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公开(公告)号:TW201807869A
公开(公告)日:2018-03-01
申请号:TW106128105
申请日:2017-08-18
申请人: LS美創有限公司 , LS MTRON LTD.
发明人: 金星玟 , KIM, SEUNG MIN
CPC分类号: H01M4/661 , C23C18/54 , C25D3/38 , C25D5/04 , C25D7/00 , H01M4/0407 , H01M4/0438 , H01M4/0452 , H01M4/386 , H01M4/628 , H01M4/667 , H01M10/0525
摘要: 本發明係提供一種可供確保蓄電池有高的電容量保留率的電解銅箔、一種包含可供確保蓄電池有高的電容量保留率的電解銅箔的電極、一種包含可供確保蓄電池有高的電容量保留率的電解銅箔的蓄電池、以及一種可供確保蓄電池有高的電容量保留率的電解銅箔的製造方法。電解銅箔包含一第一表面、和相對於第一表面之一第二表面、一銅層、和一第一保護層,該銅層包含面向該第一表面之一無光澤面和面向該第二表面之一光澤面;第一保護層設置於銅層之無光澤面上,其中第一保護層包含鉻(Cr),以及電解銅箔之第一表面的附著係數的範圍從1.5至16.3。
简体摘要: 本发明系提供一种可供确保蓄电池有高的电容量保留率的电解铜箔、一种包含可供确保蓄电池有高的电容量保留率的电解铜箔的电极、一种包含可供确保蓄电池有高的电容量保留率的电解铜箔的蓄电池、以及一种可供确保蓄电池有高的电容量保留率的电解铜箔的制造方法。电解铜箔包含一第一表面、和相对于第一表面之一第二表面、一铜层、和一第一保护层,该铜层包含面向该第一表面之一无光泽面和面向该第二表面之一光泽面;第一保护层设置于铜层之无光泽面上,其中第一保护层包含铬(Cr),以及电解铜箔之第一表面的附着系数的范围从1.5至16.3。
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公开(公告)号:TW201800607A
公开(公告)日:2018-01-01
申请号:TW106107879
申请日:2017-03-10
申请人: 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人: 梁 仁義 , NEOH, DIN-GHEE , 巴德莫斯 尤根 , BARTHELMES, JUERGEN
CPC分类号: C25D5/48 , C23C18/1603 , C23C18/1689 , C23C18/1893 , C23C18/42 , C23C18/54 , C25D3/46 , C25D5/02 , C25D5/34 , H01L21/4821 , H01L23/3142 , H01L23/49582 , H01L23/564
摘要: 為提供製造暴露經處理銀表面之引線框或引線框結構的更可靠及更節約成本的方式以及為提供使用此類引線框或引線框結構的表面黏著型電子裝置,提供一種包含以此次序進行之以下方法步驟的方法:(a)提供具有兩個主側之引線框體結構,該引線框體結構僅暴露該等主側中之每一者上之銅表面;(b)將銀覆層沈積於該等主側中之至少一者上,以使得該等主側中之該至少一者至少部分地暴露未經處理之銀表面;及(c)用含有選自鹼金屬氫氧化物、鹼土金屬氫氧化物、氫氧化銨及其混合物之至少一種氫氧化物化合物的處理溶液電解處理在方法步驟(b)中產生之該等主側中之該至少一者上的該未經處理銀表面,其中該引線框體結構為陰極,由此製造包含各自具有兩個面之至少兩個引線框實體的引線框結構且至少部分地暴露該經處理銀表面;其中該等引線框實體中之至少一者之該兩個面中的該至少一者僅暴露該經處理銀表面或其中該等引線框實體中之該至少一者之該兩個面中的該至少一者部分地暴露該經處理銀表面且部分地暴露該銅表面,其中,在部分地暴露該經處理銀表面之該等引線框實體中的每一者之該兩個面中之每一者上,該銅表面之面積小於該經處理銀表面之面積。
简体摘要: 为提供制造暴露经处理银表面之引线框或引线框结构的更可靠及更节约成本的方式以及为提供使用此类引线框或引线框结构的表面黏着型电子设备,提供一种包含以此次序进行之以下方法步骤的方法:(a)提供具有两个主侧之引线框体结构,该引线框体结构仅暴露该等主侧中之每一者上之铜表面;(b)将银覆层沉积于该等主侧中之至少一者上,以使得该等主侧中之该至少一者至少部分地暴露未经处理之银表面;及(c)用含有选自碱金属氢氧化物、碱土金属氢氧化物、氢氧化铵及其混合物之至少一种氢氧化物化合物的处理溶液电解处理在方法步骤(b)中产生之该等主侧中之该至少一者上的该未经处理银表面,其中该引线框体结构为阴极,由此制造包含各自具有两个面之至少两个引线框实体的引线框结构且至少部分地暴露该经处理银表面;其中该等引线框实体中之至少一者之该两个面中的该至少一者仅暴露该经处理银表面或其中该等引线框实体中之该至少一者之该两个面中的该至少一者部分地暴露该经处理银表面且部分地暴露该铜表面,其中,在部分地暴露该经处理银表面之该等引线框实体中的每一者之该两个面中之每一者上,该铜表面之面积小于该经处理银表面之面积。
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公开(公告)号:TW201741497A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:TW106108953
申请日:2017-03-17
