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    光學體之製造方法及光學體
    1.
    发明专利
    光學體之製造方法及光學體 审中-公开
    光学体之制造方法及光学体

    公开(公告)号：TW202021780A

    公开(公告)日：2020-06-16

    申请号：TW109102567

    申请日：2015-08-31

    申请人： 日商迪睿合股份有限公司 ,  DEXERIALS CORPORATION

    发明人： 梶谷俊一 ,  KAJIYA, SHUNICHI ,  寺島英樹 ,  TERASHIMA, HIDEKI ,  村本穰 ,  MURAMOTO, YUTAKA ,  菊池正尚 ,  KIKUCHI, MASANAO ,  音羽孝聰 ,  OTOWA, TAKAAKI

    IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C59/04 ,  G02B1/118 ,  G02B5/02 ,  G02F1/1335

    摘要： 提供令防止反射能力提昇之光學體、顯示裝置、及光學體之製造方法。一種光學體，具備：第1凹凸構造，形成在基材之表面；第2凹凸構造，重疊在前述第1凹凸構造；前述第1凹凸構造之凹凸之平均週期是比屬於可見光帶之波長還大；前述第2凹凸構造之凹凸之平均週期是前述屬於可見光帶之波長以下；前述第2凹凸構造之凸起部是朝前述基材之平坦面之法線方向伸長。

    简体摘要： 提供令防止反射能力提升之光学体、显示设备、及光学体之制造方法。一种光学体，具备：第1凹凸构造，形成在基材之表面；第2凹凸构造，重叠在前述第1凹凸构造；前述第1凹凸构造之凹凸之平均周期是比属于可见光带之波长还大；前述第2凹凸构造之凹凸之平均周期是前述属于可见光带之波长以下；前述第2凹凸构造之凸起部是朝前述基材之平坦面之法线方向伸长。

    母盤、轉印物、及母盤的製造方法
    3.
    发明专利
    母盤、轉印物、及母盤的製造方法 审中-公开
    母盘、转印物、及母盘的制造方法

    公开(公告)号：TW201816525A

    公开(公告)日：2018-05-01

    申请号：TW106131408

    申请日：2017-09-13

    申请人： 日商迪睿合股份有限公司 ,  DEXERIALS CORPORATION

    发明人： 村本穰 ,  MURAMOTO, YUTAKA ,  菊池正尚 ,  KIKUCHI, MASANAO

    IPC分类号： G03F7/24 ,  B29C59/04

    摘要： [課題] 提供一種在外周面具備有以高排列精度連續排列的凹部或凸部之凹凸構造的母盤。 [解決手段]一種母盤，其具備有：圓筒或圓柱形狀的基材；及形成在前述基材的外周面的凹凸構造，前述凹凸構造為在前述基材的周方向上，凹部或凸部以預定周期連續排列的構造，前述凹部或凸部是在前述基材的軸方向上鄰接的周之間，互相以預定的相位差排列。

    简体摘要： [课题] 提供一种在外周面具备有以高排列精度连续排列的凹部或凸部之凹凸构造的母盘。 [解决手段]一种母盘，其具备有：圆筒或圆柱形状的基材；及形成在前述基材的外周面的凹凸构造，前述凹凸构造为在前述基材的周方向上，凹部或凸部以预定周期连续排列的构造，前述凹部或凸部是在前述基材的轴方向上邻接的周之间，互相以预定的相位差排列。