Abstract: 본발명은영상기반휴대용표면균열측정장치에관한것으로서, 더욱상세하게는콘크리트표면에생성된균열을디지털카메라로촬영하여균열의크기를측정함으로써, 신속하게균열의크기를측정할수 있으며, 평평한표면뿐만아니라기둥과같이곡률이있는표면의균열도정확하게측정할수 있는영상기반휴대용표면균열측정장치에관한것이다. 상기한목적을달성하기위한본 발명은표면균열측정장치에있어서, 본체와, 상기본체에고정되되카메라가구비되는휴대기기와, 상기본체의하부에설치되는한 쌍의제1지지다리와, 상기제1지지다리사이에구비되는스케일부재를포함하여이루어지며, 상기스케일부재에는투명한재질로이루어지고, 일정간격으로설정된크기의마크가부착되는것을특징으로한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基于图像的便携式表面裂纹测量装置，并且更具体地由通过拍摄用数码相机对混凝土表面产生的裂纹测量裂纹的尺寸，并且可以快速测量裂纹的大小，该平坦表面作为 基于图像的便携式表面裂纹测量设备技术领域本发明涉及一种能够精确测量诸如柱的曲面上的裂纹的基于图像的便携式表面裂纹测量设备 为了达到上述目的，本发明在表面裂纹测量装置，身体实现，并且doedoe固定到所述主体移动设备相机被提供，并且在该主体的下部设置有一对第一支撑腿，所述 以及设置在第一支撑脚之间的标尺部件，标尺部件由透明材料制成，并且以预定间隔附接有具有预定尺寸的标记。

公开(公告)号：KR1020150014393A

公开(公告)日：2015-02-06

申请号：KR1020140095604

申请日：2014-07-28

Applicant: 시코라 아게

Inventor： 시코라해럴드 ,  브레메르클라우스

IPC: G01B21/12 ,  G01B21/20 ,  G01B11/10 ,  G01B11/255 ,  G01B7/12 ,  G01B7/293

CPC classification number: G01B11/24 ,  G01B7/28 ,  G01B7/312 ,  G01B11/002

Abstract: 절연 케이싱 내에서 도전체의 중심률(centricity)을 측정하기 위한 방법이 제시되고, 절연 케이싱을 갖는 도전체에 의해 형성되는 스트링이 이송 방향을 따라 이동되며, 이러한 방법은:
- 유도형 측정 평면에서, 유도형 측정 장치에 의해 도전체의 위치를 결정하는 단계,
- 스트링의 이송 방향으로 유도형 측정 평면의 전방에 놓여 있는 제1 광학 측정 평면에서, 적어도 하나의 제1 광학 측정 장치에 의해 스트링의 위치를 결정하는 단계,
- 스트링의 이송 방향으로 유도형 측정 평면의 후방에 놓여 있는 제2 광학 측정 평면에서, 적어도 하나의 제2 광학 측정 장치에 의해 스트링의 위치를 결정하는 단계,
- 스트링의 위치가 결과적으로 유도형 측정 평면에 놓이게 되도록 제1 광학 측정 평면과 제2 광학 측정 평면에서 결정된 스트링의 위치를 상관시키는 단계, 및
- 유도형 측정 평면에서의 스트링의 이러한 결과적인 위치 및 유도형 측정 평면에서 결정된 도전체의 위치로부터 절연 케이싱 내에서 도전체의 중심률을 결정하는 단계
를 포함하고,
특히 제1 광학 측정 평면 및/또는 제2 광학 측정 평면에서, 이송 방향에 대한 스트링의 경사 위치(sloping position) 및/또는 곡률이 식별되도록, 제1 광학 측정 평면 및/또는 제2 광학 측정 평면에서 공간 분해능 광학 측정이 일어나며, 이러한 경사 위치 및/또는 곡률은 절연 케이싱 내에서 도전체의 중심률을 결정하는 동안 고려된다.
나아가, 본 발명은 이에 대응하는 디바이스에 관한 것이다.

