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公开(公告)号:TWM541474U
公开(公告)日:2017-05-11
申请号:TW105213438
申请日:2016-09-01
发明人: 威爾森 葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修 保羅R , MCHUGH, PAUL R.
IPC分类号: C25D19/00
CPC分类号: C25D17/12 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/007
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公开(公告)号:TW201634761A
公开(公告)日:2016-10-01
申请号:TW105102372
申请日:2016-01-26
发明人: 威爾森葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修保羅R , MCHUGH, PAUL R.
IPC分类号: C25D17/10 , C25D17/06 , C25D7/12 , H01L21/288 , H01L21/3205
CPC分类号: C25D17/005 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , C25D17/007 , C25D21/12
摘要: 電處理設備具有包含密封之接觸環,該密封能夠補償由晶圓或工作部件上的凹槽(或其他不規則體)所產生的電場擾動。改變凹槽處接觸環的形狀,以減低凹槽處的電流壅塞。形狀上的改變改變了竊流電極及晶圓邊緣之間的電流路徑之阻抗,以增加由凹槽區域吸引的竊流電極電流。結果,以具有更均勻厚度的薄膜來電鍍晶圓。
简体摘要: 电处理设备具有包含密封之接触环,该密封能够补偿由晶圆或工作部件上的凹槽(或其他不守则体)所产生的电场扰动。改变凹槽处接触环的形状,以减低凹槽处的电流壅塞。形状上的改变改变了窃流电极及晶圆边缘之间的电流路径之阻抗,以增加由凹槽区域吸引的窃流电极电流。结果,以具有更均匀厚度的薄膜来电镀晶圆。
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公开(公告)号:TW201439382A
公开(公告)日:2014-10-16
申请号:TW103109690
申请日:2014-03-14
发明人: 威爾森葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修保羅R , MCHUGH, PAUL R. , 伍德拉夫丹尼爾J , WOODRUFF, DANIEL J.
IPC分类号: C25D21/12 , C25D17/06 , H01L21/288 , H01L21/687 , H01L21/68 , H01L21/67
CPC分类号: G01N27/18 , G01N33/004 , G01N33/006
摘要: 提供一種與用於電鍍基板(諸如,半導體晶圓)之處理器一起使用之偵測夾具,以偵測該處理器的筒體中的電解液水平面。該偵測到的電解液水平面用於控制將基板引入到電解液中,以實現所期望的電解液潤濕特性。該處理器具有基板固持器,該基板固持器支撐在一升降器上,該升降器用於使該基板固持器下降到筒體中。偵測夾具可模擬基板且被基板固持器以基板固持器固持基板之相同方式固持。該升降器使偵測夾具下降,直至該偵測夾具接觸該電解液,其中夾具位置指示電解液水平面。隨後自處理器移除偵測夾具。
简体摘要: 提供一种与用于电镀基板(诸如,半导体晶圆)之处理器一起使用之侦测夹具,以侦测该处理器的筒体中的电解液水平面。该侦测到的电解液水平面用于控制将基板引入到电解液中,以实现所期望的电解液润湿特性。该处理器具有基板固持器,该基板固持器支撑在一升降器上,该升降器用于使该基板固持器下降到筒体中。侦测夹具可仿真基板且被基板固持器以基板固持器固持基板之相同方式固持。该升降器使侦测夹具下降,直至该侦测夹具接触该电解液,其中夹具位置指示电解液水平面。随后自处理器移除侦测夹具。
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公开(公告)号:TWI384095B
公开(公告)日:2013-02-01
申请号:TW097102711
申请日:2008-01-24
发明人: 丹尼爾 伍德魯夫 , WOODRUFF, DANIEL , 大衛P. 馬特森 , MATTSON, DAVID P. , 保羅R. 麥克修 , MCHUGH, PAUL R. , 奎格利J. 威爾森 , WILSON, GREGORY J. , 詹姆斯J. 愛力克森 , ERICKSON, JAMES J.
CPC分类号: B23H5/08 , C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/004 , C25D17/007 , C25D17/008 , C25D17/06
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公开(公告)号:TWM540871U
公开(公告)日:2017-05-01
申请号:TW105210660
申请日:2016-07-15
发明人: 威爾森 葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修 保羅R , MCHUGH, PAUL R. , 克羅克 約翰L , KLOCKE, JOHN L.
CPC分类号: C25D21/18 , C25D3/38 , C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/06 , C25D17/10 , Y02E60/366
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公开(公告)号:TW201712168A
公开(公告)日:2017-04-01
申请号:TW105123028
申请日:2016-07-21
发明人: 威爾森 葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修 保羅R , MCHUGH, PAUL R.
