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    光學體之製造方法及光學體
    3.
    发明专利
    光學體之製造方法及光學體 审中-公开
    光学体之制造方法及光学体

    公开(公告)号：TW202021780A

    公开(公告)日：2020-06-16

    申请号：TW109102567

    申请日：2015-08-31

    申请人： 日商迪睿合股份有限公司 ,  DEXERIALS CORPORATION

    发明人： 梶谷俊一 ,  KAJIYA, SHUNICHI ,  寺島英樹 ,  TERASHIMA, HIDEKI ,  村本穰 ,  MURAMOTO, YUTAKA ,  菊池正尚 ,  KIKUCHI, MASANAO ,  音羽孝聰 ,  OTOWA, TAKAAKI

    IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C59/04 ,  G02B1/118 ,  G02B5/02 ,  G02F1/1335

    摘要： 提供令防止反射能力提昇之光學體、顯示裝置、及光學體之製造方法。一種光學體，具備：第1凹凸構造，形成在基材之表面；第2凹凸構造，重疊在前述第1凹凸構造；前述第1凹凸構造之凹凸之平均週期是比屬於可見光帶之波長還大；前述第2凹凸構造之凹凸之平均週期是前述屬於可見光帶之波長以下；前述第2凹凸構造之凸起部是朝前述基材之平坦面之法線方向伸長。

    简体摘要： 提供令防止反射能力提升之光学体、显示设备、及光学体之制造方法。一种光学体，具备：第1凹凸构造，形成在基材之表面；第2凹凸构造，重叠在前述第1凹凸构造；前述第1凹凸构造之凹凸之平均周期是比属于可见光带之波长还大；前述第2凹凸构造之凹凸之平均周期是前述属于可见光带之波长以下；前述第2凹凸构造之凸起部是朝前述基材之平坦面之法线方向伸长。