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公开(公告)号:TWI605478B
公开(公告)日:2017-11-11
申请号:TW104131584
申请日:2015-09-24
Applicant: 村田製作所股份有限公司 , MURATA MANUFACTURING CO., LTD.
Inventor: 石田祐也 , ISHIDA, YUYA
CPC classification number: H01F1/14733 , B01J13/02 , B01J13/08 , B22F1/0062 , B22F1/02 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K2003/2227 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C09D7/61 , C09D101/32 , C09D129/04 , C09D139/06 , C09D179/02 , C09D189/06 , C22C33/02 , C22C2202/02 , H01F1/14791 , H01F1/26 , H01F41/0206 , H01F41/0246
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公开(公告)号:TWI600723B
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW103100921
申请日:2014-01-10
Applicant: 由尼帝佳股份有限公司 , UNITIKA LTD.
Inventor: 荒木悟郎 , ARAKI, GORO
IPC: C09D123/30 , C09D129/04 , C09D7/12 , C08J7/04 , C09K3/00 , B32B27/06 , B32B27/36 , B32B27/32 , B32B33/00 , B29C33/68
CPC classification number: C09D129/04 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29K2867/00 , B29K2995/0098 , B29L2009/005 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/36 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2264/0214 , B32B2264/025 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2270/00 , B32B2307/306 , B32B2307/50 , B32B2307/51 , B32B2307/514 , B32B2307/538 , B32B2307/714 , B32B2307/734 , B32B2307/748 , B32B2405/00 , B32B2457/08 , B32B2457/202 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2423/26 , Y10T428/31797
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公开(公告)号:TWI568805B
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:TW100140749
申请日:2011-11-08
Applicant: 道康寧公司 , DOW CORNING CORPORATION
Inventor: 奎茲 西葛 , CREUTZ, SERGE , 帝洛福 艾曼紐 , DELOFFRE, EMMANUELLE , 佩倫 克立斯丁 , PAREIN, CHRISTIAN , 凡德美樂布魯克 芙駱爾 , VANDEMEULEBROUCKE, FLORE , 吉兒科司基 尼古拉斯 , ZIOLKOWSKI, NICOLAS
IPC: C09D129/04 , C09D183/04 , C08K5/09 , D21H21/16
CPC classification number: C09D5/00 , B65D65/42 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08L2201/54 , C09D129/04 , C09D183/04 , D06M13/207 , D06M15/333 , D06M15/643 , D21H17/24 , D21H17/36 , D21H17/59 , D21H17/60 , D21H17/70 , D21H19/12 , D21H19/20 , D21H19/32 , D21H19/34 , D21H21/14 , Y10T442/2262 , C08K5/09 , C08L83/04 , C08L83/00
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4.
公开(公告)号:TW201619645A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:TW104132124
申请日:2015-09-30
Applicant: 日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
Inventor: 三田聰司 , MITA, SATOSHI , 上野友德 , UENO, TOMONORI , 茂手木佑輔 , MOTEGI, YUSUKE , 石原康隆 , ISHIHARA, YASUTAKA , 中藤彩美 , NAKATO, AYAMI , 岸敦史 , KISHI, ATSUSHI
IPC: G02B5/30 , G02B1/10 , G02B1/14 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/14 , C08K3/38 , C09D129/04 , C09J7/29 , C09J133/26 , C09J2201/122 , C09J2201/606 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2203/326 , C09J2429/006 , C09J2433/00 , C09J2467/00 , G02B5/3033 , G02F1/133528 , G02F2202/28
Abstract: 本發明之課題係提供一種僅於偏光件單面具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜,前述偏光件具有預定光學特性且即便厚度在10μm以下,仍可抑制貫通裂紋及奈米細縫的發生。 在解決手段上,本發明之單面保護偏光薄膜,為僅於偏光件單面具有透明保護薄膜者,其特徵在於:前述偏光件含有聚乙烯醇系樹脂,且厚度在10μm以下,並且係構造成其以單體穿透率T及偏光度P所表示之光學特性滿足下式之條件:P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T
Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题系提供一种仅于偏光件单面具有透明保护薄膜的单面保护偏光薄膜,前述偏光件具有预定光学特性且即便厚度在10μm以下,仍可抑制贯通裂纹及奈米细缝的发生。 在解决手段上,本发明之单面保护偏光薄膜,为仅于偏光件单面具有透明保护薄膜者,其特征在于:前述偏光件含有聚乙烯醇系树脂,且厚度在10μm以下,并且系构造成其以单体穿透率T及偏光度P所表示之光学特性满足下式之条件:P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3),或,P≧99.9(惟T≧42.3);并且,在前述偏光件的另一面具有透明层且该透明层之厚度F(μm)与于80℃时的压缩弹性模数C(GPa)满足式1:F≧3,以及,式2:C≧e-0.7F。
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公开(公告)号:TW201619217A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:TW104133949
申请日:2015-10-16
Applicant: 可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
Inventor: 熊木洋介 , KUMAKI, YOSUKE , 山本步 , YAMAMOTO, AYUMU , 谷田達也 , TANIDA, TATSUYA
IPC: C08F216/06 , C08F8/12 , C08L29/04 , C09D129/04 , D21H19/20 , D21H19/60 , D21H27/00
CPC classification number: C08F216/06 , C08F16/06 , C09D129/04 , C09J7/201 , C09J7/21 , C09J2400/28 , C09J2429/005 , C09J2483/00 , D21H19/20 , D21H27/00 , D21H27/001
Abstract: 一種乙烯醇系聚合物,其係具有乙烯性雙鍵,且皂化度為70莫耳%以上之乙烯醇系聚合物,其特徵係:前述乙烯醇系聚合物為水溶性,相對於乙烯醇單元與乙酸乙烯酯單元之合計而言,前述乙烯性雙鍵的莫耳比為0.05/100~2/100,且將前述乙烯醇系聚合物酯化所得之乙烯酯系聚合物的極限黏度[η]與重量平均分子量Mw滿足下述式(1)及(2)。 4.7≦logMw≦6.3 (1) 0.60
Abstract in simplified Chinese: 一种乙烯醇系聚合物,其系具有乙烯性双键,且皂化度为70莫耳%以上之乙烯醇系聚合物,其特征系:前述乙烯醇系聚合物为水溶性,相对于乙烯醇单元与乙酸乙烯酯单元之合计而言,前述乙烯性双键的莫耳比为0.05/100~2/100,且将前述乙烯醇系聚合物酯化所得之乙烯酯系聚合物的极限黏度[η]与重量平均分子量Mw满足下述式(1)及(2)。 4.7≦logMw≦6.3 (1) 0.60<(log[η]+3.75)/logMw<0.69 (2)
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公开(公告)号:TW201601367A
公开(公告)日:2016-01-01
申请号:TW104101946
申请日:2015-01-21
Applicant: 成都中科來方能源科技有限公司
IPC: H01M2/16 , H01M10/052
CPC classification number: H01M2/1653 , B32B27/32 , C08J7/047 , C08J2323/02 , C08J2423/08 , C08K9/04 , C08K2201/011 , C09D7/40 , C09D125/16 , C09D129/04 , C09D133/02 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09D133/12 , C09D133/14 , C09D175/04 , C09J11/08 , H01M2/145 , H01M2/166 , H01M2/1686 , H01M10/052 , H01M10/0525
Abstract: 本創作關於一種用於改性鋰離子電池之隔膜的水性組合物及包含其之隔膜與電池,水性組合物包含水性黏合劑與有機顆粒填料,有機顆粒填料之粒徑為50nm至2000nm並係為由第一聚合物形成之奈米顆粒或至少表面包覆有第一聚合物之奈米顆粒,第一聚合物係為聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、聚氨酯或其組合。本創作之目的在於提高鋰離子電池的強度,減小電池厚度於高溫時的膨脹,並簡化電池生產製程。
Abstract in simplified Chinese: 本创作关于一种用于改性锂离子电池之隔膜的水性组合物及包含其之隔膜与电池,水性组合物包含水性黏合剂与有机颗粒填料,有机颗粒填料之粒径为50nm至2000nm并系为由第一聚合物形成之奈米颗粒或至少表面包覆有第一聚合物之奈米颗粒,第一聚合物系为聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、聚氨酯或其组合。本创作之目的在于提高锂离子电池的强度,减小电池厚度于高温时的膨胀,并简化电池生产制程。
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7.鋰離子二次電池正極用黏合劑、含有此黏合劑之鋰離子二次電池用正極、使用此正極之鋰離子二次電池及電氣機器 有权
Simplified title: 锂离子二次电池正极用黏合剂、含有此黏合剂之锂离子二次电池用正极、使用此正极之锂离子二次电池及电气机器公开(公告)号:TWI491098B
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:TW102136841
申请日:2013-10-11
Applicant: 獨立行政法人產業技術綜合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY , 住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
Inventor: 向井孝志 , MUKAI, TAKASHI , 森下正典 , MORISHITA, MASANORI , 境哲男 , SAKAI, TETSUO , 金原祐治 , KINPARA, YUJI , 藤重隼一 , FUJISHIGE, JUNICHI , 藤本信貴 , FUJIMOTO, NOBUTAKA , 辛島修一 , KARASHIMA, SHUICHI
IPC: H01M4/62 , H01M10/052
CPC classification number: H01M4/622 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08F220/06 , C08F220/14 , C09D129/04 , C09D133/02 , H01M4/136 , H01M4/366 , H01M4/5825 , H01M4/625 , H01M10/0525 , H01M2220/20 , H01M2220/30
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公开(公告)号:TWI483974B
公开(公告)日:2015-05-11
申请号:TW102110067
申请日:2013-03-21
Applicant: SKC股份有限公司 , SKC CO., LTD.
