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公开(公告)号：TWI630247B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW103124844
申请日：2014-07-18
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 普菲爾曼 克莉絲汀那 , PFIRRMANN, CHRISTINA , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 沃奇特 飛利浦 , WACHTER, PHILIPP , 克瑞史莫 史帝芬 , KRETSCHMER, STEFAN
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公开(公告)号：TWI527797B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW103113075
申请日：2014-04-09
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 俗茲 克拉斯 戴特 , SCHULZ, KLAUS-DIETER , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 沃奇特 飛利浦 , WACHTER, PHILIPP , 布列斯 麥克 , BRIESE, MIKE , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 瑞奇特 瑞查德 , RICHTER, RICHARD , 可爾曼 拉斯 , KOHLMANN, LARS
IPC分类号： C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/18 , C25D7/12
CPC分类号： C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
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公开(公告)号：TWI526582B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW101147026
申请日：2012-12-12
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 克瑞史莫 史帝芬 , KRETSCHMER, STEFAN , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 羅福斯 柏德 , ROELFS, BERND
IPC分类号： C25D3/38
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公开(公告)号：TWI550138B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101115630
申请日：2012-05-02
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 俗茲 克拉斯 戴特 , SCHULZ, KLAUS-DIETER , 沃奇特 飛利浦 , WACHTER, PHILIPP , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP
IPC分类号： C25D3/08
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公开(公告)号：TW201504371A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103124844
申请日：2014-07-18
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 普菲爾曼 克莉絲汀那 , PFIRRMANN, CHRISTINA , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 沃奇特 飛利浦 , WACHTER, PHILIPP , 克瑞史莫 史帝芬 , KRETSCHMER, STEFAN
摘要： 本發明係關於一種基板之陰極腐蝕保護之方法，該基板具有鉻表面及至少一個中間層介於該基板及該鉻表面之間，該中間層係選自包含鎳、鎳合金、銅及銅合金之群，且其中該鉻表面係與包含至少一種含磷化合物之水溶液接觸，同時使電流通過該基板、至少一個陽極及該水溶液，其中該基板用作陰極。
简体摘要： 本发明系关于一种基板之阴极腐蚀保护之方法，该基板具有铬表面及至少一个中间层介于该基板及该铬表面之间，该中间层系选自包含镍、镍合金、铜及铜合金之群，且其中该铬表面系与包含至少一种含磷化合物之水溶液接触，同时使电流通过该基板、至少一个阳极及该水溶液，其中该基板用作阴极。
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公开(公告)号：TW201446742A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103113075
申请日：2014-04-09
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 俗茲 克拉斯 戴特 , SCHULZ, KLAUS-DIETER , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 沃奇特 飛利浦 , WACHTER, PHILIPP , 布列斯 麥克 , BRIESE, MIKE , 布魯諾 赫卡 , BRUNNER, HEIKO , 瑞奇特 瑞查德 , RICHTER, RICHARD , 可爾曼 拉斯 , KOHLMANN, LARS
IPC分类号： C07D213/82 , C07D401/06 , C07D413/06 , C25D3/18 , C25D7/12
CPC分类号： C25D3/562 , C07D213/74 , C07D295/192 , C25D3/18
摘要： 本發明係關於用於沈積半光亮鎳或鎳合金塗層之電流鎳或鎳合金電鍍浴，其特徵在於該電鍍浴包含至少一種具有通式(I)之化合物， 其中R1=經SO3-基團取代之C1-C18烴部分、經羧酸基團取代之C1-C18烴部分或經至少一個芳香族及/或雜芳香族基團取代之C1-C18烴部分；R2=NR3R4部分、OR5部分或環狀NR6部分，其中R3、R4、R5=氫或C1-C18烴部分或經至少一個芳香族及/或雜芳香族基團取代之C1-C18烴部分，其中R3、R4及R5相同或不同；R6=C3-C8烴部分或其中至少一個碳原子經雜原子取代之C3-C8烴部分；且n=1至3。
简体摘要： 本发明系关于用于沉积半光亮镍或镍合金涂层之电流镍或镍合金电镀浴，其特征在于该电镀浴包含至少一种具有通式(I)之化合物， 其中R1=经SO3-基团取代之C1-C18烃部分、经羧酸基团取代之C1-C18烃部分或经至少一个芳香族及/或杂芳香族基团取代之C1-C18烃部分；R2=NR3R4部分、OR5部分或环状NR6部分，其中R3、R4、R5=氢或C1-C18烃部分或经至少一个芳香族及/或杂芳香族基团取代之C1-C18烃部分，其中R3、R4及R5相同或不同；R6=C3-C8烃部分或其中至少一个碳原子经杂原子取代之C3-C8烃部分；且n=1至3。
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公开(公告)号：TW201333274A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101147026
申请日：2012-12-12
申请人： 德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人： 克瑞史莫 史帝芬 , KRETSCHMER, STEFAN , 哈特曼 菲利普 , HARTMANN, PHILIP , 羅福斯 柏德 , ROELFS, BERND
IPC分类号： C25D3/38
摘要： 本發明係關於沈積無光澤銅塗層之方法，其中自不含包含二價硫之有機化合物之水性銅電解質沈積第一銅層。然後自包含第一及第二水溶性含硫添加劑之水性銅電解質將第二銅層沈積至該第一銅層上，其中該第一水溶性含硫化合物係烷基磺酸衍生物，且該第二水溶性含硫添加劑係芳香族磺酸衍生物。該方法提供具有均勻且可調節之無光澤外觀之銅層用於裝飾性應用。
简体摘要： 本发明系关于沉积无光泽铜涂层之方法，其中自不含包含二价硫之有机化合物之水性铜电解质沉积第一铜层。然后自包含第一及第二水溶性含硫添加剂之水性铜电解质将第二铜层沉积至该第一铜层上，其中该第一水溶性含硫化合物系烷基磺酸衍生物，且该第二水溶性含硫添加剂系芳香族磺酸衍生物。该方法提供具有均匀且可调节之无光泽外观之铜层用于装饰性应用。
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公开(公告)号：TWI441958B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW098117986
申请日：2009-06-01
发明人： 哈特曼 菲利浦 , HARTMANN, PHILIP , 舒茲 克勞斯 , SCHULZ, KLAUS-DIETER , 寇曼 拉斯 , KOHLMANN, LARS , 布魯納 黑克 , BRUNNER, HEIKO
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公开(公告)号：TWI475206B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW098136471
申请日：2009-10-28
发明人： 哈特曼 飛利浦 , HARTMANN, PHILIP , 喬納特 麥可 , JONAT, MICHAEL , 溫斯奇 馬帝斯 , WUNSCHE, MATHIAS
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公开(公告)号：TWI439580B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW098104123
申请日：2009-02-10
发明人： 哈特曼 菲利浦 , HARTMANN, PHILIP , 寇曼 拉斯 , KOHLMANN, LARS , 布魯納 黑克 , BRUNNER, HEIKO , 舒茲 克勞斯 , SCHULZ, KLAUS-DIETER
CPC分类号： C25D3/60
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