Abstract translation: 公开了一种用于测量绝缘壳体中的导体的中心度的方法。 由具有绝缘壳体的导体形成的线条在输送方向上移动。 该方法包括：通过感应型测量装置在感应型测量平面上确定导体的位置的步骤; 通过位于感应式测量平面前面的第一光学测量平面上的一个或多个第一光学测量装置在弦的传送方向上确定弦的位置的步骤; 在串的输送方向上设置在感应型测量平面后面的第二光学测量平面上确定一个或多个第二光学测量装置的弦的位置的步骤; 将在第一光学测量平面上确定的串的位置与第二光学测量平面相关联的步骤，使得串的位置最终放置在感应型测量平面上; 以及确定绝缘壳体中的导体的中心距离感应类型测量平面上的弦的最终位置和在感应型测量平面上确定的导体的位置的步骤。 特别地，在第一光学测量平面和/或第二光学测量平面上发生空间分辨率光学测量，使得在第一光学测量平面上识别出相对于输送方向的弦的倾斜位置和/或曲率， 在确定绝缘套管中的导体的中心度时，考虑第二光学测量平面以及倾斜位置和/或曲率。 此外，本发明涉及与其对应的装置。

公开(公告)号：KR102397102B1

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：KR1020150109548

申请日：2015-08-03

IPC: G01B11/255 ,  G01B21/20

Abstract: 표시패널의곡률측정장치는벤딩부를갖는표시패널의하부에배치되어상기표시패널을지지하는곡률부및 상기곡률부의양측에배치된복수의돌출부들을포함하는고정부재, 상기고정부재에인접하게배치되어상기고정부재를고정하는지지부재, 및상기표시패널상에배치되어상기표시패널의상기벤딩부의곡률을측정하는계측부를포함하고, 상기지지부재는복수의결합홈들을포함하고, 상기돌출부들중 어느하나의돌출부는상기결합홈들중 어느하나의결합홈에삽입된다.

公开(公告)号：KR100476234B1

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：KR1020030023376

申请日：2003-04-14

Applicant: 현대자동차주식회사

Inventor： 오세욱

IPC: G01B11/255

Abstract: 본 발명은 곡률 반경 측정장치를 휴대용으로 설계하여 곡률 반경의 형상에 관계없이 단면 R을 측정할 수 있는 곡률 반경 측정장치에 관한 것으로, 곡률 반경을 갖는 부품의 곡률 반경을 측정하는 장치에 있어서, 헤드부와 손잡이부를 갖는 보디부와; 상기 헤드부 일면에 고정 장착되는 절대축과; 상기 절대축이 장착된 위치를 중심으로 각각 대칭되도록 이격되어 상기 헤드부의 일면에 장착되며, 외부 입력신호에 따라 상기 절대축과의 상대 각도를 변화하는 상대축과; 상기 각각의 상대축과 결합되며, 상기 손잡이부에 장착되는 각도 조절버튼의 스위칭상태에 따라 상기 상대축의 각도를 조절하는 각도 조절부와; 상기 손잡이부에 장착되는 레이저 공급버튼의 스위칭상태에 따라 상기 절대축과 상대축을 통해 레이저를 송수신하는 레이저 송수신부와; 상기 레이저 송수신부를 통해 송수신되는 레이저 신호를 처리하는 신호 처리부와; 상기 신호 처리부를 통해 입력되는 레이저 신호들을 분석하여 상기 절대축과 상대축을 통해 입력되는 3점의 거리를 각각의 축에 대해 읽어 생성된 좌표값을 통해 측정된 부품의 곡률 반경을 계산하며 계산된 곡률 반경을 표시하도록 해당되는 표시 제어신호를 발생하는 제어부와; 상기 제어부로부터 공급되는 표시 제어신호를 입력받아 측정된 부품의 곡률 반경을 표시하는 표시부를 포함하여 구성한다.

公开(公告)号：KR1020040088929A

公开(公告)日：2004-10-20

申请号：KR1020030023376

申请日：2003-04-14

Applicant: 현대자동차주식회사

Inventor： 오세욱

IPC: G01B11/255

Abstract: PURPOSE: A curvature radius measurement device is provided to precisely measure a curvature radius regardless of a shape of a curvature by designing the curvature radius measurement device in a portable type. CONSTITUTION: A curvature radius measurement device includes a body section, an absolute axis(411), relative axes(412,413), an angle adjustment section, a laser receiving/transmitting section(414), a controller(415), and a display section(416). The body section has a head part(410) and a handle part(420) coupled to a lower portion of the head part(410). The absolute axis(411), the relative axes(412,413), the laser receiving/transmitting section(414), the controller(415), and the display section(416) are provided on the handle part(410). The absolute axis(411) is fixedly coupled to one side of the head section(410).

