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公开(公告)号：TW202030375A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109101285
申请日：2020-01-15
发明人： 賴耀生 , LAI, YAO-SHENG , 賴庭君 , LAI, TING-CHUN , 周瑞昌 , CHOU, JUI-CHANG
摘要： 一種附載體銅箔，包括載體層以及設置於載體層上的超薄銅層，其中超薄銅層包括面向載體層的剝離面。當載體層被剝離於超薄銅層後，剝離面的實體體積(Vm)為0.09至0.27μm3/μm2，且剝離面的鎳殘留量不大於60μg/dm2。
简体摘要： 一种附载体铜箔，包括载体层以及设置于载体层上的超薄铜层，其中超薄铜层包括面向载体层的剥离面。当载体层被剥离于超薄铜层后，剥离面的实体体积(Vm)为0.09至0.27μm3/μm2，且剥离面的镍残留量不大于60μg/dm2。
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公开(公告)号：TW202003100A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108117448
申请日：2019-05-21
申请人： 國立大學法人東京工業大學 , TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY , 國立研究開發法人產業技術總合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY , 日商山王股份有限公司 , SANNO CO., LTD.
发明人： 加藤之貴 , KATO, YUKITAKA , 前田哲彥 , MAEDA, TETSUHIKO , 遠藤成輝 , ENDO, NARUKI , 八重樫聰 , YAEGASHI, SATOSHI , 古川義智 , FURUKAWA, YOSHITOMO , 出澤憲和 , DEZAWA, NORIKAZU
摘要： 本發明提供一種氫穿透膜，其包含含有鈀(Pd)及銅(Cu)的合金膜，該合金膜為電鍍膜，並具有體心立方(BCC)構造，且Pd：Cu比率(原子比)為4：6~6：4。
简体摘要： 本发明提供一种氢穿透膜，其包含含有钯(Pd)及铜(Cu)的合金膜，该合金膜为电镀膜，并具有体心立方(BCC)构造，且Pd：Cu比率(原子比)为4：6~6：4。
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公开(公告)号：TW201920780A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131658
申请日：2018-09-10
发明人： 佛里斯 湯瑪士 , FREESE, THOMAS , 貝斯特 羅尼 , BEST, RONNY
摘要： 本發明係關於一種用於在基板上電解沉積鋅鎳合金層之方法，其中該方法包括藉由終止施加源自外部電流源之電流於各可溶性鋅陽極及各可溶性鎳陽極而中斷在基板之表面上實施鋅鎳合金層之電解沉積；及其中此後，留在電解反應容器中之至少一個可溶性鋅陽極係藉由電連接元件電連接以與留在電解反應容器中之至少一個可溶性鎳陽極形成電連接，持續至少一段指定時間(其中源自外部電流源之電流係未施加於各可溶性鋅陽極及各可溶性鎳陽極)。
简体摘要： 本发明系关于一种用于在基板上电解沉积锌镍合金层之方法，其中该方法包括借由终止施加源自外部电流源之电流于各可溶性锌阳极及各可溶性镍阳极而中断在基板之表面上实施锌镍合金层之电解沉积；及其中此后，留在电解反应容器中之至少一个可溶性锌阳极系借由电连接组件电连接以与留在电解反应容器中之至少一个可溶性镍阳极形成电连接，持续至少一段指定时间(其中源自外部电流源之电流系未施加于各可溶性锌阳极及各可溶性镍阳极)。
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公开(公告)号：TW201907053A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107122822
申请日：2018-07-02
申请人： 德商愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人： 福斯 漢斯 格爾德 , FUSS, HANS-GERD
IPC分类号： C23C30/00 , C23C16/503 , C25D3/56
摘要： 本發明係有關於一種用於透過將一或數個製程氣體饋送入製程室(1)來將層沉積在基板(4)上之裝置，在該製程室中，承載基板(4)之基板座(3)可藉由一或數個發射線圈(5)所產生之交變電磁場被加熱至製程溫度，其中，該一或數個發射線圈具有塗層(9)。為此種裝置提供一種耐腐蝕的、同時具有較小的發射率從而在存在氯化合物及濕氣的情況下較為有效的發射線圈塗層，本發明提出：塗層(9)由錫及鎳構成。
简体摘要： 本发明系有关于一种用于透过将一或数个制程气体馈送入制程室(1)来将层沉积在基板(4)上之设备，在该制程室中，承载基板(4)之基板座(3)可借由一或数个发射线圈(5)所产生之交变电磁场被加热至制程温度，其中，该一或数个发射线圈具有涂层(9)。为此种设备提供一种耐腐蚀的、同时具有较小的发射率从而在存在氯化合物及湿气的情况下较为有效的发射线圈涂层，本发明提出：涂层(9)由锡及镍构成。
