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    三維測量裝置
    2.
    发明专利
    三維測量裝置 审中-公开
    三维测量设备

    公开(公告)号：TW201814243A

    公开(公告)日：2018-04-16

    申请号：TW106117096

    申请日：2017-05-24

    申请人： CKD股份有限公司 ,  CKD CORPORATION

    发明人： 石垣裕之 ,  ISHIGAKI, HIROYUKI ,  間宮隆弘 ,  MAMIYA, TAKAHIRO

    IPC分类号： G01B11/24 ,  G01B9/023 ,  G01C1/14

    CPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/00

    摘要： 提供一種利用波長不同的光，可達成測量範圍的擴大，並達成測量效率的提升之三維測量裝置。 三維測量裝置1具備有：偏光分光器20，將射入之預定的光分割成偏光方向彼此正交的兩道偏光，將其中一道偏光作為測量光照射到工件W，將另一道光作為參考光照射到參考面23，並且將該等光再度合成並射出；第1投光系統2A，令第1光射入該偏光分光器20的第1面20a；第2投光系統2B，令第2光射入偏光分光器20的第2面20b；第1攝像系統4A，可拍攝從偏光分光器20的第1面20a射出之上述第1光；及第2攝像系統4B，可拍攝從偏光分光器20的第2面20b射出之上述第2光。

    简体摘要： 提供一种利用波长不同的光，可达成测量范围的扩大，并达成测量效率的提升之三维测量设备。 三维测量设备1具备有：偏光分光器20，将射入之预定的光分割成偏光方向彼此正交的两道偏光，将其中一道偏光作为测量光照射到工件W，将另一道光作为参考光照射到参考面23，并且将该等光再度合成并射出；第1投光系统2A，令第1光射入该偏光分光器20的第1面20a；第2投光系统2B，令第2光射入偏光分光器20的第2面20b；第1摄像系统4A，可拍摄从偏光分光器20的第1面20a射出之上述第1光；及第2摄像系统4B，可拍摄从偏光分光器20的第2面20b射出之上述第2光。