Abstract translation: 目的：提供一种曲率半径测量装置，通过设计便携式的曲率半径测量装置来精确地测量曲率半径，而与曲率的形状无关。 构成：曲率半径测量装置包括主体部分，绝对轴线（411），相对轴线（412,413），角度调整部件，激光器接收/发送部分（414），控制器（415）和显示部分 （416）。 主体部分具有联接到头部（410）的下部的头部（410）和手柄部（420）。 绝对轴（411），相对轴（412,413），激光接收/发送部分（414），控制器（415）和显示部分（416）设置在手柄部分（410）上。 绝对轴（411）固定地联接到头部（410）的一侧。

公开(公告)号：KR102380383B1

公开(公告)日：2022-03-31

申请号：KR1020140160833

申请日：2014-11-18

IPC: G01B11/24 ,  G01B11/255 ,  G01M11/02 ,  G06F17/11

Abstract: 유리(8)와유사한또는상보적인, 안과의렌즈들을제조하기위해, 안경프레임을위한유리(8)와연관된적어도하나의모티프에대한기하형태적데이터의획득및 측정을위한데이터획득및 측정장치(2, 4)로유리(8)를유지할수 있는지지부(6), 상기지지부(6)를조명하기위한조명수단(10), 상기지지부(6)를향해서배향되고상기지지부(6) 상에배치된유리(8)의윤곽의적어도 2개의이미지들을캡쳐할수 있는이미지들을캡쳐하기위한비디오이미징시스템(12) 및상기비디오이미징시스템(12)에의해서캡쳐된각각의이미지를입력부에서수신하는신호분석및 프로세싱수단(14)을포함한다. 상기장치는, 상기분석및 프로세싱유닛(14)이상기이미지들을기초로상기유리(8)의형태윤곽의적어도하나의지점으로부터상기기준평면까지의거리를측정할수 있는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR101826191B1

公开(公告)日：2018-02-07

申请号：KR1020150188241

申请日：2015-12-29

Applicant: 주식회사 케이피에스 ,  신상훈

Inventor： 김정호 ,  유영훈 ,  신상훈 ,  음명진 ,  이호동 ,  김민욱

IPC: G01M11/02 ,  G01B11/255 ,  G01N21/41 ,  G06F17/10 ,  G02B26/08

Abstract: 본발명은양측면이서로대향하는제1곡률면과제2곡률면을가지는렌즈가피검물인경우, 상기렌즈의양측면을서로다른굴절률을가지는액체에접촉하도록배치하고, 제1파장의제1광, 제2파장의제2광, 제3파장의제3광을각각조사하며, 제1광경로차와제2광경로차와제3광경로차에기초하여, 상기렌즈의제1곡률면과제2곡률면의곡률함수를각각구하고, 렌즈의제3파장에따른굴절률, 제3파장에따른평균굴절률을이용하여렌즈의굴절률분포를측정하는, 렌즈의양면곡률형상과굴절률분포의동시측정방법에관한것이다. 본발명의렌즈의양면곡률형상과굴절률분포의동시측정방법은, 검사대상의렌즈의광축에평행한, 제1파장을갖는제1광, 제2파장을갖는제2광, 제3파장을갖는제3광을제1액체를통해상기렌즈로조사하여, 상기렌즈의광축광경로에대한다른위치들의제1광경로차, 제2광경로차, 제3광경로차들을획득하는, 광경로차획득단계; 상기제1광경로차와상기제2광경로차상기제3광경로차를이용하여제1곡률면의곡률함수와제2곡률면의곡률함수를구하는, 곡률함수계산단계; 상기제3광경로차, 상기제1곡률면의곡률함수및 상기제2곡률면의곡률함수를이용하여, 상기렌즈의굴절률분포를구하는, 굴절률분포계산단계;를포함하여이루어지며, 곡률함수계산단계에서, 제1곡률면의곡률함수및 제2곡률면의곡률함수는,(단, △Φ는제1광경로차에서제2광경로차를뺀 값△Φ는제2광경로차에서제3광경로차를뺀 값, L은제1곡률면의곡률함수이며, L는제2곡률면의곡률함수이고, n은제1파장의제1액체의굴절률이며, n는제2파장의제1액체의굴절률이며, n는제3파장의제1액체의굴절률이며, n은제1파장의제2액체의굴절률이며, n는제2파장의제2액체의굴절률이며, n는제3파장의제2액체의굴절률이며, n은제1파장의렌즈의굴절률이고, n은제2파장의렌즈의굴절률이고, n은제3파장의렌즈의굴절률임)를이용하여구하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR1020160077848A

