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公开(公告)号:TWI604942B
公开(公告)日:2017-11-11
申请号:TW100143411
申请日:2011-11-25
Applicant: 索魯提亞有限公司 , SOLUTIA INC.
Inventor: 史賓格勒蘿拉李 , SPANGLER, LORA LEE , 亞可馮文森 , YACOVONE, VINCENT , 卡拉加尼斯亞里斯多德利斯 , KARAGIANNIS, ARISTOTELIS , 瑪提斯蓋瑞 , MATIS, GARY , 納卡拉珍普拉塔古瑪 , NAGARAJAN, PRATAPKUMAR , 史密斯安德魯奈爾 , SMITH, ANDREW NEIL , 史德洛斯基韋托德 , SZYDLOWSKI, WITOLD , 爾本理查F , URBAN, RICHARD F. , 方文萊 , FENG, WENLAI
CPC classification number: B29C47/0061 , B29C43/222 , B29C47/0021 , B29C47/004 , B29C47/065 , B29C47/0898 , B29C47/8805 , B29C47/884 , B29C47/8845 , B29C59/022 , B29C59/04 , B29C59/046 , B29C2059/023 , B29C2947/92295 , B29C2947/92438 , B29K2101/12 , B29K2105/256 , B29K2995/0072 , B32B3/30 , Y10T428/24355
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公开(公告)号:TWI602954B
公开(公告)日:2017-10-21
申请号:TW102145204
申请日:2013-12-09
Applicant: 三菱化學股份有限公司 , MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION , 神奈川科學技術研究院 , KANAGAWA ACADEMY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Inventor: 尾野本広志 , ONOMOTO, HIROSHI , 廣幡実男 , HIROHATA, JITSUO , 岡本英子 , OKAMOTO, EIKO , 松原雄二 , MATSUBARA, YUJI , 井川雅資 , IKAWA, MASASHI , 益田秀樹 , MASUDA, HIDEKI , 柳下崇 , YANAGISHITA, TAKASHI
CPC classification number: C25D11/06 , B29C59/022 , B29C59/046 , B29C2059/023 , C25D11/024 , C25D11/045 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/12
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公开(公告)号:TWI592758B
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:TW101143570
申请日:2012-11-21
Applicant: 旭化成電子材料股份有限公司 , ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION
Inventor: 三田村哲理 , MITAMURA, YOSHIMICHI , 中田卓人 , NAKATA, TAKUTO
IPC: G03F7/075 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/38 , B29C33/3857 , B29C33/424 , B29C59/022 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C04B35/45 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , G03F7/0043 , G03F7/32 , G03F7/322 , G11B7/14 , G11B7/261
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公开(公告)号:TW201602382A
公开(公告)日:2016-01-16
申请号:TW103123400
申请日:2014-07-08
Applicant: 鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
Inventor: 魏洋 , WEI, YANG , 魏浩明 , WEI, HAO-MING , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
CPC classification number: B29C59/005 , B29C59/022 , B29C2059/023 , B29C2059/028 , B29K2105/167 , Y10T428/24802
Abstract: 本發明提供一種圖案化奈米碳管陣列的製備方法,提供一轉移至代替基底表面的奈米碳管陣列,該奈米碳管陣列靠近該代替基底的表面為第二表面,遠離該代替基底的表面為第一表面;通過在奈米碳管陣列的該第一表面進行鐳射刻蝕,將該奈米碳管陣列劃分為兩部分,分別為保留區域和去除區域;以及通過從該去除區域拉取奈米碳管結構的方式去除該去除區域中的奈米碳管,並保留該保留區域的奈米碳管。本發明還提供一種奈米碳管器件。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种图案化奈米碳管数组的制备方法,提供一转移至代替基底表面的奈米碳管数组,该奈米碳管数组靠近该代替基底的表面为第二表面,远离该代替基底的表面为第一表面;通过在奈米碳管数组的该第一表面进行激光刻蚀,将该奈米碳管数组划分为两部分,分别为保留区域和去除区域;以及通过从该去除区域拉取奈米碳管结构的方式去除该去除区域中的奈米碳管,并保留该保留区域的奈米碳管。本发明还提供一种奈米碳管器件。
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公开(公告)号:TW201524747A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:TW103134289
申请日:2014-10-01
Inventor: 尹成圓 , YOUN, SUNG WON , 朴相天 , PARK, SANG CHEON , 廣島洋 , HIROSHIMA, HIROSHI , 高木秀樹 , TAKAGI, HIDEKI , 鈴木健太 , SUZUKI, KENTA
CPC classification number: B29C59/022 , B29C35/0805 , B29C43/021 , B29C43/52 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29K2079/08 , C08L79/08 , G03F7/0002 , G03F7/0387
