公开(公告)号：TW508650B

公开(公告)日：2002-11-01

申请号：TW090132952

申请日：2001-12-28

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 廖茂成 ,  王英郎 ,  梁鴻新 ,  鄭翔升 ,  徐勝德 ,  楊智淵

IPC: H01L

Abstract: 一種製程反應室之預防保養(preventive maintenance； PM)裝置。本發明之製程反應室之預防保養裝置連接至例如化學氣相沉積(chemical vapor deposition；CVD)製程反應室以進行預防保養工作，且特徵在於具有排氣管連接至抽氣裝置以進行排氣功能、具有拉門便於在排氣進行中仍能清潔反應室之內部元件甚至取出、具有可360度旋轉之頂蓋以利清潔反應室內之所有區域、以及幾乎所有零件皆以例如壓克力之透明材質製成。運用本發明之製程反應室之預防保養裝置，可具有根除污染源擴散、保護人員免於吸入或接觸有害氣體、以及有效避免工安事故等優點。

Abstract in simplified Chinese: 一种制程反应室之预防保养(preventive maintenance； PM)设备。本发明之制程反应室之预防保养设备连接至例如化学气相沉积(chemical vapor deposition；CVD)制程反应室以进行预防保养工作，且特征在于具有排气管连接至抽气设备以进行排气功能、具有拉门便于在排气进行中仍能清洁反应室之内部组件甚至取出、具有可360度旋转之顶盖以利清洁反应室内之所有区域、以及几乎所有零件皆以例如压克力之透明材质制成。运用本发明之制程反应室之预防保养设备，可具有根除污染源扩散、保护人员免于吸入或接触有害气体、以及有效避免工安事故等优点。