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    光硬化性樹脂組成物、其乾膜、圖型之形成方法以及電／電子零件保護用皮膜
    5.
    发明专利
    光硬化性樹脂組成物、其乾膜、圖型之形成方法以及電／電子零件保護用皮膜 审中-公开
    光硬化性树脂组成物、其干膜、图型之形成方法以及电／电子零件保护用皮膜

    公开(公告)号：TW201241090A

    公开(公告)日：2012-10-16

    申请号：TW100136976

    申请日：2011-10-12

    申请人： 信越化學工業股份有限公司

    发明人： 曾我恭子 ,  加藤英人 ,  武田隆信

    IPC分类号： C08L ,  C08J ,  G03F

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

    摘要： 本發明的解決手段在於一種光硬化性樹脂組成物，其含有：(A)具有下述通式(1)所示的重複單位之含環氧基的高分子化合物100質量份，
    [R 1 ～R 4 係烴基，m為1～100之整數，a、b、c、d為0或正數，0

    简体摘要： 本发明的解决手段在于一种光硬化性树脂组成物，其含有：(A)具有下述通式(1)所示的重复单位之含环氧基的高分子化合物100质量份， [R 1 ～R 4 系烃基，m为1～100之整数，a、b、c、d为0或正数，0<(c+d)/(a+b+c+d)≦1.0，X、Y系式(2)或(3)，但具有至少一个式(3)]； (B)下述式(8)所示的光酸发生剂0.05～20质量份， (C)溶剂。效果为借由使用本发明之含有含环氧基的高分子化合物及光酸产生剂之光硬化性树脂组成物或光硬化性干膜，而在平坦的基板上及具有凹凸的基板中，上述含环氧基的高分子化合物之环氧基彼此系交联，可借由宽广的波长范围之光，在宽广的膜厚进行微细的图型形成。而且，本发明的光硬化性树脂组成物特别若含有少量的环氧化合物当作交联剂，则可进一步促进交联而较佳。

    黏著劑組成物及黏著性乾薄膜
    6.
    发明专利
    黏著劑組成物及黏著性乾薄膜 审中-公开
    黏着剂组成物及黏着性干薄膜

    公开(公告)号：TW201247825A

    公开(公告)日：2012-12-01

    申请号：TW101105869

    申请日：2012-02-22

    申请人： 信越化學工業股份有限公司

    发明人： 武田隆信 ,  曾我恭子 ,  淺井聰

    IPC分类号： C09J ,  B32B ,  H01L

    CPC分类号： C09J183/06 ,  C08G77/14 ,  C08G77/52 ,  C09J183/14 ,  C09J183/16 ,  Y10T428/287 ,  Y10T428/31518 ,  Y10T428/31663

    摘要： 本發明的解決手段在於黏著劑組成物，其含有：(A)具有式(1)的重複單位之含環氧基的高分子化合物，
    [0＜(c+d)/(a+b+c+d)≦1.0，X具有至少1個式(2)的有機基，Y具有至少1個式(3)的有機基]，(B)溶劑。
    效果為若依照本發明，則由於在製造中不需要曝光、烘烤、顯像步驟，故製造成本便宜且生產性高，作為黏著劑所要求的黏著性、熱硬化後的氣密封閉性、低吸濕性等的特性係良好，耐熱性、耐光性等的硬化膜之可靠性亦高。

    简体摘要： 本发明的解决手段在于黏着剂组成物，其含有：(A)具有式(1)的重复单位之含环氧基的高分子化合物， [0＜(c+d)/(a+b+c+d)≦1.0，X具有至少1个式(2)的有机基，Y具有至少1个式(3)的有机基]，(B)溶剂。 效果为若依照本发明，则由于在制造中不需要曝光、烘烤、显像步骤，故制造成本便宜且生产性高，作为黏着剂所要求的黏着性、热硬化后的气密封闭性、低吸湿性等的特性系良好，耐热性、耐光性等的硬化膜之可靠性亦高。