公开(公告)日：2016-07-04

申请号：KR1020140188251

申请日：2014-12-24

Applicant: 엘지전자 주식회사

Inventor： 문영환 ,  김아현 ,  김한수

IPC: G01B21/20 ,  G01B11/255 ,  G01S17/08 ,  G01S17/88

CPC classification number: G01B21/20 ,  G01B11/255 ,  G01S17/08 ,  G01S17/88 ,  Y02T50/673

Abstract: 곡면물체의곡면측정장치에있어서간편하고정확하게곡면물체의곡면을측정하기위한것으로, 상면의제1 방향에대해평행한두 모서리(edge)가상기제1 방향에수직한제2 방향으로서로제 1 거리를이루고, 상기제 2 방향으로곡률을형성하는곡면물체의오목한면이상기제 1 방향에대해평행한두 모서리에안착되는거치부재, 상기거치부재의상면에서수직방향으로광원을사출하여반사된광원을수광하는센싱부를포함하고, 상기센싱부로부터상기물체의오목한면까지의제 2 거리를측정하는높이측정센서및 상기제 2 거리를기초로상기거치부재의상면으로부터상기곡면물체의오목한면까지의제3거리를연산하고, 상기제 1 거리및 상기제3 거리를통해상기곡면물체의곡률을계산하는연산부를포함하는곡률측정장치를제공한다.

Abstract translation: 曲率测量装置本发明涉及一种简单而准确地测量弯曲物体曲率的曲率测量装置。 根据本发明的曲率测量装置包括：保持构件，其具有平行于上侧的第一方向并且在垂直于第一方向的第二方向上形成第一距离的两个边缘，并且具有凹面 在第二方向上形成曲率的弯曲物体包含在与第一方向平行的两个边缘处; 感测单元，用于接收在保持构件的上侧沿垂直方向喷射光源而反射的光源; 以及曲率测量装置，包括用于测量从感测单元到物体的凹侧的第二距离的高度测量传感器，以及计算单元，用于计算从保持构件的上侧到凹部侧的第三距离 基于第二距离的弯曲物体，以及经由第一距离和第三距离计算弯曲物体的曲率。

公开(公告)号：KR1020110121973A

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：KR1020100041515

申请日：2010-05-03

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 송영식 ,  임태홍 ,  이효수

IPC: G01B11/255 ,  G01L1/00

Abstract: PURPOSE: A method of measuring the stress of a plating layer is provided to simply, precisely and repetitively measure the stress of the plating layer, which is used as reference when the contact level between a base and a coated layer is evaluated. CONSTITUTION: A method of measuring the stress of a plating layer is as follows. A buffer layer is formed on the top of a silicon strip substrate. A plating layer is formed on the top of the strip substrate with the buffer layer. The stress of the plating layer is measured using a curvature-radius measuring unit using a laser. The buffer layer is formed by sputtering. The plating layer is formed by sputtering. The silicon strip substrate is 1:5~10 in aspect ratio. The thickness of the silicon strip substrate is 100~300μm.

Abstract translation: 目的：提供一种测量镀层应力的方法，以简单，精确和重复地测量镀层的应力，当评估基体和涂层之间的接触水平时，其用作参考。 构成：测定镀层的应力的方法如下。 在硅带基板的顶部形成缓冲层。 在带状基板的顶部上形成有缓冲层的镀层。 使用使用激光的曲率半径测量单元测量镀层的应力。 缓冲层通过溅射形成。 镀层通过溅射形成。 硅带基材的纵横比为1:5〜10。 硅带基板的厚度为100〜300μm。

公开(公告)号：KR101789053B1

公开(公告)日：2017-10-23

申请号：KR1020150092327

申请日：2015-06-29

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 전성찬 ,  박병호 ,  이정표

IPC: A61B3/16 ,  G01B11/255 ,  G02C7/04

Abstract: 본발명의일 측면은프렛효과를이용하는안압계에관한것으로, 더욱상세하게는유연소재의콘텍트렌즈에형광을이용한안압센서를장착하여안구의곡률변화를형광의세기로측정하는장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따르면, 눈과비접촉하여안압을측정함으로써각막을손상, 오염시키지않고, 안구를강제로가압하지않아도되는새로운방식의안압계를제공한다.