公开(公告)号：TW348758U

公开(公告)日：1998-12-21

申请号：TW086202651

申请日：1997-02-19

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 李建賢 ,  陳瑛祥

IPC: B65G ,  H01L

Abstract: 一種可改變壓力方向的萬向拾取裝置，係用於連接至抽氣機，使該萬向拾取裝置可以改變抽氣機所產生的壓力方向而產生任意方向的壓力，這種萬向拾取裝置至少包含：壓力傳遞管裝置和萬向管裝置，其中壓力傳遞管裝置是使用於傳遞抽氣機所產生的壓力。而萬向管裝置是使用於連接壓力傳遞管裝置以傳遞抽氣機所產生的壓力，並藉由該萬向管裝置形狀的改變而改變壓力的方向。

Abstract in simplified Chinese: 一种可改变压力方向的万向十取设备，系用于连接至抽气机，使该万向十取设备可以改变抽气机所产生的压力方向而产生任意方向的压力，这种万向十取设备至少包含：压力传递管设备和万向管设备，其中压力传递管设备是使用于传递抽气机所产生的压力。而万向管设备是使用于连接压力传递管设备以传递抽气机所产生的压力，并借由该万向管设备形状的改变而改变压力的方向。

公开(公告)号：TW423713U

公开(公告)日：2001-02-21

申请号：TW088201262

申请日：1999-01-26

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 簡宏儒 ,  陳瑛祥 ,  鄭文功 ,  王英郎

IPC: H01L

Abstract: 一種晶圓上鍍層邊緣寬度之校正量測工具。該量測工具基本上為一透明之圓形塑膠平板，尺寸大小則和晶圓相同，並以精密度較高的CNC 自動劃線機在此圓形平板上刻劃出多個不同半徑，但相同圓心之圓形線條，而此同心圓線條之數目及彼此的距離則視需要而有所變化，一般寬度大約在1~4mm左右。於此圓形測量平板之一側則黏貼一把手，以方便操作者使用。利用此圓形平板測量工具，可以替代傳統的直尺或游標尺，達到快速測量的目的。

Abstract in simplified Chinese: 一种晶圆上镀层边缘宽度之校正量测工具。该量测工具基本上为一透明之圆形塑胶平板，尺寸大小则和晶圆相同，并以精密度较高的CNC 自动划线机在此圆形平板上刻划出多个不同半径，但相同圆心之圆形线条，而此同心圆线条之数目及彼此的距离则视需要而有所变化，一般宽度大约在1~4mm左右。于此圆形测量平板之一侧则黏贴一把手，以方便操作者使用。利用此圆形平板测量工具，可以替代传统的直尺或光标尺，达到快速测量的目的。

公开(公告)号：TW408188B

公开(公告)日：2000-10-11

申请号：TW086105359

申请日：1997-04-24

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 涂謙誠 ,  陳瑛祥

IPC: C23C

Abstract: 本發明係一種物理氣相沉積金屬靶之承座，主要係指以物理氣相沉積中之濺鍍法，使半導體基板分別鍍上數層金屬薄膜，而每一層金屬薄膜之材料並不相同，本發明之特徵即係在每一不同材質之金屬靶上各設有至少一插接孔，而金屬濺鍍機之物理氣相沉積程序室內用以固定金屬靶之承座，在對應於該等金屬靶所設之插接孔位置處設有相配合之樞接孔；因此，當濺鍍步驟係使用到某一種材質之金屬靶時，即將至少一插梢嵌插在承座上對應於該種材質之樞接孔中，而插梢之另一端則嵌插在所對應之該金屬靶插接孔中，使插梢只能與金屬靶上之插接孔一對一的插接，令承座與金屬靶定位在一起，故，可避免因拿錯不同材質之金屬靶，而將該錯誤之金屬靶濺鍍到半導體基板上，造成該半導體基板須整個報廢掉，俾可大幅降低報廢品之數量。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系一种物理气相沉积金属靶之承座，主要系指以物理气相沉积中之溅镀法，使半导体基板分别镀上数层金属薄膜，而每一层金属薄膜之材料并不相同，本发明之特征即系在每一不同材质之金属靶上各设有至少一插接孔，而金属溅镀机之物理气相沉积进程室内用以固定金属靶之承座，在对应于该等金属靶所设之插接孔位置处设有相配合之枢接孔；因此，当溅镀步骤系使用到某一种材质之金属靶时，即将至少一插梢嵌插在承座上对应于该种材质之枢接孔中，而插梢之另一端则嵌插在所对应之该金属靶插接孔中，使插梢只能与金属靶上之插接孔一对一的插接，令承座与金属靶定位在一起，故，可避免因拿错不同材质之金属靶，而将该错误之金属靶溅镀到半导体基板上，造成该半导体基板须整个报废掉，俾可大幅降低报废品之数量。

