公开(公告)号：TW201725454A

公开(公告)日：2017-07-16

申请号：TW105133089

申请日：2016-10-13

申请人： 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

发明人： 林胡偉 ,  LIN, HU WEI ,  許志賢 ,  HSU, CHIH HSIEN ,  邱昱瑋 ,  CHIU, YU WEI ,  陳海茵 ,  CHEN, HAI YIN ,  王英豪 ,  WANG, YING HAO ,  吳育恆 ,  WU, YU HEN

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70541 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/67282 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54433

摘要： 在一些實施例中，本揭露是關於微影基材標記工具。微影基材標記工具具有第一微影曝光工具，其設置在共用機殼內，且配置以在複數次曝光中產生第一型電磁輻射。移動式光罩具有複數個不同光罩場，其分別配置以阻擋第一型電磁輻射之一部分，以暴露出在半導體基材上之光敏材料內的基材識別標記。橫越元件配置以移動移動式光罩，以在這些曝光之分開的曝光中，使這些光罩場之分開的光罩場暴露至光敏材料上。因此，移動式光罩允許利用相同光罩在光敏材料內形成不同系列的基材識別標記，可經濟地提供微影基材標記的優點。

简体摘要： 在一些实施例中，本揭露是关于微影基材标记工具。微影基材标记工具具有第一微影曝光工具，其设置在共享机壳内，且配置以在复数次曝光中产生第一型电磁辐射。移动式光罩具有复数个不同光罩场，其分别配置以阻挡第一型电磁辐射之一部分，以暴露出在半导体基材上之光敏材料内的基材识别标记。横越组件配置以移动移动式光罩，以在这些曝光之分开的曝光中，使这些光罩场之分开的光罩场暴露至光敏材料上。因此，移动式光罩允许利用相同光罩在光敏材料内形成不同系列的基材识别标记，可经济地提供微影基材标记的优点。

公开(公告)号：TWI608312B

公开(公告)日：2017-12-11

申请号：TW105133089

申请日：2016-10-13

申请人： 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

发明人： 林胡偉 ,  LIN, HU WEI ,  許志賢 ,  HSU, CHIH HSIEN ,  邱昱瑋 ,  CHIU, YU WEI ,  陳海茵 ,  CHEN, HAI YIN ,  王英豪 ,  WANG, YING HAO ,  吳育恆 ,  WU, YU HEN

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L23/544 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70541 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/67282 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54433