建構一佈局設計之方法與系統
    2.
    发明专利
    建構一佈局設計之方法與系統 审中-公开
    建构一布局设计之方法与系统

    公开(公告)号:TW201619860A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:TW104138430

    申请日:2015-11-20

    CPC classification number: G06F17/5072 G06F17/5068 H01L27/0207 H03K19/02

    Abstract: 本發明揭露建構一佈局設計以製造一積體電路之一方法。該方法包括確認上述佈局設計之一區域內,一第一組網格線對應於一第二組網格線的一線條樣式;以及若該線條樣式被判定與K種預定線條樣式之一第k個預定線條樣式匹配時,將K種不同標準單元佈局之一第k個標準單元佈局設置在該佈局設計之該區域。K係一等於或大於2之整數,且k係一次序指標,範圍由1至K。該佈局設計之該區域被設計成符合上述K種不同標準單元佈局其中之一的尺寸,而上述K種不同標準單元佈局係對應一相同之標準單元功能。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露建构一布局设计以制造一集成电路之一方法。该方法包括确认上述布局设计之一区域内,一第一组网格线对应于一第二组网格线的一线条样式;以及若该线条样式被判定与K种预定线条样式之一第k个预定线条样式匹配时,将K种不同标准单元布局之一第k个标准单元布局设置在该布局设计之该区域。K系一等于或大于2之整数,且k系一次序指针,范围由1至K。该布局设计之该区域被设计成符合上述K种不同标准单元布局其中之一的尺寸,而上述K种不同标准单元布局系对应一相同之标准单元功能。

    佈局設計方法、佈局設計系統以及積體電路
    5.
    发明专利
    佈局設計方法、佈局設計系統以及積體電路 审中-公开
    布局设计方法、布局设计系统以及集成电路

    公开(公告)号:TW201619861A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:TW104138759

    申请日:2015-11-23

    CPC classification number: G06F17/5072 H01L27/0886

    Abstract: 本文揭示一種佈局設計方法。佈局設計方法包括在第一佈局層中置放第一組佈局圖案及在第二佈局層中置放第二組佈局圖案。第一組佈局圖案與第一組柵線之一或更多個柵線對準。第一組柵線沿第一方向延伸,其中第一組柵線之兩個柵線與標準單元佈局之兩個單元邊界重疊。第二組佈局圖案與第二組柵線之一或更多柵線對準。第二組柵線沿第一方向延伸且具有至少兩個不同線間距,其中第二組柵線之兩個柵線與標準單元佈局之兩個單元邊界重疊。

    Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种布局设计方法。布局设计方法包括在第一布局层中置放第一组布局图案及在第二布局层中置放第二组布局图案。第一组布局图案与第一组栅线之一或更多个栅线对准。第一组栅线沿第一方向延伸,其中第一组栅线之两个栅线与标准单元布局之两个单元边界重叠。第二组布局图案与第二组栅线之一或更多栅线对准。第二组栅线沿第一方向延伸且具有至少两个不同线间距,其中第二组栅线之两个栅线与标准单元布局之两个单元边界重叠。

Patent Agency Ranking