公开(公告)号：TWI682064B

公开(公告)日：2020-01-11

申请号：TW104111686

申请日：2015-04-10

申请人： 德商德國艾托特克公司 ,  ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH

发明人： 蘇誠傳克 克里斯多夫 ,  SUCHENTRUNK, CHRISTOF ,  葛魯姆特 凱瑟林娜 ,  GRUMMT, KATHARINA ,  克拉莫 朱利亞 ,  CRAMER, JULIA

IPC分类号： C23C18/44 ,  H01L21/288

公开(公告)号：TW201542874A

公开(公告)日：2015-11-16

申请号：TW104111686

申请日：2015-04-10

申请人： 德國艾托特克公司 ,  ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH

发明人： 蘇誠傳克 克里斯多夫 ,  SUCHENTRUNK, CHRISTOF ,  葛魯姆特 凱瑟林娜 ,  GRUMMT, KATHARINA ,  克拉莫 朱利亞 ,  CRAMER, JULIA

IPC分类号： C23C18/44 ,  H01L21/288

CPC分类号： C23C18/44 ,  C23C18/1637 ,  C23C18/1651 ,  C23C18/54 ,  H01L21/288 ,  H05K3/187 ,  H05K3/24 ,  H05K3/244

摘要： 本發明係關於一種鍍浴組合物及一種藉由無電鍍覆將鈀層沉積在基板上之方法。根據本發明之含水酸性鍍浴包括鈀離子源、還原劑、鈀離子之氮化錯合劑及選自由包括至少兩個殘基之芳香族化合物組成之群的水溶性穩定劑，其中至少一殘基係親水殘基及至少一殘基具有負中介效應。該鍍浴具有提高之抗不想要分解的穩定性，同時維持充分鍍覆速率。

简体摘要： 本发明系关于一种镀浴组合物及一种借由无电镀覆将钯层沉积在基板上之方法。根据本发明之含水酸性镀浴包括钯离子源、还原剂、钯离子之氮化错合剂及选自由包括至少两个残基之芳香族化合物组成之群的水溶性稳定剂，其中至少一残基系亲水残基及至少一残基具有负中介效应。该镀浴具有提高之抗不想要分解的稳定性，同时维持充分镀覆速率。