附表面保護薄膜之偏光薄膜及偏光薄膜之製造方法
    3.
    发明专利
    附表面保護薄膜之偏光薄膜及偏光薄膜之製造方法 审中-公开
    附表面保护薄膜之偏光薄膜及偏光薄膜之制造方法

    公开(公告)号:TW201801905A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:TW106109278

    申请日:2017-03-21

    摘要: 本發明為一種附表面保護薄膜之偏光薄膜,具有厚度100μm以下的偏光薄膜(A)、及已設於該偏光薄膜(A)之至少一面上的表面保護薄膜(B),前述偏光薄膜(A)係於偏光件之至少單面上具有保護薄膜,前述偏光件含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下,前述偏光薄膜(A)之寬度WA與前述表面保護薄膜(B)之寬度WB的差值(WA-WB)為3mm以上,前述表面保護薄膜(B)對前述偏光薄膜(A)的剝離力為0.2N/25mm以下。依據本發明之附表面保護薄膜之偏光薄膜,在將表面保護薄膜剝離時可抑制偏光薄膜發生破裂。

    简体摘要: 本发明为一种附表面保护薄膜之偏光薄膜,具有厚度100μm以下的偏光薄膜(A)、及已设于该偏光薄膜(A)之至少一面上的表面保护薄膜(B),前述偏光薄膜(A)系于偏光件之至少单面上具有保护薄膜,前述偏光件含聚乙烯醇系树脂且厚度为10μm以下,前述偏光薄膜(A)之宽度WA与前述表面保护薄膜(B)之宽度WB的差值(WA-WB)为3mm以上,前述表面保护薄膜(B)对前述偏光薄膜(A)的剥离力为0.2N/25mm以下。依据本发明之附表面保护薄膜之偏光薄膜,在将表面保护薄膜剥离时可抑制偏光薄膜发生破裂。

    附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法及影像顯示裝置之製造方法
    6.
    发明专利
    附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法及影像顯示裝置之製造方法 审中-公开
    附透明树脂层之单面保护偏光薄膜之制造方法、附黏着剂层之偏光薄膜之制造方法及影像显示设备之制造方法

    公开(公告)号:TW201801926A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:TW106109277

    申请日:2017-03-21

    摘要: 本發明為一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法,特徵在於該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件單面有保護薄膜之單面保護偏光薄膜、及已設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件面上的透明樹脂層,且該製造方法依序包含下述步驟:步驟(1),準備僅於偏光件單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜;步驟(2),在前述單面保護偏光薄膜之偏光件面塗佈含樹脂成分的水系塗覆液;以及步驟(3),將所得塗佈膜乾燥而形成透明樹脂層;並且,前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下,前述偏光件之欲形成透明樹脂層之面的水接觸角偏差值係於平均水接觸角±20°之範圍內。依據本發明,即便在使用了薄型偏光件的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜曝置於加濕環境下的情況下,仍能抑制外觀不均缺陷的發生。

    简体摘要: 本发明为一种附透明树脂层之单面保护偏光薄膜之制造方法,特征在于该附透明树脂层之单面保护偏光薄膜具有仅于偏光件单面有保护薄膜之单面保护偏光薄膜、及已设于前述单面保护偏光薄膜之偏光件面上的透明树脂层,且该制造方法依序包含下述步骤:步骤(1),准备仅于偏光件单面具有保护薄膜的单面保护偏光薄膜;步骤(2),在前述单面保护偏光薄膜之偏光件面涂布含树脂成分的水系涂覆液;以及步骤(3),将所得涂布膜干燥而形成透明树脂层;并且,前述偏光件含有聚乙烯醇系树脂且厚度为10μm以下,前述偏光件之欲形成透明树脂层之面的水接触角偏差值系于平均水接触角±20°之范围内。依据本发明,即便在使用了薄型偏光件的附透明树脂层之单面保护偏光薄膜曝置于加湿环境下的情况下,仍能抑制外观不均缺陷的发生。

    偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置
    7.
    发明专利
    偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 审中-公开
    偏光薄膜及其制造方法、光学薄膜及影像显示设备

    公开(公告)号:TW201741698A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:TW106107776

    申请日:2017-03-09

    IPC分类号: G02B5/30 G02F1/1335 C09J4/00

    CPC分类号: C09J11/06 G02B5/30 G02F1/1335

    摘要: 本發明係一種偏光薄膜,其係透過接著劑層(a)及(b)於偏光件之兩面分別設置有透明保護薄膜者,並且一面之接著劑層(a)之玻璃轉移溫度為-60℃至未達40℃,另一面之接著劑層(b)之玻璃轉移溫度為40℃以上,接著劑層(a)係利用對活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)照射活性能量射線而成之硬化物層所形成者,活性能量射線硬化型接著劑組成物(a)至少含有自由基聚合性化合物,於將自由基聚合性化合物之總量設為100重量%時,含有15重量%以上碳數10~20烷基(甲基)丙烯酸酯(A)。

    简体摘要: 本发明系一种偏光薄膜,其系透过接着剂层(a)及(b)于偏光件之两面分别设置有透明保护薄膜者,并且一面之接着剂层(a)之玻璃转移温度为-60℃至未达40℃,另一面之接着剂层(b)之玻璃转移温度为40℃以上,接着剂层(a)系利用对活性能量射线硬化型接着剂组成物(a)照射活性能量射线而成之硬化物层所形成者,活性能量射线硬化型接着剂组成物(a)至少含有自由基聚合性化合物,于将自由基聚合性化合物之总量设为100重量%时,含有15重量%以上碳数10~20烷基(甲基)丙烯酸酯(A)。

    偏光件、單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、以及影像顯示裝置及其連續製造方法
    9.
    发明专利
    偏光件、單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、以及影像顯示裝置及其連續製造方法 审中-公开
    偏光件、单面保护偏光薄膜、附黏着剂层之偏光薄膜、以及影像显示设备及其连续制造方法

    公开(公告)号:TW201730586A

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:TW106103201

    申请日:2017-01-26

    IPC分类号: G02B1/08 G02B5/30

    CPC分类号: G02B5/30 G02F1/1335

    摘要: 本發明之偏光件係用於附黏著劑層之偏光薄膜,該附黏著劑層之偏光薄膜係在偏光件之單面上具有黏著劑層;前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂,且厚度為10μm以下,並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件: P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3),或 P≧99.9(惟T≧42.3); 並且,前述偏光件中,自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)。如此本發明之偏光件具有預定光學特性,且即便厚度為10μm以下,亦可抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。

    简体摘要: 本发明之偏光件系用于附黏着剂层之偏光薄膜,该附黏着剂层之偏光薄膜系在偏光件之单面上具有黏着剂层;前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系树脂,且厚度为10μm以下,并构造成为以单体透射率T及偏光度P表示的光学特性会满足下式之条件: P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3),或 P≧99.9(惟T≧42.3); 并且,前述偏光件中,自设置前述黏着剂层侧之单面所测定的硼酸含量(a)乃低于自另一单面所测定的硼酸含量(b)。如此本发明之偏光件具有预定光学特性,且即便厚度为10μm以下,亦可抑制贯通裂纹及奈米细缝所致缺陷。