公开(公告)号：TW327897U

公开(公告)日：1998-03-01

申请号：TW086202396

申请日：1997-02-13

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 陳瑛祥

IPC: B67D

Abstract: 依據上述本創作的化學廢液自動排出收集裝置，由於經由緩衝儲槽、溢流槽及排出管而將化學廢液排出至放置於儲存箱內的廢液儲槽，故能夠不需要人力來搬運，而省人力，且可防止上述化學廢液污染工作環境，進而保持優良的工作環境。

Abstract in simplified Chinese: 依据上述本创作的化学废液自动排出收集设备，由于经由缓冲储槽、溢流槽及排出管而将化学废液排出至放置于存储箱内的废液储槽，故能够不需要人力来搬运，而省人力，且可防止上述化学废液污染工作环境，进而保持优良的工作环境。

公开(公告)号：TW358397U

公开(公告)日：1999-05-11

申请号：TW085220521

申请日：1996-12-31

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 陳瑛祥

IPC: B08B

Abstract: 一種排氣槽維修清除設備，用以伸入一開口朝下之中空排氣槽內，清除附著於排氣槽內壁之雜物，此清除設備包含：一轉軸，可受控制而升降穿過中空排氣槽之下方開口，在排氣槽內部上下移行，且可受控制而轉動；多數之刷片，沿該轉軸之軸向上下配列固定於該轉軸外周，並朝外延伸至可刮刷到排氣槽內壁；真空吸除裝置，藉由真空吸力，將該多數刷片所刮刷下來之雜物予以吸除乾淨；及噴水裝置，包括：供水通道，開設於該轉軸之內部；多數噴水孔，與該供水通道相連通而開設於該轉軸之內部，並沿徑向延伸至轉軸外周面；及供水管路，連通至轉軸內之供水通道，可視須要經由該供水通道，由該等噴水孔噴出至排氣槽內壁，以協助將附著於排氣槽內壁之雜物清除。

Abstract in simplified Chinese: 一种排气槽维修清除设备，用以伸入一开口朝下之中空排气槽内，清除附着于排气槽内壁之杂物，此清除设备包含：一转轴，可受控制而升降穿过中空排气槽之下方开口，在排气槽内部上下移行，且可受控制而转动；多数之刷片，沿该转轴之轴向上下配列固定于该转轴外周，并朝外延伸至可刮刷到排气槽内壁；真空吸除设备，借由真空吸力，将该多数刷片所刮刷下来之杂物予以吸除干净；及喷水设备，包括：供水信道，开设于该转轴之内部；多数喷水孔，与该供水信道相连通而开设于该转轴之内部，并沿径向延伸至转轴外周面；及供水管路，连通至转轴内之供水信道，可视须要经由该供水信道，由该等喷水孔喷出至排气槽内壁，以协助将附着于排气槽内壁之杂物清除。

公开(公告)号：TW341891U

公开(公告)日：1998-10-01

申请号：TW085216092

申请日：1996-10-18

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 許永茂 ,  陳瑛祥 ,  彭德雄 ,  簡維堯

IPC: B08B

Abstract: 依據本創作的處理室清潔用排氣罩，由於罩本體套設於處理室的開口，而使上述罩本體的套接口與上述處理室的開口連通，並藉由設置於上述罩本體之排氣口的排氣口的排氣管，而使上述處理室於清潔時所產生的氣體排出，故能夠防止有害氣體污染工作場所的環境空氣。且由於上述罩本體內設有物品放置架，以放置清潔時所需的化學品及工具，故能夠便於清潔處理室。又由於在罩本體的出入門設有手套，故於清潔時可不需要打開出入門，而更加能夠防止有害氣體洩漏出。此外，於上述排出管設有壓力計，以監控上述罩本體及處理室內的壓力，使此壓力小於其外部的壓力，如此亦能夠多防止有害氣體洩漏出。

