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公开(公告)号:TWI620257B
公开(公告)日:2018-04-01
申请号:TW104134289
申请日:2012-03-03
发明人: 孫衛明 , SUN, WEIMIN , 札帕帝 彼得 約瑟夫 二世 , ZAMPARDI, PETER JOSEPH JR. , 邵宏曉 , SHAO, HONGXIAO
IPC分类号: H01L21/60 , H01L23/045 , H01L23/495
CPC分类号: H01L23/66 , C25D5/022 , C25D5/12 , C25D7/0607 , C25D17/00 , H01L23/49838 , H01L23/49866 , H01L24/03 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/49 , H01L24/85 , H01L2223/6605 , H01L2223/6611 , H01L2224/03424 , H01L2224/03462 , H01L2224/03464 , H01L2224/04042 , H01L2224/05144 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05164 , H01L2224/05644 , H01L2224/45144 , H01L2224/45147 , H01L2224/48095 , H01L2224/48229 , H01L2224/48644 , H01L2224/48655 , H01L2224/48664 , H01L2224/49111 , H01L2224/85205 , H01L2224/85411 , H01L2224/85416 , H01L2224/85444 , H01L2224/85447 , H01L2224/85455 , H01L2224/85464 , H01L2924/00011 , H01L2924/00014 , H01L2924/01005 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/01046 , H01L2924/01079 , H01L2924/014 , H01L2924/14 , H01L2924/1421 , H01L2924/15747 , H01L2924/2064 , H05K1/0243 , H05K1/09 , H05K1/111 , H05K3/10 , H05K3/244 , H05K3/3452 , H05K2203/049 , H05K2203/0597 , H01L2924/00 , H01L2224/45015 , H01L2924/207 , H01L2224/45099
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公开(公告)号:TWI608766B
公开(公告)日:2017-12-11
申请号:TW104125023
申请日:2015-07-31
申请人: 鵬鼎科技股份有限公司
发明人: 胡先欽 , HU, XIAN-QIN , 李艷祿 , LI, YAN-LU , 游文信 , YU, WEN-HSIN , 何明展 , HO, MING-JAAN
CPC分类号: H05K1/0228 , H05K1/0221 , H05K1/0237 , H05K1/0242 , H05K1/028 , H05K1/0393 , H05K3/10 , H05K3/243 , H05K3/28 , H05K3/281 , H05K2201/0355 , H05K2201/0715
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公开(公告)号:TWI604572B
公开(公告)日:2017-11-01
申请号:TW105106837
申请日:2016-03-07
发明人: 長谷川政美 , HASEGAWA, MASAMI
CPC分类号: H03H9/05 , H01L23/04 , H01L23/10 , H03B5/32 , H03H9/0552 , H03H9/1014 , H03H9/1071 , H05K1/0296 , H05K1/0306 , H05K3/10 , H05K2201/0999 , H05K2201/10371
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4.導電性積層體的製造方法以及帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物、帶圖案狀被鍍覆層的立體結構物、導電性積層體、觸控感測器、發熱構件及立體結構物 审中-公开
