公开(公告)号：TW201351064A

公开(公告)日：2013-12-16

申请号：TW102114799

申请日：2013-04-25

Applicant: 希瑪股份有限公司 ,  CYMER, INC.

Inventor： 戴迪 西爾維亞 ,  DE DEA, SILVIA ,  瓦爾瓜 麥可T ,  VARGA, MICHAEL T. ,  艾瑟夫 亞歷山大I ,  ERSHOV, ALEXANDER I. ,  摩斯 羅伯特L ,  MORSE, ROBERT L.

IPC: G03F7/20 ,  B08B13/00

CPC classification number: B08B11/02 ,  B08B3/02 ,  B23K26/0643 ,  B23K26/16 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70925

Abstract: 一種極端紫外光源之集光器鏡面係藉由將該集光器鏡面自該極端紫外光源之一腔室移開；將該集光器鏡面安裝至一載具；將該具有集光器鏡面之載具插入一清潔槽中；藉由經由導向至該集光器鏡面的反射表面的複數之噴嘴噴灑清潔劑直至該集光器鏡面的反射表面清潔為止；自該集光器鏡面的反射表面清洗該施加的清潔劑；以及將該集光器鏡面的反射表面加以乾燥而得以清潔。

Abstract in simplified Chinese: 一种极端紫外光源之集光器镜面系借由将该集光器镜面自该极端紫外光源之一腔室移开；将该集光器镜面安装至一载具；将该具有集光器镜面之载具插入一清洁槽中；借由经由导向至该集光器镜面的反射表面的复数之喷嘴喷洒清洁剂直至该集光器镜面的反射表面清洁为止；自该集光器镜面的反射表面清洗该施加的清洁剂；以及将该集光器镜面的反射表面加以干燥而得以清洁。