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    觸控式操作系統及其作動方法
    2.
    发明专利
    觸控式操作系統及其作動方法 审中-公开
    触摸式操作系统及其作动方法

    公开(公告)号：TW201841106A

    公开(公告)日：2018-11-16

    申请号：TW107110215

    申请日：2018-03-26

    申请人： 日商富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 岡部雄生 ,  OKABE, YUKI ,  塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI ,  宇佐美由久 ,  USAMI, YOSHIHISA ,  北川祐介 ,  KITAGAWA, YUSUKE

    IPC分类号： G06F3/041 ,  G06F3/0487 ,  G06F3/01

    摘要： 本發明提供一種能夠防止錯誤操作的同時消除與觸摸感測器的操作鎖 定的解除及功能的執行的麻煩相關之觸控式操作系統及其作動方法。觸控板(13)具有平面部(40)和半球狀的凸型的立體部(41)。操作識別部(75)識別對觸控板(13)的操作區域進行之手勢操作。操作有效性判定部(76)即使在執行手勢操作無效之操作鎖定時，亦只將對立體部(41)的下部周邊(41A)進行之旋轉滑動操作判定為有效操作。當執行操作鎖定時進行旋轉滑動操作時，則操作鎖定被解除，並且同時藉由AP執行部(71)執行特定功能。

    简体摘要： 本发明提供一种能够防止错误操作的同时消除与触摸传感器的操作锁 定的解除及功能的运行的麻烦相关之触摸式操作系统及其作动方法。触摸板(13)具有平面部(40)和半球状的凸型的三維部(41)。操作识别部(75)识别对触摸板(13)的操作区域进行之手势操作。操作有效性判定部(76)即使在运行手势操作无效之操作锁定时，亦只将对三維部(41)的下部周边(41A)进行之旋转滑动操作判定为有效操作。当运行操作锁定时进行旋转滑动操作时，则操作锁定被解除，并且同时借由AP运行部(71)运行特定功能。

    觸控面板用導電性積層體、觸控面板、透明導電性積層體
    4.
    发明专利
    觸控面板用導電性積層體、觸控面板、透明導電性積層體 审中-公开
    触摸皮肤用导电性积层体、触摸皮肤、透明导电性积层体

    公开(公告)号：TW201606597A

    公开(公告)日：2016-02-16

    申请号：TW104118721

    申请日：2015-06-10

    申请人： 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI

    IPC分类号： G06F3/041 ,  B32B15/08 ,  H01B5/14 ,  G03F7/26

    CPC分类号： C23C18/30 ,  C03C17/3405 ,  C03C17/38 ,  C03C2217/948 ,  C03C2218/116 ,  C03C2218/328 ,  C03C2218/34 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/166 ,  C23C18/208 ,  C23C18/31 ,  C23C18/38 ,  C23C18/40 ,  C23C18/54 ,  C23F1/18 ,  G06F3/041 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04103 ,  H01B5/14

    摘要： 本發明提供觸控面板用導電性積層體、觸控面板和透明導電性積層體，其包含基板和圖案狀金屬層，從基板側視認時，圖案狀金屬層被視認為更黑的黑色。本發明的觸控面板用導電性積層體具有：基板，該基板具有2個主面；圖案狀被鍍覆層，其配置在基板的至少一個主面上，具有與金屬離子相互作用的官能團；以及圖案狀金屬層，其配置在圖案狀被鍍覆層上；在圖案狀被鍍覆層中包含構成圖案狀金屬層的金屬成分；使用能量分散型X射線分析法對圖案狀被鍍覆層和圖案狀金屬層的斷面進行組成分析時，相對於構成圖案狀金屬層的金屬成分來源的平均峰強度，圖案狀被鍍覆層所含有的上述金屬成分來源的平均峰強度的比為0.5～0.95。

    简体摘要： 本发明提供触摸皮肤用导电性积层体、触摸皮肤和透明导电性积层体，其包含基板和图案状金属层，从基板侧视认时，图案状金属层被视认为更黑的黑色。本发明的触摸皮肤用导电性积层体具有：基板，该基板具有2个主面；图案状被镀覆层，其配置在基板的至少一个主面上，具有与金属离子相互作用的官能团；以及图案状金属层，其配置在图案状被镀覆层上；在图案状被镀覆层中包含构成图案状金属层的金属成分；使用能量分散型X射线分析法对图案状被镀覆层和图案状金属层的断面进行组成分析时，相对于构成图案状金属层的金属成分来源的平均峰强度，图案状被镀覆层所含有的上述金属成分来源的平均峰强度的比为0.5～0.95。