简体标题: 导电性积层体的制造方法以及带被镀覆层前驱体层的三維结构物、带图案状被镀覆层的三維结构物、导电性积层体、触摸传感器、发热构件及三維结构物公开(公告)号:TW201734740A
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW106108429
申请日:2017-03-15
申请人: 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人: 塚本直樹 , TSUKAMOTO, NAOKI
CPC分类号: B32B15/04 , C23C18/18 , C23C18/31 , C25D5/56 , H01B5/14 , H01B13/00 , H05K1/02 , H05K3/10 , H05K3/18
摘要: 本發明的課題在於提供一種簡便地製造具有立體形狀、且配置有金屬層的導電性積層體(例如具有包含曲面的立體形狀、且於所述曲面上配置有金屬層的導電性積層體)的方法。另外,提供一種帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物、帶圖案狀被鍍覆層的立體結構物、導電性積層體、觸控感測器、發熱構件及立體結構物。本發明的導電性積層體的製造方法包括:獲得帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物的步驟,所述帶被鍍覆層前驅體層的立體結構物包含立體結構物、及配置於所述立體結構物上的具有與鍍覆觸媒或其前驅體進行相互作用的官能基及聚合性基的被鍍覆層前驅體層;對所述被鍍覆層前驅體層賦予能量而形成圖案狀的被鍍覆層的步驟;以及對所述圖案狀的被鍍覆層實施鍍覆處理,而於所述被鍍覆層上形成圖案狀的金屬層的步驟。
简体摘要: 本发明的课题在于提供一种简便地制造具有三維形状、且配置有金属层的导电性积层体(例如具有包含曲面的三維形状、且于所述曲面上配置有金属层的导电性积层体)的方法。另外,提供一种带被镀覆层前驱体层的三維结构物、带图案状被镀覆层的三維结构物、导电性积层体、触摸传感器、发热构件及三維结构物。本发明的导电性积层体的制造方法包括:获得带被镀覆层前驱体层的三維结构物的步骤,所述带被镀覆层前驱体层的三維结构物包含三維结构物、及配置于所述三維结构物上的具有与镀覆触媒或其前驱体进行相互作用的官能基及聚合性基的被镀覆层前驱体层;对所述被镀覆层前驱体层赋予能量而形成图案状的被镀覆层的步骤;以及对所述图案状的被镀覆层实施镀覆处理,而于所述被镀覆层上形成图案状的金属层的步骤。
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公开(公告)号:TW201728235A
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:TW105143010
申请日:2016-12-23
发明人: 細田哲史 , HOSODA, TETSUSHI , 古川正 , FURUKAWA, TADASHI , 古堅亮 , FURUGEN, RYO , 古瀨綾子 , FURUSE, AYAKO , 外田鉄兵 , SOTODA, TEPPEI , 有吉絢子 , ARIYOSHI, JUNKO
IPC分类号: H05K1/02 , H01L21/3205 , H01L21/463
CPC分类号: H01L23/12 , H01L2224/16225 , H05K3/10 , H05K3/46
摘要: 本發明之一目的為提供一種可靠度優良之配線結構體、可簡便製造如此之配線結構體之方法及使用此配線結構體之電子裝置。根據本發明之一實施型態,提供一種配線結構體,包含於第一表面具有凹部之第一絕緣層、位於凹部且自第一表面突出之第一導體層、夾設於第一導體層與第一絕緣層之間之導體阻障層及位於第一表面上之第二絕緣層。
简体摘要: 本发明之一目的为提供一种可靠度优良之配线结构体、可简便制造如此之配线结构体之方法及使用此配线结构体之电子设备。根据本发明之一实施型态,提供一种配线结构体,包含于第一表面具有凹部之第一绝缘层、位于凹部且自第一表面突出之第一导体层、夹设于第一导体层与第一绝缘层之间之导体阻障层及位于第一表面上之第二绝缘层。
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公开(公告)号:TW201724449A
公开(公告)日:2017-07-01
申请号:TW105126825
申请日:2016-08-23
发明人: 満倉一行 , MITSUKURA, KAZUYUKI , 鳥羽正也 , TOBA, MASAYA , 岩下健一 , IWASHITA, KENICHI , 浦島航介 , URASHIMA, KOHSUKE , 蔵渕和彦 , KURAFUCHI, KAZUHIKO