IPC分类号: C25D21/10
CPC分类号: C25D17/001 , C25D5/08 , C25D21/10
摘要: 電鍍裝置攪動電解質以在晶圓的表面處提供高速流體流。該裝置包括攪拌槳,該攪拌槳在整個晶圓上提供均勻的高質量傳遞,甚至在攪拌槳與晶圓之間具有相對較大間隙的情況下也如此。因此,處理器可具有安置在攪拌槳與晶圓之間的電場遮罩件以便晶圓的邊緣處的有效遮罩。攪拌槳對跨晶圓的電場的影響隨著攪拌槳與晶圓間隔相對較遠而減小。
简体摘要: 电镀设备搅动电解质以在晶圆的表面处提供高速流体流。该设备包括搅拌桨,该搅拌桨在整个晶圆上提供均匀的高质量传递,甚至在搅拌桨与晶圆之间具有相对较大间隙的情况下也如此。因此,处理器可具有安置在搅拌桨与晶圆之间的电场遮罩件以便晶圆的边缘处的有效遮罩。搅拌桨对跨晶圆的电场的影响随着搅拌桨与晶圆间隔相对较远而减小。
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公开(公告)号:TW201708626A
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:TW105126337
申请日:2016-08-18
发明人: 范瓦爾肯寶 保羅 , VAN VALKENBURG, PAUL , 米柯拉 羅伯特 , MIKKOLA, ROBERT , 麥克修 保羅R , MCHUGH, PAUL R. , 威爾森 葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 漢森 凱爾摩倫 , HANSON, KYLE MORAN , 柏格曼 艾瑞克J , BERGMAN, ERIC J. , 克羅克 約翰L , KLOCKE, JOHN L.
CPC分类号: C25D21/10 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/008 , C25D17/06
摘要: 在電鍍裝置中,槳或攪拌器攪拌容器中的電解液以在晶圓表面處提供高速的流體流動。另外,攪拌器被設計和/或移動以有選擇地遮罩晶圓的一部分(例如晶圓邊緣)免受容器中的電場影響。有選擇地遮罩可透過將攪拌器的平均位置暫時地朝向晶圓的一側偏移,透過省略或縮短攪拌器中的狹縫,和/或透過將攪拌器的運動與晶圓旋轉同步來實現。
简体摘要: 在电镀设备中,桨或搅拌器搅拌容器中的电解液以在晶圆表面处提供高速的流体流动。另外,搅拌器被设计和/或移动以有选择地遮罩晶圆的一部分(例如晶圆边缘)免受容器中的电场影响。有选择地遮罩可透过将搅拌器的平均位置暂时地朝向晶圆的一侧偏移,透过省略或缩短搅拌器中的狭缝,和/或透过将搅拌器的运动与晶圆旋转同步来实现。
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公开(公告)号:TWM536680U
公开(公告)日:2017-02-11
申请号:TW105212523
申请日:2016-08-18
发明人: 范瓦爾肯寶 保羅 , VAN VALKENBURG, PAUL , 米柯拉 羅伯特 , MIKKOLA, ROBERT , 麥克修 保羅R , MCHUGH, PAUL R. , 威爾森 葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 漢森 凱爾摩倫 , HANSON, KYLE MORAN , 柏格曼 艾瑞克J , BERGMAN, ERIC J. , 克羅克 約翰L , KLOCKE, JOHN L.
CPC分类号: C25D21/10 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/008 , C25D17/06
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公开(公告)号:TW201704556A
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:TW105116148
申请日:2016-05-24
发明人: 伍德拉夫丹尼爾J , WOODRUFF, DANIEL J. , 威爾森葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修保羅R , MCHUGH, PAUL R.
CPC分类号: C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/008 , C25D21/10
摘要: 一種電鍍處理器,該電鍍處理器包括基部,該基部具有容器主體。包括隔膜殼的隔膜組件附接到隔膜板材。隔膜提供在附接到該隔膜殼的隔膜支撐件上。陽極元件包括陽極杯以及位於該陽極杯中的一個或更多個陽極。陽極板材被附接到該陽極杯。位於該陽極板材的第一側上的兩個或更多個支柱能夠與位於該隔膜板材上的支柱配件接合。位於該陽極板材的第二側上的夾持件能夠與位於該隔膜板材上的夾持件配件接合和從其中釋放。該陽極元件能夠快速且容易地從該處理器去除以便進行維護,而不干擾該處理器的其他部件或將這些部件去除。
简体摘要: 一种电镀处理器,该电镀处理器包括基部,该基部具有容器主体。包括隔膜壳的隔膜组件附接到隔膜板材。隔膜提供在附接到该隔膜壳的隔膜支撑件上。阳极组件包括阳极杯以及位于该阳极杯中的一个或更多个阳极。阳极板材被附接到该阳极杯。位于该阳极板材的第一侧上的两个或更多个支柱能够与位于该隔膜板材上的支柱配件接合。位于该阳极板材的第二侧上的夹持件能够与位于该隔膜板材上的夹持件配件接合和从其中释放。该阳极组件能够快速且容易地从该处理器去除以便进行维护,而不干擾该处理器的其他部件或将这些部件去除。
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公开(公告)号:TWI557279B
公开(公告)日:2016-11-11
申请号:TW101145897
申请日:2012-12-06
发明人: 威爾森葛瑞格里J , WILSON, GREGORY J. , 麥克修保羅R , MCHUGH, PAUL R.
IPC分类号: C25D19/00
CPC分类号: C25D17/001 , C25D17/008
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