Abstract: 本發明提供一種與光微影法及雷射加工等先前之聚醯亞胺加工技術相比,加工形狀及其尺寸精度優異,且簡單之聚醯亞胺之圖案形成方法。 於本發明之聚醯亞胺之微細圖案形成中,使用具有感光性且可於玻璃轉移溫度以下成形之溶劑可溶性之聚醯亞胺樹脂組合物作為聚醯亞胺,並且於藉由熱壓印法而進行圖案化並進行熱硬化之方法中,於成形步驟後之模具之脫模後進行紫外線照射。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种与光微影法及激光加工等先前之聚酰亚胺加工技术相比,加工形状及其尺寸精度优异,且简单之聚酰亚胺之图案形成方法。 于本发明之聚酰亚胺之微细图案形成中,使用具有感光性且可于玻璃转移温度以下成形之溶剂可溶性之聚酰亚胺树脂组合物作为聚酰亚胺,并且于借由热压印法而进行图案化并进行热硬化之方法中,于成形步骤后之模具之脱模后进行紫外线照射。
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公开(公告)号:TWI489522B
公开(公告)日:2015-06-21
申请号:TW102108542
申请日:2013-03-11
Applicant: 旭化成電子材料股份有限公司 , ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION
Inventor: 古池潤 , KOIKE, JUN
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: B29C59/022 , B29C33/3857 , B29C33/424 , B29C71/04 , B29C2059/023 , B29K2027/12 , B29K2883/00 , B29K2995/0077 , B32B3/266 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/20 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/325 , B32B27/36 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/518 , B32B2315/00 , B32B2457/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L33/22 , H01L2924/0002 , Y10T428/24322 , Y10T428/24612 , H01L2924/00
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公开(公告)号:TW201515816A
公开(公告)日:2015-05-01
申请号:TW103127696
申请日:2014-08-13
Applicant: 三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
Inventor: 釋迦郡真矢 , SHAKAGOORI, SHINYA , 大川真 , OOKAWA, MAKOTO , 高梨一哉 , TAKANASHI, KAZUYA , 原勝己 , HARA, KATSUMI
CPC classification number: B29C33/3842 , B05D3/102 , B05D3/12 , B05D5/00 , B29C59/022 , B29C2059/023 , B29K2905/02 , C23C26/00 , C25D11/04 , C25D11/16
Abstract: 本發明提供一種將圓柱狀鋁基材的外周面均勻地研磨、且可有效地利用該外周面的圓柱狀奈米壓印用模具的製造方法。所述圓柱狀奈米壓印用模具的製造方法為利用研磨體26對圓柱狀的鋁基材10的整個外周面14進行研磨後,於鋁基材10的外周面14上形成氧化皮膜的方法,且以研磨體26的至少一部分於鋁基材10的第1端部10a側及第2端部10b側伸出的方式使研磨體26於軸方向上移動並進行研磨,且將研磨體26的自鋁基材10伸出的部分配置於圓柱狀的第1支撐構件18及第2支撐構件20上,且由該些支撐構件所支撐。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种将圆柱状铝基材的外周面均匀地研磨、且可有效地利用该外周面的圆柱状奈米压印用模具的制造方法。所述圆柱状奈米压印用模具的制造方法为利用研磨体26对圆柱状的铝基材10的整个外周面14进行研磨后,于铝基材10的外周面14上形成氧化皮膜的方法,且以研磨体26的至少一部分于铝基材10的第1端部10a侧及第2端部10b侧伸出的方式使研磨体26于轴方向上移动并进行研磨,且将研磨体26的自铝基材10伸出的部分配置于圆柱状的第1支撑构件18及第2支撑构件20上,且由该些支撑构件所支撑。
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公开(公告)号:TWI477530B
公开(公告)日:2015-03-21
申请号:TW099128279
申请日:2010-08-24
Applicant: 三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
Inventor: 須永忠弘 , SUNAGA, TADAHIRO , 小田隆志 , ODA, TAKASHI
CPC classification number: C08L27/12 , B29C33/38 , B29C59/022 , B29C2059/023 , B29K2105/0002 , B29K2105/24 , B29K2885/00 , C08F283/14 , C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , Y10T428/24802
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公开(公告)号:TW201506297A
公开(公告)日:2015-02-16
申请号:TW103124030
申请日:2014-07-11
Applicant: 奇異照明解決有限責任公司 , GE LIGHTING SOLUTIONS, LLC
CPC classification number: G02B1/11 , B29C45/14336 , B29C45/14778 , B29C59/022 , B29C59/04 , B29C2045/0094 , B29C2059/023 , B29L2011/00 , G02B6/0051
Abstract: 本發明揭示一種用於減少一照明面板中之眩光之裝置。該裝置包含具有一發射表面之一半透明層。該發射表面之一微結構係由呈用於重新引導由該照明面板產生之光之協作配置的特徵形成。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于减少一照明皮肤中之眩光之设备。该设备包含具有一发射表面之一半透明层。该发射表面之一微结构系由呈用于重新引导由该照明皮肤产生之光之协作配置的特征形成。
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公开(公告)号:TWI405033B
公开(公告)日:2013-08-11
申请号:TW096145209
申请日:2007-11-28
Applicant: LG顯示器股份有限公司 , LG DISPLAY CO., LTD.
Inventor: 宋泰俊 , TAE JOON SONG
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/02 , B29C37/0053 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29K2105/0002 , B29K2995/0092 , B29K2995/0093 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H05K3/046 , Y10S977/887
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