公开(公告)号：TW201351064A

公开(公告)日：2013-12-16

申请号：TW102114799

申请日：2013-04-25

Applicant: 希瑪股份有限公司 ,  CYMER, INC.

Inventor： 戴迪 西爾維亞 ,  DE DEA, SILVIA ,  瓦爾瓜 麥可T ,  VARGA, MICHAEL T. ,  艾瑟夫 亞歷山大I ,  ERSHOV, ALEXANDER I. ,  摩斯 羅伯特L ,  MORSE, ROBERT L.

IPC: G03F7/20 ,  B08B13/00

CPC classification number: B08B11/02 ,  B08B3/02 ,  B23K26/0643 ,  B23K26/16 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70925

Abstract: 一種極端紫外光源之集光器鏡面係藉由將該集光器鏡面自該極端紫外光源之一腔室移開；將該集光器鏡面安裝至一載具；將該具有集光器鏡面之載具插入一清潔槽中；藉由經由導向至該集光器鏡面的反射表面的複數之噴嘴噴灑清潔劑直至該集光器鏡面的反射表面清潔為止；自該集光器鏡面的反射表面清洗該施加的清潔劑；以及將該集光器鏡面的反射表面加以乾燥而得以清潔。

Abstract in simplified Chinese: 一种极端紫外光源之集光器镜面系借由将该集光器镜面自该极端紫外光源之一腔室移开；将该集光器镜面安装至一载具；将该具有集光器镜面之载具插入一清洁槽中；借由经由导向至该集光器镜面的反射表面的复数之喷嘴喷洒清洁剂直至该集光器镜面的反射表面清洁为止；自该集光器镜面的反射表面清洗该施加的清洁剂；以及将该集光器镜面的反射表面加以干燥而得以清洁。

公开(公告)号：TW201334848A

公开(公告)日：2013-09-01

申请号：TW101144316

申请日：2012-11-27

Applicant: 希瑪股份有限公司 ,  CYMER, INC.

Inventor： 戴迪 西爾維亞 ,  DE DEA, SILVIA ,  克林奇 瑟吉 ,  KALYNYCH, SERGEI ,  包姆加特 彼得 ,  BAUMGART, PETER

IPC: B01D39/10

CPC classification number: H05G2/006

Abstract: 一種裝置供應一目標材料至一目標位置。該裝置包括：一容器，其收容一目標混合物，且該目標混合物包括該目標材料及多數非目標粒子；一供應系統，其收納來自該容器之目標混合物且將該目標混合物供應至該目標位置，該供應系統包括一管及一噴嘴，且該噴嘴界定該目標混合物通過之一孔口；及一過濾器，其在該管內且該目標混合物通過該過濾器。

Abstract in simplified Chinese: 一种设备供应一目标材料至一目标位置。该设备包括：一容器，其收容一目标混合物，且该目标混合物包括该目标材料及多数非目标粒子；一供应系统，其收纳来自该容器之目标混合物且将该目标混合物供应至该目标位置，该供应系统包括一管及一喷嘴，且该喷嘴界定该目标混合物通过之一孔口；及一过滤器，其在该管内且该目标混合物通过该过滤器。

公开(公告)号：TW201244549A

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：TW101104053

申请日：2012-02-08

Applicant: 希瑪股份有限公司

Inventor： 拜卡諾夫 亞歷山大N ,  戴迪 西爾維亞 ,  艾瑟夫 亞歷山大I ,  弗魯羅夫 弗拉迪米爾B ,  佛蒙柯維 伊格爾V ,  派特洛 威廉N

IPC: H05G

CPC classification number: H05G2/008 ,  G03F7/70925 ,  H05G2/005

Abstract: 一極紫外線(EUV)光源於此處被說明,其包括一光學元件;一主要極紫外線光發射器,其產生一極紫外線光放射電漿並且產生一沉積物在該光學元件上;以及一清潔系統,其包括一氣體以及一次要光發射器,該次要光發射器產生一被雷射產生的電漿並且利用該氣體產生一清潔物種。

Abstract in simplified Chinese: 一极紫外线(EUV)光源于此处被说明,其包括一光学组件;一主要极紫外线光发射器,其产生一极紫外线光放射等离子并且产生一沉积物在该光学组件上;以及一清洁系统,其包括一气体以及一次要光发射器,该次要光发射器产生一被激光产生的等离子并且利用该气体产生一清洁物种。