Inventor: 郭奇烈 , KWAK, KI-YUEL , 段慶植 , DAN, KYUNGSIK , 李世哲 , LEE, SE-CHUL , 許榮民 , HEO, YOUNG MIN , 奇貞嬉 , KI, JUNG HEE , 金哲鎬 , KIM, CHEOL HO , 宋庚洙 , SONG, KYOUNG-SOO , 李承爰 , LEE, SEUNGWON
CPC classification number: B29D7/01 , B29K2029/04 , B29K2995/0018 , C08J7/047 , C08J2429/04 , C09D129/04 , G02B5/3033
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公开(公告)号:TW201517127A
公开(公告)日:2015-05-01
申请号:TW102138772
申请日:2013-10-25
Applicant: 中原大學 , CHUNG-YUAN CHRISTIAN UNIVERSITY.
Inventor: 陳榮財 , CHEN, JUNG TSAI , 胡蒨傑 , HU, CHIEN CHIEH , 李魁然 , LEE, KUEIR RARN , 賴君義 , LAI, JUIN YIH
IPC: H01L21/205 , H01L29/78
CPC classification number: C09D129/04 , B05D1/28 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2429/04 , C08K3/042 , C08K5/1515 , C08L29/04 , C08L2201/10 , C08L2201/14 , C08L2205/025
Abstract: 本發明揭示了一種半晶態高分子聚合物/層化無機物之複合薄膜及其形成方法。藉由摻混及再結晶製程後,可形成一半晶態高分子聚合物/層化無機物複合薄膜。上述半晶態高分子聚合物/層化無機物複合薄膜的再結晶可大幅增加氧氣透過路徑長度,進而降低上述半晶態高分子聚合物/層化無機物複合薄膜於氧氣的透過率。更好的是,依據本說明書之揭露內容,上述半晶態高分子聚合物/層化無機物複合薄膜在摻混極小量層化無機物下即可降低氧氣的透過率,進而達到阻氣之效果。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示了一种半晶态高分子聚合物/层化无机物之复合薄膜及其形成方法。借由掺混及再结晶制程后,可形成一半晶态高分子聚合物/层化无机物复合薄膜。上述半晶态高分子聚合物/层化无机物复合薄膜的再结晶可大幅增加氧气透过路径长度,进而降低上述半晶态高分子聚合物/层化无机物复合薄膜于氧气的透过率。更好的是,依据本说明书之揭露内容,上述半晶态高分子聚合物/层化无机物复合薄膜在掺混极小量层化无机物下即可降低氧气的透过率,进而达到阻气之效果。
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10.乙烯醇系聚合物、增黏劑、乳化聚合用安定劑、懸浮聚合用安定劑、塗布劑、塗覆物、纖維用糊劑、附有糊之絲及織物的製造方法 审中-公开
Simplified title: 乙烯醇系聚合物、增黏剂、乳化聚合用安定剂、悬浮聚合用安定剂、涂布剂、涂覆物、纤维用煳剂、附有煳之丝及织物的制造方法公开(公告)号:TW201514209A
公开(公告)日:2015-04-16
申请号:TW103131548
申请日:2014-09-12
Applicant: 可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
Inventor: 加藤雅己 , KATO, MASAKI , 真木秀樹 , MAKI, HIDEKI , 蜂谷惠之 , HACHIYA, KEISHI , 川越雅子 , KAWAGOE, MASAKO , 森容子 , MORI, YOKO
IPC: C08F16/06 , C08F2/18 , C09D129/04
CPC classification number: C08F216/06 , B41M5/337 , B41M5/5254 , B41M2205/02 , B41M2205/32 , B65D65/42 , C08F8/12 , C08F16/00 , C09D129/04 , D06M15/333 , D21H17/36 , D21H19/20 , D21H19/60 , D21H21/16 , D21H27/001 , D21H27/10
Abstract: 本發明之目的係提供一種適度的水溶性、增黏性及皮膜強度係以高次元平衡,且水溶液中之黏度的保存安定性優異之PVA。本發明係一種重量平均分子量(Mw(A))對數量平均分子量(Mn(A))之比例(Mw(A)/Mn(A))為3以上8以下的乙烯醇系聚合物(A),其係(A)在氫氧化鈉溶液中以40℃處理該乙烯醇系聚合物1小時所得之乙烯醇系聚合物(B)的重量平均分子量(Mw(B))對數量平均分子量(Mn(B))之比例(Mw(B)/Mn(B))為2以上小於3的乙烯醇系聚合物。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的系提供一种适度的水溶性、增黏性及皮膜强度系以高次元平衡,且水溶液中之黏度的保存安定性优异之PVA。本发明系一种重量平均分子量(Mw(A))对数量平均分子量(Mn(A))之比例(Mw(A)/Mn(A))为3以上8以下的乙烯醇系聚合物(A),其系(A)在氢氧化钠溶液中以40℃处理该乙烯醇系聚合物1小时所得之乙烯醇系聚合物(B)的重量平均分子量(Mw(B))对数量平均分子量(Mn(B))之比例(Mw(B)/Mn(B))为2以上小于3的乙烯醇系聚合物。
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