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    基板處理裝置及基板處理方法
    2.
    发明专利
    基板處理裝置及基板處理方法 审中-公开
    基板处理设备及基板处理方法

    公开(公告)号：TW201709989A

    公开(公告)日：2017-03-16

    申请号：TW105115978

    申请日：2016-05-23

    申请人： 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    发明人： 林聖人 ,  HAYASHI, MASATO ,  野口耕平 ,  NOGUCHI, KOHEI ,  飯建次 ,  IIZUKA, KENJI ,  飯田成昭 ,  IIDA, NARUAKI

    IPC分类号： B08B3/08 ,  B08B9/032 ,  G01N21/85 ,  G03F7/16 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67

    CPC分类号： H01L22/10 ,  G01N21/85 ,  G01N2021/8578 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/67253

    摘要： 提供一種具備複數的流體供給路的基板處理 裝置中，當檢出流通於各供給路的流體中所含有的異物時，可防範裝置的大型化及製造成本提高之技術。 一種裝置，具備：位於向基板供給流體 的複數供給路的各個一部分，構成流體中異物的測定區域，且互相以列形成設置的測定用的流路部；與前述複數的流路部共用，為了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述複數的流路部中所選擇的流路部內，為了形成光路，將前述光照射部沿著前述流路部的配列方向相對移動的移動機構；包含受光元件並接收透過前述流路部的光之受光部；基於前述受光元件所輸出的訊號，為了檢出前述流體中的異物的檢出部。藉此，在削減必要的光照射部之數的同時，可以達到裝置的小型化。

    简体摘要： 提供一种具备复数的流体供给路的基板处理 设备中，当检出流通于各供给路的流体中所含有的异物时，可防范设备的大型化及制造成本提高之技术。 一种设备，具备：位于向基板供给流体 的复数供给路的各个一部分，构成流体中异物的测定区域，且互相以列形成设置的测定用的流路部；与前述复数的流路部共享，为了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述复数的流路部中所选择的流路部内，为了形成光路，将前述光照射部沿着前述流路部的配列方向相对移动的移动机构；包含受光组件并接收透过前述流路部的光之受光部；基于前述受光组件所输出的信号，为了检出前述流体中的异物的检出部。借此，在削减必要的光照射部之数的同时，可以达到设备的小型化。

    氣體控制系統以及氣體控制系統用程式
    4.
    发明专利
    氣體控制系統以及氣體控制系統用程式 审中-公开
    气体控制系统以及气体控制系统用进程

    公开(公告)号：TW201714207A

    公开(公告)日：2017-04-16

    申请号：TW105133038

    申请日：2016-10-13

    申请人： 堀場STEC股份有限公司 ,  HORIBA STEC, CO., LTD.

    发明人： 西里洋 ,  NISHIZATO, HIROSHI ,  瀧尻興太郎 ,  TAKIJIRI, KOTARO ,  南雅和 ,  MINAMI, MASAKAZU ,  寺岡溫子 ,  TERAOKA, ATSUKO

    IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/455

    CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/4482 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/84 ,  G01N33/0004 ,  G01N2021/8411 ,  G01N2021/8578 ,  G05D11/00 ,  Y10T137/0329 ,  Y10T137/2499 ,  Y10T137/2509

    摘要： 本發明提供一種氣體控制系統，其可以防止出現由材料氣體再液化的液滴或材料的熱分解所產生的微粒對濃度或流量控制的影響，以預先設定的濃度或流量供給混合氣體。氣體控制系統包括：第一閥，其設置在載氣管線上或設置在供氣管線上；流量控制機構，其設於稀釋氣體管線上，具有流量感測器及第二閥；非接觸式的第一濃度感測器；第一閥控制部；稀釋氣體設定流量計算部，其基於預先設定的稀釋後混合氣體的總設定流量以及稀釋後測定濃度，計算應該在稀釋氣體管線中流動的稀釋氣體的流量即稀釋氣體設定流量；第二閥控制部，其為了使稀釋氣體設定流量與流量感測器所測定的測定流量的偏差減小而控制第二閥的開度。

    简体摘要： 本发明提供一种气体控制系统，其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响，以预先设置的浓度或流量供给混合气体。气体控制系统包括：第一阀，其设置在载气管在线或设置在供气管在线；流量控制机构，其设于稀释气体管在线，具有流量传感器及第二阀；非接触式的第一浓度传感器；第一阀控制部；稀释气体设置流量计算部，其基于预先设置的稀释后混合气体的总设置流量以及稀释后测定浓度，计算应该在稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设置流量；第二阀控制部，其为了使稀释气体设置流量与流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制第二阀的开度。

    在線型濃度計及濃度檢測方法
    5.
    发明专利
    在線型濃度計及濃度檢測方法 审中-公开
    在线型浓度计及浓度检测方法

    公开(公告)号：TW201520532A

    公开(公告)日：2015-06-01

    申请号：TW103125860

    申请日：2014-07-29

    申请人： 國立大學法人德島大學 ,  THE UNIVERSITY OF TOKUSHIMA ,  富士金股份有限公司 ,  FUJIKIN INCORPORATED

    发明人： 出口祥啓 ,  DEGUCHI, YOSHIHIRO ,  永瀬正明 ,  NAGASE, MASAAKI ,  池田信一 ,  IKEDA, NOBUKAZU ,  山路道雄 ,  YAMAJI, MICHIO

    IPC分类号： G01N21/33

    CPC分类号： G01N21/5907 ,  G01N21/33 ,  G01N2021/3148 ,  G01N2021/5969 ,  G01N2021/8411 ,  G01N2021/8578 ,  G01N2201/0627 ,  G01N2201/0691

    摘要： 本發明係提供在有機原料流體的供給系等中使用之濃度計的構造的簡單化、小型化，謀求產品成本的降低，可高精度、高感度且進行再現性高的濃度測定的濃度計。 本發明係由以下構件所構成：光源部，係發出具有相位差之至少兩種波長的混成光；檢測部，係具備將來自光源部的混成光射入至檢測器本體之流體通路內的光射入部，及對透射流體通路內之混成光進行受光的至少兩個光檢測部；運算處理部，係對來自光檢測部之至少兩個波長的檢測訊號分別進行頻率解析，並且運算與在前述各檢測訊號的至少3個頻率區域之消光度對應的強度，並根據該各檢測訊號的至少3個頻率區域的消光度強度，運算流體通路內的流體濃度；及記錄顯示部，係記錄及顯示在運算處理部之流體濃度的運算值。

    简体摘要： 本发明系提供在有机原料流体的供给系等中使用之浓度计的构造的简单化、小型化，谋求产品成本的降低，可高精度、高感度且进行再现性高的浓度测定的浓度计。 本发明系由以下构件所构成：光源部，系发出具有相位差之至少两种波长的混成光；检测部，系具备将来自光源部的混成光射入至检测器本体之流体通路内的光射入部，及对透射流体通路内之混成光进行受光的至少两个光检测部；运算处理部，系对来自光检测部之至少两个波长的检测信号分别进行频率解析，并且运算与在前述各检测信号的至少3个频率区域之消光度对应的强度，并根据该各检测信号的至少3个频率区域的消光度强度，运算流体通路内的流体浓度；及记录显示部，系记录及显示在运算处理部之流体浓度的运算值。