IPC分类号: H01L23/538
CPC分类号: H01L23/12 , H01L2224/73204 , H05K3/10 , H05K3/46
摘要: 本發明提供一種可以良好的良率且低成本來製造晶片彼此的傳送優異的高密度的半導體裝置的製造方法。半導體裝置的製造方法包括:絕緣層形成步驟,於基板1上形成具有槽部4的絕緣層3;銅層形成步驟,於絕緣層3上以填埋槽部4的方式形成銅層5a;以及去除步驟,以保留槽部4內的銅層部分之方式利用飛切法將絕緣層3上的銅層5a去除。
简体摘要: 本发明提供一种可以良好的良率且低成本来制造芯片彼此的发送优异的高密度的半导体设备的制造方法。半导体设备的制造方法包括:绝缘层形成步骤,于基板1上形成具有槽部4的绝缘层3;铜层形成步骤,于绝缘层3上以填埋槽部4的方式形成铜层5a;以及去除步骤,以保留槽部4内的铜层部分之方式利用飞切法将绝缘层3上的铜层5a去除。
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公开(公告)号:TW201711535A
公开(公告)日:2017-03-16
申请号:TW104125023
申请日:2015-07-31
发明人: 胡先欽 , HU, XIAN-QIN , 李艷祿 , LI, YAN-LU , 游文信 , YU, WEN-HSIN , 何明展 , HO, MING-JAAN
CPC分类号: H05K1/0228 , H05K1/0221 , H05K1/0237 , H05K1/0242 , H05K1/028 , H05K1/0393 , H05K3/10 , H05K3/243 , H05K3/28 , H05K3/281 , H05K2201/0355 , H05K2201/0715
摘要: 本發明提供一種柔性電路板,可應用於高頻訊號傳輸,包括:一絕緣層,具有第一表面及與該第一表面相對的第二表面;一線性訊號線,形成於絕緣層的第一表面,線性訊號線的遠離絕緣層的表面形成一金屬鍍層,金屬鍍層的厚度小於線性訊號線的厚度;多條接地線路,也形成於絕緣層的第一表面,且平行配置於線性訊號線的兩側;一線路圖形,形成於絕緣層的該第二表面;以及一電磁遮罩層,覆蓋於線性訊號線與多條接地線路之上;其中,金屬鍍層的電導率大於線性訊號線的電導率。本發明還包括上述柔性電路板的製作方法。
简体摘要: 本发明提供一种柔性电路板,可应用于高频信号传输,包括:一绝缘层,具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面;一线性信号线,形成于绝缘层的第一表面,线性信号线的远离绝缘层的表面形成一金属镀层,金属镀层的厚度小于线性信号线的厚度;多条接地线路,也形成于绝缘层的第一表面,且平行配置于线性信号线的两侧;一线路图形,形成于绝缘层的该第二表面;以及一电磁遮罩层,覆盖于线性信号线与多条接地线路之上;其中,金属镀层的电导率大于线性信号线的电导率。本发明还包括上述柔性电路板的制作方法。
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公开(公告)号:TW201642280A
公开(公告)日:2016-12-01
申请号:TW105110634
申请日:2016-04-01
申请人: C3奈米有限公司 , C3NANO INC.
发明人: 胡永星 , HU, YONGXING , 楊希強 , YANG, XIQIANG , 李 英熙 , LI, YING-SYI , 洪 亞歷山德 承伊 , HONG, ALEXANDER SEUNG-IL , 井上 梅蘭妮 真理子 , INOUYE, MELANIE MARIKO , 曹 亞棟 , CAO, YADONG , 維卡 艾杰 , VIRKAR, AJAY
CPC分类号: C23C18/44 , B32B9/045 , B32B15/018 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/20 , B32B27/28 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2262/103 , B32B2262/12 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/414 , B32B2457/20 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , C09D11/52 , C09D101/02 , C09D105/08 , C09D133/06 , C09D139/06 , C23C18/1635 , C23C18/1637 , C23C18/42 , C23C18/54 , H01B1/22 , H01B13/30 , H05K1/02 , H05K1/0274 , H05K1/097 , H05K3/10 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0108 , H05K2201/026 , Y10T428/12444 , Y10T428/12479 , Y10T428/12486 , Y10T428/12889 , Y10T428/12896