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公开(公告)号：TWI648416B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106138292
申请日：2017-11-06
发明人： 西野友朗 , NISHINO, TOMOAKI , 近藤茂喜 , KONDO, SHIGEKI , 服部貴洋 , HATTORI, TAKAHIRO , 川浩由 , KAWASAKI, HIROYOSHI , 六本木貴弘 , ROPPONGI, TAKAHIRO , 相馬大輔 , SOMA, DAISUKE , 佐藤勇 , SATO, ISAMU
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公开(公告)号：TW201807262A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106112016
申请日：2017-04-11
发明人： 林克紀 , HAYASHI, KATSUNORI
IPC分类号： C25D3/56
摘要： 本發明提供一種非氰系之Au-Sn合金鍍覆液，其係藉由中性、且不含有氰之鍍覆液組成，而可進行Au-Sn合金鍍覆處理。本發明之非氰系Au-Sn合金鍍覆液係含有非氰之可溶性金鹽、由4價之Sn所成之Sn化合物、硫代羧酸系化合物。本發明之非氰系Au-Sn合金鍍覆液，可更含有糖醇類，此外，亦可更含有二硫基烷基化合物。
简体摘要： 本发明提供一种非氰系之Au-Sn合金镀覆液，其系借由中性、且不含有氰之镀覆液组成，而可进行Au-Sn合金镀覆处理。本发明之非氰系Au-Sn合金镀覆液系含有非氰之可溶性金盐、由4价之Sn所成之Sn化合物、硫代羧酸系化合物。本发明之非氰系Au-Sn合金镀覆液，可更含有糖醇类，此外，亦可更含有二硫基烷基化合物。
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公开(公告)号：TW201739967A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106102785
申请日：2017-01-25
发明人： 下地匠 , SHIMOJI, TAKUMI , 志賀大樹 , SHIGA, DAIKI
IPC分类号： C25D3/56
摘要： 提供一種黑化鍍液，其包括鎳離子、銅離子及pH調整劑，其中，該pH調整劑為鹼金屬氫氧化物。
简体摘要： 提供一种黑化镀液，其包括镍离子、铜离子及pH调整剂，其中，该pH调整剂为碱金属氢氧化物。
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公开(公告)号：TW201730381A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105136271
申请日：2016-11-08
发明人： INUKAI KENJI , KOBAYASHI YOSUKE , IIDA KAZUHIKO
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公开(公告)号：TWI592516B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW105103298
申请日：2016-02-02
发明人： 石塚清和 , ISHIZUKA, KIYOKAZU , 前川紀之 , MAEKAWA, NORIYUKI , 浦本大明 , URAMOTO, HIROAKI , 布田雅裕 , FUDA, MASAHIRO , 山岡育郎 , YAMAOKA, IKURO , 松村賢一郎 , MATSUMURA, KENICHIRO
CPC分类号： C23C22/42 , B32B15/015 , B32B15/18 , C23C22/44 , C23C28/00 , C23C2222/20 , C25D3/562 , C25D5/12 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D7/0614
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公开(公告)号：TWI589434B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW104125386
申请日：2012-06-04
发明人： 新井英太 , ARI, HIDETA , 神永賢吾 , KAMINAGA, KENGO , 三木敦史 , MIKI, ATSUSHI , 福地亮 , FUKUCHI, RYO
CPC分类号： H05K1/0274 , C25D3/38 , C25D3/58 , C25D5/10 , C25D5/12 , C25D5/48 , C25D7/0614 , C25D11/38 , H05K1/09 , H05K3/384 , H05K2201/0141 , H05K2201/0355 , Y10T428/12049
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