申请人: 上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人: 吉岡優子 , YOSHIOKA, YUKO , 中山智晴 , NAKAYAMA, TOMOHARU , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU
IPC分类号: C23C18/16
摘要: 本發明提供了一種鍍銅液。本發明的鍍銅液包含:水溶性銅鹽;乙二胺;EDTA、EDTA的取代衍生物、乙二胺衍生物和甘胺酸中的至少一種;以及乙內醯脲及其取代衍生物中的至少一種。本發明的鍍銅液用於對鋁基材或鋁合金基材進行置換鍍銅。因此,本發明提供的鍍銅液,在不進行浸鋅處理的情況下就能容易地形成緊密結合在鋁或鋁合金的表面的銅鍍層,且成本較低。
简体摘要: 本发明提供了一种镀铜液。本发明的镀铜液包含:水溶性铜盐;乙二胺;EDTA、EDTA的取代衍生物、乙二胺衍生物和甘胺酸中的至少一种;以及乙内酰脲及其取代衍生物中的至少一种。本发明的镀铜液用于对铝基材或铝合金基材进行置换镀铜。因此,本发明提供的镀铜液,在不进行浸锌处理的情况下就能容易地形成紧密结合在铝或铝合金的表面的铜镀层,且成本较低。
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公开(公告)号:TWI600207B
公开(公告)日:2017-09-21
申请号:TW101140296
申请日:2012-10-31
发明人: 川村洋介 , KAWAMURA, YOSUKE , 畠沢良之 , HATAZAWA, YOSHIYUKI , 田口喜弘 , TAGUCHI, YOSHIHIRO , 中川稔啟 , NAKAGAWA, TOSHIHIRO , 太田篤史 , OOTA, ATSUSHI
IPC分类号: H01M8/02
CPC分类号: H01M8/0206 , C23C18/1651 , C23C18/36 , C23C18/44 , C23C18/54 , H01M8/0204 , H01M8/0208 , H01M8/0228 , Y02P70/56
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公开(公告)号:TW201643277A
公开(公告)日:2016-12-16
申请号:TW105113020
申请日:2016-04-27
申请人: 合謚實業股份有限公司
发明人: 黃紀超
CPC分类号: C23C18/32 , C23C18/00 , C23C18/16 , C23C18/1603 , C23C18/1607 , C23C18/1608 , C23C18/18 , C23C18/1803 , C23C18/1831 , C23C18/1834 , C23C18/31 , C23C18/38 , C23C18/42 , C23C18/54 , C25D3/12 , C25D7/00
摘要: 一種印刷層之電鍍方法,包含在一被電鍍物的文字或圖案設定區域以導電物質或導電物質混合金屬顆粒印刷出文字或圖案印刷層,或可選擇進一步在印刷層浸附置換層;在以導電物質印刷出的文字或圖案印刷層及被電鍍物表層進行電鍍以形成電鍍層;由於可在被電鍍物直接以導電物質印刷文字或圖案印刷層後進行電鍍,整個印刷電鍍加工流程將更為快速便捷,同時可在文字或圖案印刷層的電鍍表面形成特殊防剝落的立體霧狀印刷、立體鑽飾表面印刷文字或圖案。
简体摘要: 一种印刷层之电镀方法,包含在一被电镀物的文本或图案设置区域以导电物质或导电物质混合金属颗粒印刷出文本或图案印刷层,或可选择进一步在印刷层浸附置换层;在以导电物质印刷出的文本或图案印刷层及被电镀物表层进行电镀以形成电镀层;由于可在被电镀物直接以导电物质印刷文本或图案印刷层后进行电镀,整个印刷电镀加工流程将更为快速便捷,同时可在文本或图案印刷层的电镀表面形成特殊防剥落的三維雾状印刷、三維钻饰表面印刷文本或图案。
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公开(公告)号:TWI553168B
公开(公告)日:2016-10-11
申请号:TW102119776
申请日:2013-06-04
发明人: 奇琳恩 昂德 , KILIAN, ARND , 諾斯里奇 克里斯汀 , NOTHLICH, CHRISTIAN , 梅特格 迪特 , METZGER, DIETER , 庫恩 塞巴斯汀 , KUHNE, SEBASTIAN
IPC分类号: C25D21/18
CPC分类号: C25B9/08 , C23C18/1617 , C23C18/52 , C23C18/54
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公开(公告)号:TWI528396B
公开(公告)日:2016-04-01
申请号:TW100121005
申请日:2011-06-16
发明人: 中村勝司 , NAKAMURA, KATSUJI , 鶴田加一 , TSURUTA, KAICHI , 尾崎裕治 , OZAKI, YUJI , 渡會重明 , WATARAI, SHIGEAKI , 高木英則 , TAKAGI, HIDENORI , 大堀優 , OHORI, YUTAKA
CPC分类号: H01G11/50 , C23C18/1651 , C23C18/1653 , C23C18/1827 , C23C18/31 , C23C18/32 , C23C18/36 , C23C18/48 , C23C18/52 , C23C18/54 , C25D3/12 , C25D3/22 , C25D3/30 , C25D3/565 , C25D3/60 , C25D5/12 , C25D5/44 , H01B1/023 , H01B13/32 , H01G11/06 , H01G11/24 , H01G11/30 , H01G11/66 , H01M2/202 , H01M2/26 , H01M2/30 , H01M2004/028 , Y02E60/13
