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    用於缺陷分類之方法及系統
    1.
    发明专利
    用於缺陷分類之方法及系統 审中-公开
    用于缺陷分类之方法及系统

    公开(公告)号：TW201706960A

    公开(公告)日：2017-02-16

    申请号：TW105114188

    申请日：2016-05-06

    申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    发明人： 賀力 ,  HE, LI ,  陳 謙輝 亞當 ,  CHEN, CHIENHUEI ADAM ,  梵卡泰若曼 桑卡 ,  VENKATARAMAN, SANKAR ,  喬丹 約翰R 三世 ,  JORDAN, JOHN R., III ,  應華俊 ,  YING, HUAJUN ,  辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH

    IPC分类号： G06T7/00 ,  G06K9/62 ,  G06K9/66

    CPC分类号： G06T7/0004 ,  G06K9/6256 ,  G06K9/6292 ,  G06K2009/6295 ,  G06T2207/20081 ,  G06T2207/30148

    摘要： 缺陷分類包含：獲取一樣本之一或多個影像；接收基於一或多個訓練缺陷之一或多個屬性之該一或多個訓練缺陷之一手動分類；基於該經接收之手動分類及該一或多個訓練缺陷之該等屬性產生一集成學習分類器；基於一經接收之分類純度要求產生該一或多個訓練缺陷之各缺陷類型之一可信度臨限值；獲取包含一或多個測試缺陷之一或多個影像；使用該經產生之集成學習分類器對該一或多個測試缺陷分類；使用該經產生之集成學習分類器針對該一或多個測試缺陷之各者計算一可信度位準；及經由使用者介面裝置報告具有低於該經產生之可信度臨限值之一可信度位準之一或多個測試缺陷以用於手動分類。

    简体摘要： 缺陷分类包含：获取一样本之一或多个影像；接收基于一或多个训练缺陷之一或多个属性之该一或多个训练缺陷之一手动分类；基于该经接收之手动分类及该一或多个训练缺陷之该等属性产生一集成学习分类器；基于一经接收之分类纯度要求产生该一或多个训练缺陷之各缺陷类型之一可信度临限值；获取包含一或多个测试缺陷之一或多个影像；使用该经产生之集成学习分类器对该一或多个测试缺陷分类；使用该经产生之集成学习分类器针对该一或多个测试缺陷之各者计算一可信度位准；及经由用户界面设备报告具有低于该经产生之可信度临限值之一可信度位准之一或多个测试缺陷以用于手动分类。

    用於晶圓邊緣檢測及查核之方法及系統
    5.
    发明专利
    用於晶圓邊緣檢測及查核之方法及系統 审中-公开
    用于晶圆边缘检测及查核之方法及系统

    公开(公告)号：TW201715225A

    公开(公告)日：2017-05-01

    申请号：TW105125522

    申请日：2016-08-10

    申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    发明人： 姜 辛容 ,  JIANG, XINRONG ,  希爾斯 克里斯多福 ,  SEARS, CHRISTOPHER ,  辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH ,  泰瑞斯 大衛 ,  TREASE, DAVID ,  凱茲 大衛 ,  KAZ, DAVID ,  葉煒 ,  YE, WEI

    IPC分类号： G01N23/225 ,  G01N21/95

    CPC分类号： H01J37/153 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/1536

    摘要： 一種用於檢測或查核一樣本之一邊緣部分之電光學系統包含：一電子束源，其經組態以產生一或多個電子束；一樣本載台，其經組態以固定該樣本；及一電光學柱，其包含經組態以將該一或多個電子束之至少一部分引導至該樣本之一邊緣部分上之一組電光學元件。該系統亦包含：一樣本位置參考裝置，其圍繞該樣本而安置；及一保護環裝置，其安置於該樣本之該邊緣與該樣本位置參考裝置之間以補償一或多個邊際場。該保護環裝置之一或多個特性係可調整的。該系統亦包含一偵測器總成，該偵測器總成經組態以偵測自該樣本之表面發出之電子。

