公开(公告)号：TWI688066B

公开(公告)日：2020-03-11

申请号：TW107123752

申请日：2018-07-09

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 李宗徽 ,  LEE, TZUNG-HUI ,  余振華 ,  YU, CHEN-HUA ,  蔡及銘 ,  TSAI, CHI-MING ,  郭宏瑞 ,  KUO, HUNG-JUI ,  何明哲 ,  HO, MING-CHE

IPC: H01L23/488 ,  H01L23/522

公开(公告)号：TW201919180A

公开(公告)日：2019-05-16

申请号：TW107123752

申请日：2018-07-09

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 李宗徽 ,  LEE, TZUNG-HUI ,  余振華 ,  YU, CHEN-HUA ,  蔡及銘 ,  TSAI, CHI-MING ,  郭宏瑞 ,  KUO, HUNG-JUI ,  何明哲 ,  HO, MING-CHE

IPC: H01L23/488 ,  H01L23/522

Abstract: 本發明實施例公開多種積體扇出型封裝及其形成方法。一種積體扇出型封裝包括凸塊結構、聚合物層以及金屬層。凸塊結構包括金屬墊以及與金屬墊電性連接的凸塊。聚合物層從凸塊的側壁側向延伸。金屬層覆蓋凸塊結構並與金屬墊的側表面實體接觸。

Abstract in simplified Chinese: 本发明实施例公开多种积体扇出型封装及其形成方法。一种积体扇出型封装包括凸块结构、聚合物层以及金属层。凸块结构包括金属垫以及与金属垫电性连接的凸块。聚合物层从凸块的侧壁侧向延伸。金属层覆盖凸块结构并与金属垫的侧表面实体接触。

公开(公告)号：TW201802576A

公开(公告)日：2018-01-16

申请号：TW105131871

申请日：2016-10-03

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 陳尹川 ,  CHEN, YIN-CHUAN ,  蔡啟銘 ,  TSAI, CHI-MING ,  陳信煌 ,  CHEN, SHIN-HUANG

IPC: G03F1/42

CPC classification number: G03F1/36 ,  G06F17/5081

Abstract: 一種對光學鄰近校正程序播種的方法包括以下步驟。在電腦的輸入裝置中，接收作為校正標的之校正前的設計套組的設計特徵。從多個已建檔的光學鄰近校正後的設計套組中選擇一個，其選擇的方式是藉由處理器並經由與有效地連接至電腦的光學鄰近校正的資料庫互動，且根據作為校正標的之光學鄰近校正前的設計特徵與對應至已建檔的光學鄰近校正後的設計套組的設計特徵之間的關聯性來進行選擇，據此擷取所選擇的已建檔的光學鄰近校正後的設計套組。接著，根據所選擇的已建檔的光學鄰近校正後的設計套組來產生一個或多個光學鄰近校正程序的種子解。

Abstract in simplified Chinese: 一种对光学邻近校正进程播种的方法包括以下步骤。在电脑的输入设备中，接收作为校正标的之校正前的设计套组的设计特征。从多个已建档的光学邻近校正后的设计套组中选择一个，其选择的方式是借由处理器并经由与有效地连接至电脑的光学邻近校正的数据库交互，且根据作为校正标的之光学邻近校正前的设计特征与对应至已建档的光学邻近校正后的设计套组的设计特征之间的关联性来进行选择，据此截取所选择的已建档的光学邻近校正后的设计套组。接着，根据所选择的已建档的光学邻近校正后的设计套组来产生一个或多个光学邻近校正进程的种子解。

公开(公告)号：TW202018408A

公开(公告)日：2020-05-16

申请号：TW108134281

申请日：2019-09-23

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.

Inventor： 朱為麟 ,  CHU, WEI-LIN ,  曾信綸 ,  TSENG, HSIN-LUN ,  黃聖文 ,  HUANG, SHENG-WEN ,  黃志仲 ,  HUANG, CHIH-CHUNG ,  蔡啟銘 ,  TSAI, CHI-MING

IPC: G03F1/36 ,  G03F1/84

Abstract: 本揭露提供一種執行布局改善之方法及系統，其包含：提供包括複數個單元之一第一設計布局；使用光學近接校正來更新該複數個單元中之一第一單元以提供一第一經更新單元及一資料集；基於該資料集更新來自該第一設計布局中之剩餘單元之一第二單元以提供一第二經更新單元；及基於該第一設計布局中之該第一經更新單元及該第二經更新單元製造一遮罩。

Abstract in simplified Chinese: 本揭露提供一种运行布局改善之方法及系统，其包含：提供包括复数个单元之一第一设计布局；使用光学近接校正来更新该复数个单元中之一第一单元以提供一第一经更新单元及一数据集；基于该数据集更新来自该第一设计布局中之剩余单元之一第二单元以提供一第二经更新单元；及基于该第一设计布局中之该第一经更新单元及该第二经更新单元制造一遮罩。