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公开(公告)号:TW201610229A
公开(公告)日:2016-03-16
申请号:TW104121990
申请日:2015-07-07
申请人: 羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC , 陶氏全球科技責任有限公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人: 拉塔爾 大衛S , LAITAR, DAVID S. , 李 水晶P L , LI, CRYSTAL P. L. , 邱 安迪 羅方 , CHOW, ANDY LOK-FUNG
IPC分类号: C23C18/40 , C07C47/198 , C23C18/16 , H05K1/09
CPC分类号: C23C18/40 , C23C18/1633 , C23C18/54 , H05K3/00 , H05K3/0094 , H05K3/181 , H05K3/187 , H05K3/422
摘要: 無電銅鍍覆浴中取代傳統還原劑之其他還原劑已被使用於目前無電鍍覆工業中。該等無電銅鍍覆浴係安定者,並沉積亮紅色銅沉積物於基板上。排除多種對環境不友好的還原劑,可使對環境友好之無電銅鍍覆浴成為可能。
简体摘要: 无电铜镀覆浴中取代传统还原剂之其他还原剂已被使用于目前无电镀覆工业中。该等无电铜镀覆浴系安定者,并沉积亮红色铜沉积物于基板上。排除多种对环境不友好的还原剂,可使对环境友好之无电铜镀覆浴成为可能。
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公开(公告)号:TW201541471A
公开(公告)日:2015-11-01
申请号:TW104102449
申请日:2015-01-26
申请人: 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人: 山下広祐 , YAMASHITA, KOSUKE
CPC分类号: H01L23/49838 , C23C18/00 , C23C18/1653 , C23C18/54 , C25D3/00 , C25D3/38 , C25D5/48 , C25D11/045 , C25D11/08 , C25D11/12 , C25D11/16 , C25D11/20 , C25F3/20 , H01L21/4857 , H01L21/486 , H01L23/49822 , H01L23/49827 , H01L23/49894 , H05K1/0298 , H05K1/0306 , H05K1/115 , H05K1/144 , H05K3/368 , H05K3/4038 , H05K3/4611 , H05K2201/042 , H05K2201/10378 , H05K2203/0315
摘要: 本發明的課題在於提供一種可保證微細的導通路,且可提高絕緣性基材的絕緣耐壓的微細結構體、多層配線基板、半導體封裝及微細結構體的製造方法。本發明的微細結構體包括具有多個貫通孔的絕緣性基材,以及包含導電性材料的導通路,所述導電性材料含有填充於多個貫通孔的內部的金屬,且所述微細結構體中,多個貫通孔的平均開口徑為5nm~500nm,連結彼此鄰接的貫通孔之間的最短距離的平均值為10nm~300nm,微細結構體的相對於總質量的含水率為0.005%以下。
简体摘要: 本发明的课题在于提供一种可保证微细的导通路,且可提高绝缘性基材的绝缘耐压的微细结构体、多层配线基板、半导体封装及微细结构体的制造方法。本发明的微细结构体包括具有多个贯通孔的绝缘性基材,以及包含导电性材料的导通路,所述导电性材料含有填充于多个贯通孔的内部的金属,且所述微细结构体中,多个贯通孔的平均开口径为5nm~500nm,链接彼此邻接的贯通孔之间的最短距离的平均值为10nm~300nm,微细结构体的相对于总质量的含水率为0.005%以下。
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公开(公告)号:TW201529886A
公开(公告)日:2015-08-01
申请号:TW103101739
申请日:2014-01-17
发明人: 張仍奎 , CHANG, JENG KUEI , 王誼珍 , WANG, YI CHEN , 林正一 , LIN, JHENG YI
CPC分类号: C23C18/54
摘要: 本發明係關於一種金屬之表面處理方法,包括:(A)提供一離子液體溶液、以及一第一金屬基材,其中,該離子液體溶液係包括一離子液體以及一第二金屬之離子;以及(B)將該第一金屬基材浸於該離子液體溶液中,使該第二金屬之離子係還原於該基材表面上,形成一第二金屬之被覆層。所形成之該金屬被覆層,可保護金屬基材表面,以提高其抗腐蝕能力
简体摘要: 本发明系关于一种金属之表面处理方法,包括:(A)提供一离子液体溶液、以及一第一金属基材,其中,该离子液体溶液系包括一离子液体以及一第二金属之离子;以及(B)将该第一金属基材浸于该离子液体溶液中,使该第二金属之离子系还原于该基材表面上,形成一第二金属之被覆层。所形成之该金属被覆层,可保护金属基材表面,以提高其抗腐蚀能力
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