    简体摘要： 一种用于检测或查核一样本之一边缘部分之电光学系统包含：一电子束源，其经组态以产生一或多个电子束；一样本载台，其经组态以固定该样本；及一电光学柱，其包含经组态以将该一或多个电子束之至少一部分引导至该样本之一边缘部分上之一组电光学组件。该系统亦包含：一样本位置参考设备，其围绕该样本而安置；及一保护环设备，其安置于该样本之该边缘与该样本位置参考设备之间以补偿一或多个边际场。该保护环设备之一或多个特性系可调整的。该系统亦包含一侦测器总成，该侦测器总成经组态以侦测自该样本之表面发出之电子。

    用於反覆缺陷分類之方法及系統
    6.
    发明专利
    用於反覆缺陷分類之方法及系統 审中-公开
    用于反复缺陷分类之方法及系统

    公开(公告)号：TW201710952A

    公开(公告)日：2017-03-16

    申请号：TW105117654

    申请日：2016-06-03

    申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    发明人： 梵卡泰若曼 桑卡 ,  VENKATARAMAN, SANKAR ,  賀力 ,  HE, LI ,  喬丹 約翰R 三世 ,  JORDAN, JOHN R., III ,  巴里司 歐克森 ,  BARIS, OKSEN ,  辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH

    IPC分类号： G06K9/62 ,  G06T7/00

    CPC分类号： G06K9/6254 ,  G06K9/6255 ,  G06K9/6269 ,  G06K9/628 ,  G06K9/6282 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/20081 ,  G06T2207/30148 ,  H01L22/00 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

    摘要： 缺陷分類包含：獲取包含多個缺陷之一樣本之一或多個影像；基於該等缺陷之屬性將該等缺陷分組成缺陷類型群組；自一使用者介面裝置接收指示來自該等群組之選定數目個缺陷之一第一手動分類之一信號；基於該第一手動分類及該等缺陷之該等屬性產生一分類器；使用該分類器對未由該手動分類手動分類之一或多個缺陷分類；識別由該分類器分類之具有最低可信度位準之該等缺陷；自該使用者介面裝置接收指示具有該最低可信度位準之該等缺陷之一額外手動分類之一信號；判定該額外手動分類是否識別在該第一手動分類中未識別之一或多個額外缺陷類型；及反覆程序直到未發現新缺陷類型。

    简体摘要： 缺陷分类包含：获取包含多个缺陷之一样本之一或多个影像；基于该等缺陷之属性将该等缺陷分组成缺陷类型群组；自一用户界面设备接收指示来自该等群组之选定数目个缺陷之一第一手动分类之一信号；基于该第一手动分类及该等缺陷之该等属性产生一分类器；使用该分类器对未由该手动分类手动分类之一或多个缺陷分类；识别由该分类器分类之具有最低可信度位准之该等缺陷；自该用户界面设备接收指示具有该最低可信度位准之该等缺陷之一额外手动分类之一信号；判定该额外手动分类是否识别在该第一手动分类中未识别之一或多个额外缺陷类型；及反复进程直到未发现新缺陷类型。

    自動判定為基礎之能量分散式Ｘ射線之方法及裝置
    7.
    发明专利
    自動判定為基礎之能量分散式Ｘ射線之方法及裝置 审中-公开
    自动判定为基础之能量分佈式Ｘ射线之方法及设备

    公开(公告)号：TW201627659A

    公开(公告)日：2016-08-01

    申请号：TW104134805

    申请日：2015-10-22

    申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    发明人： 辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH ,  史畢發 德米崔 ,  SPIVAK, DMITRY ,  徐 惠納 ,  XU, HUINA ,  蕭 宏 ,  XIAO, HONG ,  布思拉 羅希 ,  BOTHRA, ROHIT

    IPC分类号： G01N23/225 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28

    CPC分类号： G01N23/2252 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/22 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/2807 ,  H01J2237/2817

