形成於金屬層下方之薄膜電阻器(TFR)及製造方法
    16.
    发明专利
    形成於金屬層下方之薄膜電阻器(TFR)及製造方法 审中-公开
    形成于金属层下方之薄膜电阻器(TFR)及制造方法

    公开(公告)号:TW201947664A

    公开(公告)日:2019-12-16

    申请号:TW108109161

    申请日:2019-03-18

    IPC分类号: H01L21/324 H01L21/30

    摘要: 一種用於製造一薄膜電阻器(TFR)模組的方法,該方法包括在一基材上方形成一TFR元件;將該TFR元件退火以降低該TFR元件的電阻溫度係數(TCR);及在形成該TFR元件及退火之後,形成與該TFR元件接觸的一對導電TFR頭部。藉由在該等TFR頭部之前形成該TFR元件,該TFR元件可在不影響該等TFR頭部下進行退火,並因此可由具有不同退火性質的各種材料形成,例如SiCCr及SiCr。因此,該TFR元件可經退火以實現接近0ppm的一TCR,而不影響稍後形成的該等TFR頭部。該TFR模組可使用一大馬士革CMP方法並僅使用單一附加遮罩層來形成。此外,在該TFR元件之邊緣處的垂直延伸之「脊部」可被移除或消除以進一步改善TCR效能。

    简体摘要: 一种用于制造一薄膜电阻器(TFR)模块的方法,该方法包括在一基材上方形成一TFR组件;将该TFR组件退火以降低该TFR组件的电阻温度系数(TCR);及在形成该TFR组件及退火之后,形成与该TFR组件接触的一对导电TFR头部。借由在该等TFR头部之前形成该TFR组件,该TFR组件可在不影响该等TFR头部下进行退火,并因此可由具有不同退火性质的各种材料形成,例如SiCCr及SiCr。因此,该TFR组件可经退火以实现接近0ppm的一TCR,而不影响稍后形成的该等TFR头部。该TFR模块可使用一大马士革CMP方法并仅使用单一附加遮罩层来形成。此外,在该TFR组件之边缘处的垂直延伸之“嵴部”可被移除或消除以进一步改善TCR性能。