    導電性積層體的製造方法以及帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物、帶圖案狀被鍍覆層的立體結構物、導電性積層體、觸控感測器、發熱構件及立體結構物
    5.
    发明专利
    導電性積層體的製造方法以及帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物、帶圖案狀被鍍覆層的立體結構物、導電性積層體、觸控感測器、發熱構件及立體結構物 审中-公开
    导电性积层体的制造方法以及带被镀覆层前驱体层的三維结构物、带图案状被镀覆层的三維结构物、导电性积层体、触摸传感器、发热构件及三維结构物

    公开(公告)号：TW201734740A

    公开(公告)日：2017-10-01

    申请号：TW106108429

    申请日：2017-03-15

    申请人： 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI

    IPC分类号： G06F3/044 ,  H01B5/14

    CPC分类号： B32B15/04 ,  C23C18/18 ,  C23C18/31 ,  C25D5/56 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00 ,  H05K1/02 ,  H05K3/10 ,  H05K3/18

    摘要： 本發明的課題在於提供一種簡便地製造具有立體形狀、且配置有金屬層的導電性積層體（例如具有包含曲面的立體形狀、且於所述曲面上配置有金屬層的導電性積層體）的方法。另外，提供一種帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物、帶圖案狀被鍍覆層的立體結構物、導電性積層體、觸控感測器、發熱構件及立體結構物。本發明的導電性積層體的製造方法包括：獲得帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物的步驟，所述帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物包含立體結構物、及配置於所述立體結構物上的具有與鍍覆觸媒或其前驅體進行相互作用的官能基及聚合性基的被鍍覆層前驅體層；對所述被鍍覆層前驅體層賦予能量而形成圖案狀的被鍍覆層的步驟；以及對所述圖案狀的被鍍覆層實施鍍覆處理，而於所述被鍍覆層上形成圖案狀的金屬層的步驟。

    简体摘要： 本发明的课题在于提供一种简便地制造具有三維形状、且配置有金属层的导电性积层体（例如具有包含曲面的三維形状、且于所述曲面上配置有金属层的导电性积层体）的方法。另外，提供一种带被镀覆层前驱体层的三維结构物、带图案状被镀覆层的三維结构物、导电性积层体、触摸传感器、发热构件及三維结构物。本发明的导电性积层体的制造方法包括：获得带被镀覆层前驱体层的三維结构物的步骤，所述带被镀覆层前驱体层的三維结构物包含三維结构物、及配置于所述三維结构物上的具有与镀覆触媒或其前驱体进行相互作用的官能基及聚合性基的被镀覆层前驱体层；对所述被镀覆层前驱体层赋予能量而形成图案状的被镀覆层的步骤；以及对所述图案状的被镀覆层实施镀覆处理，而于所述被镀覆层上形成图案状的金属层的步骤。

    觸控面板感測器用導電性層積體和其製造方法、觸控面板感測器、觸控面板
    6.
    发明专利
    觸控面板感測器用導電性層積體和其製造方法、觸控面板感測器、觸控面板 审中-公开
    触摸皮肤传感器用导电性层积体和其制造方法、触摸皮肤传感器、触摸皮肤

    公开(公告)号：TW201617810A

    公开(公告)日：2016-05-16

    申请号：TW104124053

    申请日：2015-07-24

    申请人： 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 吉田昌史 ,  YOSHIDA, MASAFUMI ,  塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI

    IPC分类号： G06F3/041 ,  G06F3/044

    CPC分类号： G06F3/041 ,  G06F3/044

    摘要： 本發明係有關於一種檢測電極與引出配線的電氣連線性高的觸控面板感測器用導電性層積體、其製造方法、觸控面板感測器和觸控面板。本發明的觸控面板感測器用導電性層積體具有基板、配置在基板上的周邊區域的具有與鍍覆催化劑或其前體相互作用的官能團的樹脂層、按照一端部與樹脂層接觸的方式配置在基板上的檢測電極、以及配置在樹脂層上的與檢測電極的一端部電氣連接的引出配線，引出配線為通過至少具有下述步驟的方法形成的配線，在該步驟中，對樹脂層賦予鍍覆催化劑或其前體，對於被賦予了鍍覆催化劑或其前體的樹脂層進行鍍覆處理。

    简体摘要： 本发明系有关于一种检测电极与引出配线的电气连接性高的触摸皮肤传感器用导电性层积体、其制造方法、触摸皮肤传感器和触摸皮肤。本发明的触摸皮肤传感器用导电性层积体具有基板、配置在基板上的周边区域的具有与镀覆催化剂或其前体相互作用的官能团的树脂层、按照一端部与树脂层接触的方式配置在基板上的检测电极、以及配置在树脂层上的与检测电极的一端部电气连接的引出配线，引出配线为通过至少具有下述步骤的方法形成的配线，在该步骤中，对树脂层赋予镀覆催化剂或其前体，对于被赋予了镀覆催化剂或其前体的树脂层进行镀覆处理。