摘要: 描述具有均勻貴重金屬塗層之金屬奈米線。揭示兩種用於成功形成均勻貴重金屬塗層之方法,即電化交換及直接沈積。電化交換反應與直接沈積法均受益於包括適當強結合配體來控制或介導塗覆製程以形成均勻塗層。經貴重金屬塗覆之奈米線有效用於製造穩定透明導電膜,其可包含熔融金屬奈米結構化網狀結構。
简体摘要: 描述具有均匀贵重金属涂层之金属奈米线。揭示两种用于成功形成均匀贵重金属涂层之方法,即电化交换及直接沉积。电化交换反应与直接沉积法均受益于包括适当强结合配体来控制或介导涂覆制程以形成均匀涂层。经贵重金属涂覆之奈米线有效用于制造稳定透明导电膜,其可包含熔融金属奈米结构化网状结构。
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公开(公告)号:TW201628467A
公开(公告)日:2016-08-01
申请号:TW104136588
申请日:2015-11-06
申请人: 可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人: 高橋健 , TAKAHASHI, TAKESHI , 中島崇裕 , NAKASHIMA, TAKAHIRO , 小野寺稔 , ONODERA, MINORU , 原哲也 , HARA, TETSUYA
CPC分类号: H05K3/4632 , B29C65/02 , B29C66/034 , B29C66/1122 , B29C66/45 , B29C66/7352 , B29C66/7392 , B29C66/73921 , B29C66/742 , B29C66/91411 , B29C66/91445 , B29C66/91933 , B29L2031/3425 , B32B15/08 , B32B38/0036 , H05K1/0313 , H05K1/0393 , H05K3/10 , H05K3/4635 , H05K2201/0129 , H05K2201/0141 , H05K2201/0355 , H05K2203/0278 , H05K2203/111 , H05K2203/1178 , H05K2203/1194
摘要: 本發明係提供一種層間接著性及焊錫耐熱性優異之電路基板及其製造方法。藉由以下的製造方法,可進行電路基板之製造,該製造方法包含:準備複數之至少一種的熱塑性液晶聚合物薄膜的步驟;於該複數薄膜之至少一片,在薄膜的單面或雙面上形成導體層,作成單元電路基板的步驟;將包含該單元電路基板之該複數薄膜予以積層而形成積層體的步驟;在對該積層體加壓的狀態下,加熱至產生層間接著之第1溫度而進行一體化的熱壓接步驟;及在該第1溫度下的加熱之後,將該積層體以較該第1溫度更低溫且該複數的熱塑性液晶聚合物薄膜中之熔點最低之熱塑性液晶聚合物薄膜之熔點更低溫的第2溫度進行加熱,施行既定時間結構控制熱處理的步驟。
简体摘要: 本发明系提供一种层间接着性及焊锡耐热性优异之电路基板及其制造方法。借由以下的制造方法,可进行电路基板之制造,该制造方法包含:准备复数之至少一种的热塑性液晶聚合物薄膜的步骤;于该复数薄膜之至少一片,在薄膜的单面或双面上形成导体层,作成单元电路基板的步骤;将包含该单元电路基板之该复数薄膜予以积层而形成积层体的步骤;在对该积层体加压的状态下,加热至产生层间接着之第1温度而进行一体化的热压接步骤;及在该第1温度下的加热之后,将该积层体以较该第1温度更低温且该复数的热塑性液晶聚合物薄膜中之熔点最低之热塑性液晶聚合物薄膜之熔点更低温的第2温度进行加热,施行既定时间结构控制热处理的步骤。
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公开(公告)号:TWI543199B
公开(公告)日:2016-07-21
申请号:TW100140003
申请日:2011-11-02
发明人: 古塔 勒胡 , GUPTA, RAHUL , 波史考特卡 佛羅倫 , PSCHENITZKA, FLORIAN , 皮屈勒 卡爾 , PICHLER, KARL
CPC分类号: H05K3/10 , B05D5/00 , H01L51/0021 , H01L51/003 , H01L51/5215 , H01L2227/326 , Y10T156/10
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