Abstract in simplified Chinese: 依据本创作的处理室清洁用排气罩，由于罩本体套设于处理室的开口，而使上述罩本体的套接口与上述处理室的开口连通，并借由设置于上述罩本体之排气口的排气口的排气管，而使上述处理室于清洁时所产生的气体排出，故能够防止有害气体污染工作场所的环境空气。且由于上述罩本体内设有物品放置架，以放置清洁时所需的化学品及工具，故能够便于清洁处理室。又由于在罩本体的出入门设有手套，故于清洁时可不需要打开出入门，而更加能够防止有害气体泄漏出。此外，于上述排出管设有压力计，以监控上述罩本体及处理室内的压力，使此压力小于其外部的压力，如此亦能够多防止有害气体泄漏出。

公开(公告)号：TW323551U

公开(公告)日：1997-12-21

申请号：TW086200277

申请日：1997-01-08

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 李傳德 ,  陳瑛祥

IPC: B08B

Abstract: 本創作係有關一種附設於廢氣處理裝置上之元件清洗結構，該結構上設有固定在廢氣裝置之集中塔旁之元件清洗槽，該元件清洗槽下接設有一垂落在該集中塔開口中之管體，而在元件清洗槽一側邊上接設有元件清洗平台，且元件清洗槽旁架設有噴水槍，俾當集中塔內之刮刀或其它相關元件上積滿刮除塔壁上之粉塵或雜質時，作定期維修保養之維修人員可將該刮刀或其它相關元件由塔中拆卸下來置於元件清洗平台上，再藉由噴水槍將該等表面上之積垢清除乾淨，同時，使積垢全部集中到元件清洗槽中，進而由元件清洗槽之管體回收到集中塔下之貯水槽，再利用其現有之抽水泵浦，將廢液經由管路排放到廠物集中處理，降低環境污染。

Abstract in simplified Chinese: 本创作系有关一种附设于废气处理设备上之组件清洗结构，该结构上设有固定在废气设备之集中塔旁之组件清洗槽，该组件清洗槽下接设有一垂落在该集中塔开口中之管体，而在组件清洗槽一侧边上接设有组件清洗平台，且组件清洗槽旁架设有喷水枪，俾当集中塔内之刮刀或其它相关组件上积满刮除塔壁上之粉尘或杂质时，作定期维修保养之维修人员可将该刮刀或其它相关组件由塔中拆卸下来置于组件清洗平台上，再借由喷水枪将该等表面上之积垢清除干净，同时，使积垢全部集中到组件清洗槽中，进而由组件清洗槽之管体回收到集中塔下之贮水槽，再利用其现有之抽水泵浦，将废液经由管路排放到厂物集中处理，降低环境污染。

公开(公告)号：TW310749U

公开(公告)日：1997-07-11

申请号：TW086200276

申请日：1997-01-08

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司

Inventor： 李秉隆 ,  陳瑛祥

IPC: E04F

Abstract: 一種高架地板用支持裝置係適用於設置在支持面上以支持至少一地板，且上述地板具有底部支持框架，而上述高架地板用支持裝置包括：一第一支持構件，具有一設置面，用以設置於上述支持面上；一第二支持構件，具有一地板放置面，且上述地板放置面設有至少一定位銷，用以令上述地板的底部支持框架放置於上述地板放置面上，而上述定位銷位於上述底部支持框架的內側；以及一連結構件，設置於上述第一支持構件與上述第二支持構件之間，用以連結上述第一支持構件及第二支持構件；其特徵在於：上述高架地板用支持裝置更包括至少一固定塊，且上述固定塊設置於上述第二支持構件的地板放置面並於上述地板之底部支持框架的外側。

Abstract in simplified Chinese: 一种高架地板用支持设备系适用于设置在支持面上以支持至少一地板，且上述地板具有底部支持框架，而上述高架地板用支持设备包括：一第一支持构件，具有一设置面，用以设置于上述支持面上；一第二支持构件，具有一地板放置面，且上述地板放置面设有至少一定位销，用以令上述地板的底部支持框架放置于上述地板放置面上，而上述定位销位于上述底部支持框架的内侧；以及一链接构件，设置于上述第一支持构件与上述第二支持构件之间，用以链接上述第一支持构件及第二支持构件；其特征在于：上述高架地板用支持设备更包括至少一固定块，且上述固定块设置于上述第二支持构件的地板放置面并于上述地板之底部支持框架的外侧。