    配線基板的製造方法、配線基板
    7.
    发明专利
    配線基板的製造方法、配線基板 审中-公开
    配线基板的制造方法、配线基板

    公开(公告)号：TW201804305A

    公开(公告)日：2018-02-01

    申请号：TW106123565

    申请日：2017-07-14

    申请人： 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI

    IPC分类号： G06F3/041 ,  B32B7/02 ,  H01B5/14 ,  H05K3/12

    CPC分类号： H01B13/00 ,  H05K1/02 ,  H05K3/00 ,  H05K3/18 ,  H05K3/22 ,  H05K3/28

    摘要： 本發明的課題在於提供一種能夠容易地製造自身支撐性以及耐擦傷性優異之、具有3維形狀之配線基板之方法以及配線基板。 本發明的配線基板的製造方法具有以下製程：製程A，準備第1導電性薄膜，該第1導電性薄膜包含基板以及在基板的至少一個主面上配置之圖案狀金屬層，且具有3維形狀；製程B，在第1導電性薄膜的至少一個主面上配置耐擦傷性層，從而得到帶有耐擦傷性層之薄膜；以及製程C，在第1模具以及第2模具中的一個模具上，以耐擦傷性層和一個模具相向之方式配置帶有耐擦傷性層之薄膜，將第1模具和第2模具進行鎖模，並向由第1模具和第2模具形成之模穴內注入樹脂，從而得到包含第1導電性薄膜以及樹脂層之配線基板。

    简体摘要： 本发明的课题在于提供一种能够容易地制造自身支撑性以及耐擦伤性优异之、具有3维形状之配线基板之方法以及配线基板。 本发明的配线基板的制造方法具有以下制程：制程A，准备第1导电性薄膜，该第1导电性薄膜包含基板以及在基板的至少一个主面上配置之图案状金属层，且具有3维形状；制程B，在第1导电性薄膜的至少一个主面上配置耐擦伤性层，从而得到带有耐擦伤性层之薄膜；以及制程C，在第1模具以及第2模具中的一个模具上，以耐擦伤性层和一个模具相向之方式配置带有耐擦伤性层之薄膜，将第1模具和第2模具进行锁模，并向由第1模具和第2模具形成之模穴内注入树脂，从而得到包含第1导电性薄膜以及树脂层之配线基板。

    積層體、帶圖案狀被鍍覆層的基板的製造方法、含有金屬層的積層體的製造方法、觸控面板感測器及觸控面板
    9.
    发明专利
    積層體、帶圖案狀被鍍覆層的基板的製造方法、含有金屬層的積層體的製造方法、觸控面板感測器及觸控面板 审中-公开
    积层体、带图案状被镀覆层的基板的制造方法、含有金属层的积层体的制造方法、触摸皮肤传感器及触摸皮肤

    公开(公告)号：TW201733795A

    公开(公告)日：2017-10-01

    申请号：TW106107668

    申请日：2017-03-09

    申请人： 富士軟片股份有限公司 ,  FUJIFILM CORPORATION

    发明人： 塚本直樹 ,  TSUKAMOTO, NAOKI

    IPC分类号： B32B15/08 ,  B32B27/18 ,  G03F7/16

    CPC分类号： B32B27/00 ,  B32B27/18 ,  C08J7/04 ,  G06F3/041 ,  G06F3/044

    摘要： 本發明提供一種可獲得抑制了圖案粗大的產生的含有金屬層的積層體的積層體。另外，本發明提供一種帶圖案狀被鍍覆層的基板、及含有金屬層的積層體的製造方法、以及觸控面板感測器及觸控面板。本發明的積層體依序包含基板、被鍍覆層形成用層、以及臨時保護膜，被鍍覆層形成用層含有聚合起始劑、及以下的化合物X或組成物Y，臨時保護膜的紫外可見吸收光譜的長波長側的吸收端λ0、聚合起始劑的紫外可見吸收光譜的長波長側的吸收端λ1、及基板的紫外可見吸收光譜的長波長側的吸收端λ2滿足式（Z）所表示的關係。

    简体摘要： 本发明提供一种可获得抑制了图案粗大的产生的含有金属层的积层体的积层体。另外，本发明提供一种带图案状被镀覆层的基板、及含有金属层的积层体的制造方法、以及触摸皮肤传感器及触摸皮肤。本发明的积层体依序包含基板、被镀覆层形成用层、以及临时保护膜，被镀覆层形成用层含有聚合起始剂、及以下的化合物X或组成物Y，临时保护膜的紫外可见吸收光谱的长波长侧的吸收端λ0、聚合起始剂的紫外可见吸收光谱的长波长侧的吸收端λ1、及基板的紫外可见吸收光谱的长波长侧的吸收端λ2满足式（Z）所表示的关系。