    摘要： 一項實施例係關於一種用於自動再檢測在目標基板上之一有缺陷晶粒中偵測到之缺陷之方法。該方法包含：使用一次級電子顯微鏡(SEM)來執行該等缺陷之一自動再檢測，以便獲得該等缺陷之電子束影像；執行基於如自該等電子束影像確定之該等缺陷之形態來將該等缺陷分成若干類型之一自動分類；選擇一特定類型之缺陷，用於自動能量分散式x射線(EDX)再檢測；及對該特定類型之該等缺陷執行該自動EDX再檢測。另外，揭示用於獲得一準確參考以便改良EDX結果之有用性的自動技術。此外，揭示基於該等EDX結果來將該等缺陷分類之一自動方法，該自動方法提供組合形態資訊與元素資訊兩者之一最終帕累托(pareto)。亦揭示其他實施例、態樣及特徵。

    简体摘要： 一项实施例系关于一种用于自动再检测在目标基板上之一有缺陷晶粒中侦测到之缺陷之方法。该方法包含：使用一次级电子显微镜(SEM)来运行该等缺陷之一自动再检测，以便获得该等缺陷之电子束影像；运行基于如自该等电子束影像确定之该等缺陷之形态来将该等缺陷分成若干类型之一自动分类；选择一特定类型之缺陷，用于自动能量分佈式x射线(EDX)再检测；及对该特定类型之该等缺陷运行该自动EDX再检测。另外，揭示用于获得一准确参考以便改良EDX结果之有用性的自动技术。此外，揭示基于该等EDX结果来将该等缺陷分类之一自动方法，该自动方法提供组合形态信息与元素信息两者之一最终帕累托(pareto)。亦揭示其他实施例、态样及特征。

    用於次表面缺陷再檢測之樣本之準備的系統與方法
    8.
    发明专利
    用於次表面缺陷再檢測之樣本之準備的系統與方法 审中-公开
    用于次表面缺陷再检测之样本之准备的系统与方法

    公开(公告)号：TW201333457A

    公开(公告)日：2013-08-16

    申请号：TW101144873

    申请日：2012-11-29

    申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

    发明人： 坎柏契洛 西西里亞 ,  CAMPOCHIARO, CECELIA ,  蕭宏 ,  XIAO, HONG ,  梵 萊爾特 麥可 ,  VAN RIET, MICHAEL ,  克拉克 班傑明 詹姆士 湯瑪士 ,  CLARKE, BENJAMIN JAMES THOMAS ,  辛哈 赫許 ,  SINHA, HARSH

    IPC分类号： G01N23/225

    CPC分类号： H01L22/20 ,  H01J37/28 ,  H01J37/31 ,  H01J2237/2817 ,  H01L22/12

    摘要： 一項實施例係關於一種用於使用一掃描電子顯微鏡設備之次表面再檢測之一基板之一樣本之準備的方法。重新偵測在一第一結果檔案中指示之一位置處之一缺陷，且用具有相對於該缺陷之該位置之預定定位之至少一個離散標記點來標記該缺陷之該位置。可相對於裝置之設計來判定該缺陷之該位置，且可使用彼資訊以至少一部分自動方式來判定一切割位置及一切割角度。另一實施例係關於一種用於準備用於次表面再檢測之一樣本的系統。另一實施例係關於一種用於在一目標基板上標記一用於再檢測之缺陷之方法。本發明亦揭示其他實施例、態樣及特徵。

    简体摘要： 一项实施例系关于一种用于使用一扫描电子显微镜设备之次表面再检测之一基板之一样本之准备的方法。重新侦测在一第一结果文档中指示之一位置处之一缺陷，且用具有相对于该缺陷之该位置之预定定位之至少一个离散标记点来标记该缺陷之该位置。可相对于设备之设计来判定该缺陷之该位置，且可使用彼信息以至少一部分自动方式来判定一切割位置及一切割角度。另一实施例系关于一种用于准备用于次表面再检测之一样本的系统。另一实施例系关于一种用于在一目标基板上标记一用于再检测之缺陷之方法。本发明亦揭示其他实施例、态样及特征。